半导体装置及其制造方法

    公开(公告)号:CN107004662B

    公开(公告)日:2019-08-13

    申请号:CN201580066323.3

    申请日:2015-12-04

    Abstract: 半导体装置具备:半导体芯片(11、11H、11L),在一面(11a)具有电极(12);上述半导体芯片的一面侧的第1导电部件(23、23H、23L);金属部件(18、18H、18L),具有基材(19a)和被膜(19b),并夹设于上述半导体芯片与上述第1导电部件之间;上述半导体芯片的电极与上述金属部件之间的第1焊料(17);以及上述金属部件与上述第1导电部件之间的第2焊料(22)。上述被膜具有上述基材的表面上的金属薄膜(20)和凹凸氧化膜(21、31、32)。上述凹凸氧化膜在上述金属部件的表面中的、将上述第1焊料所连接的第1连接区域(18d)与上述第2焊料所连接的第2连接区域(18e)相连的连接区域(18f)的至少一部分,配置在上述金属薄膜上。

    半导体装置及其制造方法

    公开(公告)号:CN107004662A

    公开(公告)日:2017-08-01

    申请号:CN201580066323.3

    申请日:2015-12-04

    Abstract: 半导体装置具备:半导体芯片(11、11H、11L),在一面(11a)具有电极(12);上述半导体芯片的一面侧的第1导电部件(23、23H、23L);金属部件(18、18H、18L),具有基材(19a)和被膜(19b),并夹设于上述半导体芯片与上述第1导电部件之间;上述半导体芯片的电极与上述金属部件之间的第1焊料(17);以及上述金属部件与上述第1导电部件之间的第2焊料(22)。上述被膜具有上述基材的表面上的金属薄膜(20)和凹凸氧化膜(21、31、32)。上述凹凸氧化膜在上述金属部件的表面中的、将上述第1焊料所连接的第1连接区域(18d)与上述第2焊料所连接的第2连接区域(18e)相连的连接区域(18f)的至少一部分,配置在上述金属薄膜上。

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