三维测量装置
    5.
    发明公开
    三维测量装置 审中-实审

    公开(公告)号:CN115388809A

    公开(公告)日:2022-11-25

    申请号:CN202211213682.5

    申请日:2021-02-18

    Abstract: 三维测量装置(101)具备:一个或多个光源部(102),其对被测量物(SA)照射具有规定图案的测量光(105);一个或多个摄像部(103),其对被照射了测量光(105)的被测量物(SA)进行摄像;测量部(104),其基于摄像部(103)的摄像结果测量被测量物(SA)的三维形状,光源部(102)由M点振荡的S-iPMSEL(1)构成。

    发光元件及发光装置
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112930631A

    公开(公告)日:2021-06-08

    申请号:CN201980069730.8

    申请日:2019-10-23

    Abstract: 本发明的一方式涉及具备形成共振模式的层的发光元件等。该发光元件具备基板和由半导体层叠体构成的结构体,半导体层叠体包含第一包覆层、第二包覆层、活性层及共振模式形成层。共振模式形成层包含基本层和多个不同折射率区域。在结构体的一个面,设置有激光输出区域,在另一个面设置有金属电极膜。金属电极膜包含相对于结构体构成欧姆接触的第一层、反射来自共振模式形成层的光的第二层、第三层、和焊料接合用的第四层。第三层具有与第二层及第四层的组成不同的组成,并且关于焊料材料的扩散程度,具有比第二层及第四层低的扩散程度。

    半导体激光元件及半导体激光元件阵列

    公开(公告)号:CN101019284A

    公开(公告)日:2007-08-15

    申请号:CN200580030931.5

    申请日:2005-09-13

    CPC classification number: H01S5/10 H01S5/0655 H01S5/101 H01S5/1085 H01S5/4031

    Abstract: 半导体激光元件(3)具有n型包层(13)、活性层(15)及p型包层(17)。p型包层(17)具有在活性层(15)中形成波导管(4)的脊形部(9)。波导管(4)沿着以大致一定的曲率(曲率半径R)弯曲的中心轴线(B)延伸。在这样的波导管(4)中,在波导管(4)内共振的光中的空间横向模式的次数越高的光损失就越大。因此,可以维持横向低次模式的激光振荡而抑制横向高次模式的激光振荡。由此实现了可以使较大强度的激光出射而抑制横向高次模式的半导体激光元件及半导体激光元件阵列。

    发光元件及发光装置
    8.
    发明授权

    公开(公告)号:CN112930631B

    公开(公告)日:2024-04-05

    申请号:CN201980069730.8

    申请日:2019-10-23

    Abstract: 本发明的一方式涉及具备形成共振模式的层的发光元件等。该发光元件具备基板和由半导体层叠体构成的结构体,半导体层叠体包含第一包覆层、第二包覆层、活性层及共振模式形成层。共振模式形成层包含基本层和多个不同折射率区域。在结构体的一个面,设置有激光输出区域,在另一个面设置有金属电极膜。金属电极膜包含相对于结构体构成欧姆接触的第一层、反射来自共振模式形成层的光的第二层、第三层、和焊料接合用的第四层。第三层具有与第二层及第四层的组成不同的组成,并且关于焊料材料的扩散程度,具有比第二层及第四层低的扩散程度。

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