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公开(公告)号：CN104969340B
公开(公告)日：2017-06-06
申请号：CN201380072416.8
申请日：2013-12-11
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
Inventor： 亚隆·P·威波 , 查理斯·T·卡尔森 , 威廉·T·维弗 , 克里斯多夫·N·葛兰特
IPC: H01L21/68
CPC classification number: H01L21/266 , H01L21/682
Abstract: 本发明提供一种掩模对准系统及掩膜对准方法。所述系统包含掩模框架，掩模框架具有松散地连接到掩模框架的多个离子注入掩模。掩模框架设有多个框架对准空腔，且每一掩模设有多个掩模对准空腔。所述系统还包含用于固持工件的压板。压板可设有多个掩模对准销和框架对准销，多个掩模对准销和多个框架对准销经配置以分别啮合掩模对准空腔和框架对准空腔。掩模框架可降低到压板上，其中框架对准空腔移动成与框架对准销对齐以在掩模与工件之间提供粗略对准。掩模对准空腔可接着移动成与掩模对准销对齐，进而将每一个别掩模移位成与相应工件精确对准。所述掩模对准系统及掩模对准方法用于在离子注入掩模与工件之间提供精确且可重复的对准。
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公开(公告)号：CN107078012A
公开(公告)日：2017-08-18
申请号：CN201580049321.3
申请日：2015-09-04
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
Inventor： 亚隆·P·威波 , 提摩西·J·米勒 , 泰美·州·普赖德 , 克里斯多夫·N·葛兰特 , 詹姆斯·D·史瑞斯奈 , 查理斯·T·卡尔森
IPC: H01J37/304 , H01J37/317 , H01L21/68
CPC classification number: H01L21/681 , C23C14/48 , G06K9/6202 , G06T7/001 , G06T7/74 , G06T2207/30148 , H01J37/20 , H01J37/22 , H01J37/3045 , H01J37/3171
Abstract: 本发明提供一种用于离子注入机的主动式衬底对准系统，衬底系统包含压板；对齐装置，其经调适以选择性地移动邻近于压板安置的衬底接合表面，用于限制安置在压板上的衬底的移动；相机，其经配置以在衬底安置在压板上之前获取衬底的图像；以及控制器，其与相机和对齐装置通信，控制器可以经配置以命令对齐装置基于图像移动衬底接合表面，以用预定的方式限制衬底的移动。
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公开(公告)号：CN104969340A
公开(公告)日：2015-10-07
申请号：CN201380072416.8
申请日：2013-12-11
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
Inventor： 亚隆·P·威波 , 查理斯·T·卡尔森 , 威廉·T·维弗 , 克里斯多夫·N·葛兰特
IPC: H01L21/68
CPC classification number: H01L21/266 , H01L21/682
Abstract: 一种用于在离子注入掩模与工件之间提供精确且可重复的对准的掩模对准系统。所述系统包含掩模框架，掩模框架具有松散地连接到掩模框架的多个离子注入掩模。掩模框架设有多个框架对准空腔，且每一掩模设有多个掩模对准空腔。所述系统还包含用于固持工件的压板。压板可设有多个掩模对准销和框架对准销，多个掩模对准销和多个框架对准销经配置以分别啮合掩模对准空腔和框架对准空腔。掩模框架可降低到压板上，其中框架对准空腔移动成与框架对准销对齐以在掩模与工件之间提供粗略对准。掩模对准空腔可接着移动成与掩模对准销对齐，进而将每一个别掩模移位成与相应工件精确对准。
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公开(公告)号：CN103988290B
公开(公告)日：2018-03-30
申请号：CN201280059757.7
申请日：2012-11-02
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
IPC: H01L21/677 , H01L21/67
CPC classification number: B65G49/00 , B65G47/918 , B65G49/061 , B65G2203/041 , H01L21/67213 , H01L21/67733 , H01L21/67736 , H01L21/67754
Abstract: 此工件处理系统的一实施例包括输送带与加载互锁区，第一交换机械臂在建造台与加载互锁区之间持有并传送工件，支架机械臂在每个输送带与第一交换机械臂之间传送工件。在一实例中，利用支架机械臂，将已加工工件从第一交换机械臂传送至第一输送带，并将未加工工件从第二输送带传送至第一交换机械臂。第二交换机械臂可与第一交换机械臂一起用来从加载互锁区负载并卸载工件。
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公开(公告)号：CN104798190A
公开(公告)日：2015-07-22
申请号：CN201380060451.8
申请日：2013-07-17
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
IPC: H01L21/673 , H01L21/687 , C23C14/04
CPC classification number: H01L21/67333 , C23C14/042 , C23C14/48 , C23C14/50 , H01L21/68728 , H01L21/68735 , H01L21/68778 , Y10T29/49899
Abstract: 揭示一种能够固持一个或一个以上工件的承载器。承载器包含沿着承载器中的每一单元的边定位的可移动突起。此承载器结合独立对准设备使用多步对准过程相对于若干对准销来对准相应单元内的每一工件，以保证单元中的工件的恰当定位。首先，使工件朝所述单元的一侧边移动。一旦工件已相对于此边对准，工件便接着朝邻近正交边移动，以使得工件与单元的两侧边对准。一旦对准，工件便由沿着每一单元的每一侧边定位的突起固持于适当位置。另外，对准销还用以对准相关联的罩幕，进而保证罩幕与工件恰当地对准。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107078012B
公开(公告)日：2019-01-22
申请号：CN201580049321.3
申请日：2015-09-04
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
Inventor： 亚隆·P·威波 , 提摩西·J·米勒 , 泰美·州·普赖德 , 克里斯多夫·N·葛兰特 , 詹姆斯·D·史瑞斯奈 , 查理斯·T·卡尔森
IPC: H01J37/304 , H01J37/317 , H01L21/68
Abstract: 本发明提供一种用于离子注入机的主动式衬底对准系统以及一种对准衬底的方法，衬底系统包含压板；对齐装置，其经调适以选择性地移动邻近于压板安置的衬底接合表面，用于限制安置在压板上的衬底的移动；相机，其经配置以在衬底安置在压板上之前获取衬底的图像；以及控制器，其与相机和对齐装置通信，控制器可以经配置以命令对齐装置基于图像移动衬底接合表面，以用预定的方式限制衬底的移动。本发明使用上述系统使衬底定向，以使得投射到衬底上的掺杂剂图案将置中于衬底上。
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公开(公告)号：CN104798190B
公开(公告)日：2017-04-05
申请号：CN201380060451.8
申请日：2013-07-17
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
IPC: H01L21/673 , H01L21/687 , C23C14/04
CPC classification number: H01L21/67333 , C23C14/042 , C23C14/48 , C23C14/50 , H01L21/68728 , H01L21/68735 , H01L21/68778 , Y10T29/49899
Abstract: 揭示一种固持工件用的系统和承载器及对准承载器内的工件的方法。揭示一种能够固持一个或一个以上工件的承载器。承载器包含沿着承载器中的每一单元的边定位的可移动突起。此承载器结合独立对准设备使用多步对准过程相对于若干对准销来对准相应单元内的每一工件，以保证单元中的工件的恰当定位。首先，使工件朝所述单元的一侧边移动。一旦工件已相对于此边对准，工件便接着朝邻近正交边移动，以使得工件与单元的两侧边对准。一旦对准，工件便由沿着每一单元的每一侧边定位的突起固持于适当位置。另外，对准销还用以对准相关联的罩幕，进而保证罩幕与工件恰当地对准。
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公开(公告)号：CN103988290A
公开(公告)日：2014-08-13
申请号：CN201280059757.7
申请日：2012-11-02
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
IPC: H01L21/677 , H01L21/67
CPC classification number: B65G49/00 , B65G47/918 , B65G49/061 , B65G2203/041 , H01L21/67213 , H01L21/67733 , H01L21/67736 , H01L21/67754
Abstract: 此工件处理系统的一实施例包括输送带与加载互锁区，第一交换机械臂在建造台与加载互锁区之间持有并传送工件，支架机械臂在每个输送带与第一交换机械臂之间传送工件。在一实例中，利用支架机械臂，将已加工工件从第一交换机械臂传送至第一输送带，并将未加工工件从第二输送带传送至第一交换机械臂。第二交换机械臂可与第一交换机械臂一起用来从加载互锁区负载并卸载工件。
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公开(公告)号：CN205595308U
公开(公告)日：2016-09-21
申请号：CN201490000909.0
申请日：2014-07-25
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
IPC: H01L21/265
CPC classification number: B32B37/18 , H01J2237/31711 , H01L21/266 , Y10T29/49895
Abstract: 本实用新型提供一种工件处理时所用的罩幕，其包括：图案平板，包括平面部分，所述平面部分包括形成工件处理时所用图案的连续开口；以及装配框，包括：外周缘，所述平面部分固定于所述外周缘上；以及对准突出部，包括一个或更多个活动接头，用于进行所述装配框与所述图案平板之间的对准；以及结构结合物，用以固定所述图案平板与所述装配框。本实用新型可制造成本较低的罩幕。
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公开(公告)号：CN205595318U
公开(公告)日：2016-09-21
申请号：CN201490000908.6
申请日：2014-07-25
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
Inventor： 亚隆·P·威波 , 查理斯·T·卡尔森 , 麦克·河南 , 陆伊基·G·亚玛多 , 克里斯多夫·尼尔·葛兰特 , 詹姆斯·D·史瑞斯奈
IPC: H01L21/68
CPC classification number: H01L21/682 , C23C14/04 , Y10T29/49895
Abstract: 本实用新型提供一种用于工件处理的系统。所述系统包括：罩幕框，包括其中具有开口的上部平板，以及将罩幕框支撑在工作表面上的两个或更多个的垂直侧壁；多个罩幕，每一个罩幕包括具有图案的中心部分，以及从中心部分的边缘延伸的一个或更多个突出部；固定器，穿过配置于一个或更多个突出部中的固定孔并连接至上部平板的底面，使得多个罩幕的每一个中心部分与上部平板中的个别开口对准；以及偏置元件，在上部平板的底面与每一个罩幕之间产生分离力。因此，本实用新型提供能够让多个罩幕对准至多个工件的系统，此对准可以快速而不昂贵的方式完成。
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