公开(公告)号：CN115578241A

公开(公告)日：2023-01-06

申请号：CN202211309625.7

申请日：2022-10-25

Applicant: 武汉科技大学

Inventor： 许爽 ,  唐青 ,  柯友胜 ,  汤梦媛 ,  刘爽爽

IPC: G06T1/00 ,  G06F21/60 ,  H04L9/00

Abstract: 本发明属于图像加密技术领域，公开了一种图像双重加密方法、系统、计算机设备、介质及终端，包括：图像双重加密：包括初级加密和二级加密，通过将彩色原始图像o嵌入宿主图像h中，得到水印图像w进行初级加密；通过对水印图像w进行压缩感知加密得到密文图像c进行二级加密；所述压缩感知的密钥由原始图像和逻辑映射控制；图像双重解密：通过OMP重构算法从密文图像c中解密出重构图像r进行初级解密；通过从重构图像r中提取出解密图像d进行二级解密。本发明在压缩感知加密中的密钥由原始图像的RGB分量和逻辑映射控制，不同的原始图像产生不同的密钥。本发明提高了算法与原始图像的相关性，增大了密钥空间，可以有效抵抗各种攻击。

公开(公告)号：CN114326329A

公开(公告)日：2022-04-12

申请号：CN202210062320.4

申请日：2022-01-19

Applicant: 武汉科技大学

Inventor： 许爽 ,  肖再南 ,  唐青 ,  曹唯一 ,  陈志强 ,  李思萌 ,  林馨怡

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明公开了一种基于残差网络的光刻掩模优化方法，通过光刻逆向优化过程对残差网络进行训练，优化残差网络参数，随后将初始掩模图形输入网络，并将优化结果输入正向光刻模型，得到晶圆曝光图像。本发明方法通过对残差网络进行逆向优化训练，减少掩模优化迭代次数，大幅度提升深度网络准确率，避免了网络层数增加产生的梯度消失的问题，实现了对光刻生成图像的畸变校正。

公开(公告)号：CN114326329B

公开(公告)日：2024-07-30

申请号：CN202210062320.4

申请日：2022-01-19

Applicant: 武汉科技大学

Inventor： 许爽 ,  肖再南 ,  唐青 ,  曹唯一 ,  陈志强 ,  李思萌 ,  林馨怡

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明公开了一种基于残差网络的光刻掩模优化方法，通过光刻逆向优化过程对残差网络进行训练，优化残差网络参数，随后将初始掩模图形输入网络，并将优化结果输入正向光刻模型，得到晶圆曝光图像。本发明方法通过对残差网络进行逆向优化训练，减少掩模优化迭代次数，大幅度提升深度网络准确率，避免了网络层数增加产生的梯度消失的问题，实现了对光刻生成图像的畸变校正。