公开(公告)号：CN1954428B

公开(公告)日：2010-09-29

申请号：CN200580015301.0

申请日：2005-05-09

Applicant: 株式会社瑞萨科技

Inventor： 松井裕一 ,  松崎望 ,  高浦则克 ,  山本直树 ,  松冈秀行 ,  岩崎富生

IPC: H01L27/10 ,  H01L45/00

CPC classification number: H01L45/06 ,  H01L27/2436 ,  H01L45/12 ,  H01L45/1233 ,  H01L45/1253 ,  H01L45/126 ,  H01L45/144 ,  H01L45/1675

Abstract: 硫属化物材料与高熔点金属或硅氧化物膜的接合性差，因此具有在相变存储器的制造工序中容易剥离的问题。另外，硫属化物材料热稳定性差，因此具有在相变存储器的制造工序中容易升华的问题。在硫属化物材料层的上部和下部形成导电性或绝缘性的接合层，使剥离强度提高。另外，在硫属化物材料层的侧壁形成由氮化膜构成的保护膜来抑制升华。

公开(公告)号：CN1954428A

公开(公告)日：2007-04-25

申请号：CN200580015301.0

申请日：2005-05-09

Applicant: 株式会社瑞萨科技

Inventor： 松井裕一 ,  松崎望 ,  高浦则克 ,  山本直树 ,  松冈秀行 ,  岩崎富生

IPC: H01L27/10 ,  H01L45/00

CPC classification number: H01L45/06 ,  H01L27/2436 ,  H01L45/12 ,  H01L45/1233 ,  H01L45/1253 ,  H01L45/126 ,  H01L45/144 ,  H01L45/1675

Abstract: 硫属化物材料与高熔点金属或硅氧化物膜的接合性差，因此具有在相变存储器的制造工序中容易剥离的问题。另外，硫属化物材料热稳定性差，因此具有在相变存储器的制造工序中容易升华的问题。在硫属化物材料层的上部和下部形成导电性或绝缘性的接合层，使剥离强度提高。另外，在硫属化物材料层的侧壁形成由氮化膜构成的保护膜来抑制升华。

公开(公告)号：CN1624803A

公开(公告)日：2005-06-08

申请号：CN200410098334.3

申请日：2004-12-03

Applicant: 株式会社瑞萨科技

Inventor： 黑土健三 ,  高浦则克 ,  外村修 ,  竹村理一郎 ,  寺尾元康 ,  松冈秀行

IPC: G11C13/00 ,  G11C17/00

CPC classification number: G11C11/56 ,  G11C11/5678 ,  G11C13/0004 ,  G11C13/003 ,  G11C13/004 ,  G11C13/0069 ,  G11C2013/0054 ,  G11C2013/0071 ,  G11C2013/0078 ,  G11C2013/009 ,  G11C2213/76 ,  G11C2213/79

Abstract: 在非易失性相变存储器中，利用相变部的电阻变化来记录信息。如果使相变部发生焦耳热并保持为特定的温度，则成为低电阻状态，但如果此时使用恒定电压源，则由于在相变部的低电阻化的同时流过大电流，故试样被过热，成为高电阻状态。为此，难以稳定地进行相变部的低电阻化。解决方法是，控制存储单元选择用晶体管QM(MISFET)的栅电压，通过在成为低电阻状态时施加中间状态的电压来限制对试样施加的最大电流。