一种基于BP神经网络的硬质合金离散元参数标定方法

    公开(公告)号:CN119203428A

    公开(公告)日:2024-12-27

    申请号:CN202411697205.X

    申请日:2024-11-26

    Applicant: 湘潭大学

    Abstract: 本发明涉及机械加工技术领域,公开了一种基于BP神经网络的硬质合金离散元参数标定方法,包括如下步骤:根据物料物性参数构建离散元本构模型;设定待标定参数及范围;根据待标定参数及范围进行结合实验设计(DOE);将DOE结合实验设计结果作为输入数据导入离散元本构模型进行离散元模拟;获得足够的训练样本;数据建立训练集;得到待标定参数与离散元模拟的输出数据之间的近似模型;以实际力学性能为目标标定出待标参数,然后将模拟结果与物理测试结果进行比较。本发明的技术方案解决了现有硬质合金颗粒参数获取难度大、测量精度低的问题,为硬质合金颗粒数值模拟试验BPM粘结键参数确定提供有效技术手段。

    一种以质子为辐射源检测存储器单粒子扰动的测试方法

    公开(公告)号:CN108597557B

    公开(公告)日:2021-04-02

    申请号:CN201810317130.6

    申请日:2018-04-10

    Applicant: 湘潭大学

    Abstract: 本发明公开了一种以质子为辐射源检测存储器单粒子扰动的测试方法,包括以下步骤:选取存储器样品;对选取的存储器样品进行加电全参数测试,验证存储器样品的功能;在中高能质子加速器上选择具有一定能量以及注量率的质子束流;将存储器和电路板连接好,进行再一次加电测试;向所有的存储器中填入数据;从存储器中回读数据,待测试系统稳定时打开满足要求的质子束流,对单个存储器进行辐照;将后续的存储器依次移动至束流出束位置,更换质子束流的能量,直至将所有的能量点测完。本发明以质子为辐射源检测抗单粒子扰动的效果,相对于其他辐照源更加可靠和简便,并且在提高效率的同时保证了数据提取的准确性。

    一种确定FeRAM敏感参数的方法及装置

    公开(公告)号:CN108492847A

    公开(公告)日:2018-09-04

    申请号:CN201810255157.7

    申请日:2018-03-26

    Applicant: 湘潭大学

    Abstract: 本发明公开了一种确定FeRAM敏感参数的方法及装置,属于空间辐射损伤效应及抗辐射加固领域。该方法包括:从完成辐射的FeRAM内回读第一数据,并将所述回读数据与在辐射之前写入所述FeRAM内的第二数据进行匹配,将匹配合格的所述FeRAM确定为第一FeRAM;每到设定的辐射剂量点时,通过测试仪器获取所述第一FeRAM的DC参数和AC参数,通过QMU公式分别对所述DC参数和所述AC参数进行分析,当根据QMU公式确定的可信度比值小于1时,确定所述DC参数或所述AC参数内包括的一个参数失效。

    一种基于规整性碳纳米管条纹阵列的铁电场效应晶体管及其制备方法

    公开(公告)号:CN104009091A

    公开(公告)日:2014-08-27

    申请号:CN201410249488.1

    申请日:2014-06-06

    Applicant: 湘潭大学

    CPC classification number: H01L29/6684 B82Y10/00 H01L29/1033

    Abstract: 本发明公开了一种基于规整性碳纳米管条纹阵列的铁电场效应晶体管及其制备方法。该晶体管单元结构为:底层为底电极层(1);中间层依次为铁电薄膜绝缘栅层(2)和规整性碳纳米管条纹阵列沟道层(3),规整性碳纳米管条纹阵列沟道层(3)上为顶层,顶层为晶体管源极(4)和漏极(5);所述的碳纳米管为单壁碳纳米管、双壁碳纳米管或多壁碳纳米管。该铁电场效应晶体管开态电流大、开关比大、载流子迁移率高、开启电压小、存储窗口宽,同时具有结构简单、不需要缓冲层、铁电层和半导体层界面接触好、容易实现大面积及柔性器件的优势。所述的制备方法工艺简单、操作方便、不需要昂贵设备、成本低廉,易于大面积、规模化工业生产。

    一种SiGe HBT总剂量效应感生缺陷分布的检测方法

    公开(公告)号:CN116399946A

    公开(公告)日:2023-07-07

    申请号:CN202310201387.6

    申请日:2023-03-03

    Applicant: 湘潭大学

    Abstract: 本发明提出的一种SiGe HBT总剂量效应感生缺陷分布的检测方法,包括:在第一预设温度下,利用1/f噪声对待测SiGe HBT进行检测,获得第一1/f噪声参数;在第二预设温度下,利用1/f噪声对待测SiGe HBT进行检测,获得第一1/f噪声参数,第二预设温度低于第一预设温度且低于常温;在预设辐照条件和第一预设温度下,利用1/f噪声对待测SiGe HBT进行检测,获得第三1/f噪声参数;在预设辐照条件和第二预设温度下,利用1/f噪声对待测SiGe HBT进行检测,获得第四1/f噪声参数;根据第一1/f噪声参数、第二1/f噪声参数、第三1/f噪声参数及第四1/f噪声参数,确定低温条件下待测SiGe HBT中总剂量效应感生缺陷分布变化。

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