公开(公告)号：CN104969340B

公开(公告)日：2017-06-06

申请号：CN201380072416.8

申请日：2013-12-11

Applicant: 瓦里安半导体设备公司

Inventor： 亚隆·P·威波 ,  查理斯·T·卡尔森 ,  威廉·T·维弗 ,  克里斯多夫·N·葛兰特

IPC: H01L21/68

CPC classification number: H01L21/266 ,  H01L21/682

Abstract: 本发明提供一种掩模对准系统及掩膜对准方法。所述系统包含掩模框架，掩模框架具有松散地连接到掩模框架的多个离子注入掩模。掩模框架设有多个框架对准空腔，且每一掩模设有多个掩模对准空腔。所述系统还包含用于固持工件的压板。压板可设有多个掩模对准销和框架对准销，多个掩模对准销和多个框架对准销经配置以分别啮合掩模对准空腔和框架对准空腔。掩模框架可降低到压板上，其中框架对准空腔移动成与框架对准销对齐以在掩模与工件之间提供粗略对准。掩模对准空腔可接着移动成与掩模对准销对齐，进而将每一个别掩模移位成与相应工件精确对准。所述掩模对准系统及掩模对准方法用于在离子注入掩模与工件之间提供精确且可重复的对准。

公开(公告)号：CN107078012B

公开(公告)日：2019-01-22

申请号：CN201580049321.3

申请日：2015-09-04

Applicant: 瓦里安半导体设备公司

Inventor： 亚隆·P·威波 ,  提摩西·J·米勒 ,  泰美·州·普赖德 ,  克里斯多夫·N·葛兰特 ,  詹姆斯·D·史瑞斯奈 ,  查理斯·T·卡尔森

IPC: H01J37/304 ,  H01J37/317 ,  H01L21/68

Abstract: 本发明提供一种用于离子注入机的主动式衬底对准系统以及一种对准衬底的方法，衬底系统包含压板；对齐装置，其经调适以选择性地移动邻近于压板安置的衬底接合表面，用于限制安置在压板上的衬底的移动；相机，其经配置以在衬底安置在压板上之前获取衬底的图像；以及控制器，其与相机和对齐装置通信，控制器可以经配置以命令对齐装置基于图像移动衬底接合表面，以用预定的方式限制衬底的移动。本发明使用上述系统使衬底定向，以使得投射到衬底上的掺杂剂图案将置中于衬底上。

公开(公告)号：CN107078012A

公开(公告)日：2017-08-18

申请号：CN201580049321.3

申请日：2015-09-04

Applicant: 瓦里安半导体设备公司

Inventor： 亚隆·P·威波 ,  提摩西·J·米勒 ,  泰美·州·普赖德 ,  克里斯多夫·N·葛兰特 ,  詹姆斯·D·史瑞斯奈 ,  查理斯·T·卡尔森

IPC: H01J37/304 ,  H01J37/317 ,  H01L21/68

CPC classification number: H01L21/681 ,  C23C14/48 ,  G06K9/6202 ,  G06T7/001 ,  G06T7/74 ,  G06T2207/30148 ,  H01J37/20 ,  H01J37/22 ,  H01J37/3045 ,  H01J37/3171

Abstract: 本发明提供一种用于离子注入机的主动式衬底对准系统，衬底系统包含压板；对齐装置，其经调适以选择性地移动邻近于压板安置的衬底接合表面，用于限制安置在压板上的衬底的移动；相机，其经配置以在衬底安置在压板上之前获取衬底的图像；以及控制器，其与相机和对齐装置通信，控制器可以经配置以命令对齐装置基于图像移动衬底接合表面，以用预定的方式限制衬底的移动。

公开(公告)号：CN104969340A

公开(公告)日：2015-10-07

申请号：CN201380072416.8

申请日：2013-12-11

Applicant: 瓦里安半导体设备公司

Inventor： 亚隆·P·威波 ,  查理斯·T·卡尔森 ,  威廉·T·维弗 ,  克里斯多夫·N·葛兰特

IPC: H01L21/68

CPC classification number: H01L21/266 ,  H01L21/682

Abstract: 一种用于在离子注入掩模与工件之间提供精确且可重复的对准的掩模对准系统。所述系统包含掩模框架，掩模框架具有松散地连接到掩模框架的多个离子注入掩模。掩模框架设有多个框架对准空腔，且每一掩模设有多个掩模对准空腔。所述系统还包含用于固持工件的压板。压板可设有多个掩模对准销和框架对准销，多个掩模对准销和多个框架对准销经配置以分别啮合掩模对准空腔和框架对准空腔。掩模框架可降低到压板上，其中框架对准空腔移动成与框架对准销对齐以在掩模与工件之间提供粗略对准。掩模对准空腔可接着移动成与掩模对准销对齐，进而将每一个别掩模移位成与相应工件精确对准。