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公开(公告)号：CN115578241A
公开(公告)日：2023-01-06
申请号：CN202211309625.7
申请日：2022-10-25
Applicant: 武汉科技大学
Abstract: 本发明属于图像加密技术领域，公开了一种图像双重加密方法、系统、计算机设备、介质及终端，包括：图像双重加密：包括初级加密和二级加密，通过将彩色原始图像o嵌入宿主图像h中，得到水印图像w进行初级加密；通过对水印图像w进行压缩感知加密得到密文图像c进行二级加密；所述压缩感知的密钥由原始图像和逻辑映射控制；图像双重解密：通过OMP重构算法从密文图像c中解密出重构图像r进行初级解密；通过从重构图像r中提取出解密图像d进行二级解密。本发明在压缩感知加密中的密钥由原始图像的RGB分量和逻辑映射控制，不同的原始图像产生不同的密钥。本发明提高了算法与原始图像的相关性，增大了密钥空间，可以有效抵抗各种攻击。
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公开(公告)号：CN112347527B
公开(公告)日：2022-06-03
申请号：CN202011236042.7
申请日：2020-11-09
Applicant: 武汉科技大学
Abstract: 本发明属于半导体制造的无图案硅片缺陷检测技术领域，公开了一种用于暗场缺陷检测的光罩掩模板图形设计方法，利用微粗糙度表面无颗粒散射模型计算表面无颗粒情况下的光散射信号；利用光滑表面颗粒散射模型计算表面有颗粒污染情况下的光散射信号；根据所得散射光强信号求取表面颗粒散射光与表面无颗粒散射光的信号对比度s；根据信号对比度s求取能用以分离颗粒散射光的透光区域；通过表面散射模型根据透光区域，设计适用的光罩掩模板图形，滤除无法区分颗粒散射信号的散射光。本发明优化了现有的暗场缺陷检测系统中收集散射光的方法，能有效地消除硅片表面由于自身粗糙度的存在在没有颗粒污染的情况下产生的少量的光散射信号。
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公开(公告)号：CN112347527A
公开(公告)日：2021-02-09
申请号：CN202011236042.7
申请日：2020-11-09
Applicant: 武汉科技大学
Abstract: 本发明属于半导体制造的无图案硅片缺陷检测技术领域，公开了一种用于暗场缺陷检测的光罩掩模板图形设计方法，利用微粗糙度表面无颗粒散射模型计算表面无颗粒情况下的光散射信号；利用光滑表面颗粒散射模型计算表面有颗粒污染情况下的光散射信号；根据所得散射光强信号求取表面颗粒散射光与表面无颗粒散射光的信号对比度s；根据信号对比度s求取能用以分离颗粒散射光的透光区域；通过表面散射模型根据透光区域，设计适用的光罩掩模板图形，滤除无法区分颗粒散射信号的散射光。本发明优化了现有的暗场缺陷检测系统中收集散射光的方法，能有效地消除硅片表面由于自身粗糙度的存在在没有颗粒污染的情况下产生的少量的光散射信号。
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公开(公告)号：CN112123164A
公开(公告)日：2020-12-25
申请号：CN201910556043.0
申请日：2019-06-25
Applicant: 武汉科技大学
Abstract: 本发明公开了抛光装置技术领域中一种模具自由曲面抛光装置，包括动力盒、第一电机和转动轴等，根据待抛光模具的表面弯曲程度，选择抛光球或抛光轮进行抛光操作，选择抛光球时，在毛毡套上添加抛光剂，操作者手握操作把手，打开第一开关，通过第一电机工作，带动转动轴转动，抛光球随之转动，抛光时，高速旋转的抛光球压向待抛光处，使抛光剂对待抛光处表面产生滚压和微量切削，从而获得平整光亮的抛光表面，抛光球自身弯曲程度较大，适合于弯曲程度较大处的抛光操作；选择抛光轮时，在毛毡层上添加抛光剂，打开第二开关，通过第二电机工作，可带动抛光轮转动，即可进行抛光操作，抛光轮适合于弯曲程度较小面积较大处的抛光。
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公开(公告)号：CN112123132A
公开(公告)日：2020-12-25
申请号：CN201910557134.6
申请日：2019-06-25
Applicant: 武汉科技大学
Abstract: 本发明公开了一种复杂曲面打磨抛光系统，包括支撑底座，所述支撑底座的上表面中部固定设置有打磨抛光机构，所述支撑底座的上表面且位于打磨抛光机构的外侧固定设置有传输机构，所述支撑底座的上表面右端前侧固定设置有第一支撑杆，所述第一支撑杆的上表面固定设置有电控箱，集工件夹持、传输、打磨和抛光于一体，操作方便，节省人力，提高加工效率，结构合理，实用性强。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107777244A
公开(公告)日：2018-03-09
申请号：CN201710852195.6
申请日：2017-09-20
Applicant: 武汉科技大学
IPC: B65G21/14
CPC classification number: B65G21/14
Abstract: 本发明涉及一种可伸缩式水平传送机器人，包括主体支架、传输平台、驱动电机和伸缩部件；所述传输平台包括固定传送台和伸缩传送台；述固定传送台包括滑槽、若干后传送组件和后导槽；伸缩传送台包括伸缩杆、若干前传送组件和前导槽,伸缩杆设置在滑槽内可相对滑槽滑动,相邻传送组件之间以及相邻前传送组件与后传送组件之间通过柔性连接件相连,前传送组件与后传送组件的上部传送平面在同一水平面上；伸缩部件一端与驱动电机相连固定于固定传送台上,另一端与伸缩传送台固定连接。
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公开(公告)号：CN107649308A
公开(公告)日：2018-02-02
申请号：CN201710854802.2
申请日：2017-09-20
Applicant: 武汉科技大学
CPC classification number: B05B13/005 , B05B13/0431 , B05B15/00
Abstract: 本发明涉及一种自动喷漆机器人，包括支架、电机和配电箱，支架上设有喷漆密封舱，喷漆密封舱内设有与木具生产线连接的传动链条，喷漆密封舱中安装有喷漆头和回收漆刮板，喷漆密封舱的上面设有油漆回收塔，油漆回收塔上设有排气筒，排气筒内安装有过滤器，喷漆密封舱的进口端设有带感应器的封门。从生产线上传送的木器接近封门时，通过感应打开封门进入喷漆密封舱，随着传动链条的传动木器在喷漆密封舱内喷漆，喷漆过程产生的雾状油漆进入排气筒，通过排气筒内的过滤器将油漆回收到回收塔，并由回收漆刮板回收油漆，不含油的气体从排气筒的出口经引风机排往高空。
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公开(公告)号：CN119962610A
公开(公告)日：2025-05-09
申请号：CN202510043104.9
申请日：2025-01-10
Applicant: 武汉科技大学
IPC: G06N3/084 , G06N3/094 , G06N3/0464 , G06N3/045 , G06N3/0475 , G06N3/067
Abstract: 本发明属于计算光刻技术领域，具体公开了一种生成EUV最优掩模的网络训练方法，将DUV掩模技术应用到EUV掩模的生成中，由DUV掩模生成模型生成的掩模在训练中引导生成器进行修正，使训练朝着优化的方向前进；在生成器中加入一个EUV掩模生成的补偿部分，以便实现最大限度的优化；将关键图形筛选技术同时运用到目标图像、EUV掩模和DUV掩模技术中，保证训练中全芯片掩模优化的速度和效果；本发明方法在CGAN的框架下，将DUV掩模生成模型生成的掩模作为训练时的附加信息，并在一般生成器的基础上增加一个EUV补偿部分，再经过鉴别器，训练得到一个能够生成EUV最优掩模的模型。
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公开(公告)号：CN119273557A
公开(公告)日：2025-01-07
申请号：CN202411329197.3
申请日：2024-09-24
Applicant: 武汉科技大学
Abstract: 本发明涉及军事目标信息图像融合处理技术领域，提出了基于二维离散波针对军事偏振图像的双频歧化解构法，包括如下步骤：步骤S1、图像获取；步骤S2、初步处理；步骤S3、偏振度融合；步骤S4、分解预处理；步骤S5、小波分解与重构：后对光强图像和偏振特征图像Dolp‑Aop分解得到的低频分量和高频分量采用特定的处理方式，得到最终的融合图像。通过对小波分解后得到的不同频段的小波分解系数采取不同的处理方法，分解得到的小波系数采用加权平均法进行处理，尽可能保留频率特点，反应图像本真的结构特征，保证了信息的融合后所得信息的真实准确。
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