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公开(公告)号:CN1926762A
公开(公告)日:2007-03-07
申请号:CN200580006792.2
申请日:2005-02-23
Applicant: 株式会社村田制作所
CPC classification number: H03H3/08 , H03H9/02984 , H03H9/14538 , H03H9/25
Abstract: 一种表面声波装置,使得可以容易调节共振频率和中心频率,频率-温度性质优良,比例带宽宽,并且反共振阻抗高。该表面声波装置包括机电系数为15%或更高的LiTaO3或LiNbO3的压电基板(1);至少一个电极,所述电极形成在压电基板(1)上并且是层压薄膜,所述层压薄膜具有由密度大于Al的金属或主要由该金属构成的合金的金属层作为主金属层,和层压在主金属层上由另一金属构成的金属层;和第一SiO2层(2),该层形成在除形成所述至少一个电极的区域以外的剩余区域中,并且具有约等于电极厚度的厚度。上述表面声波装置还包含密度为第一SiO2层(2)密度的1.5倍或更高并且覆盖所述电极和第一SiO2层(2)的第二SiO2层(6),和形成在第二SiO2层(6)上的氮化硅化合物层(22)。
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公开(公告)号:CN119487983A
公开(公告)日:2025-02-18
申请号:CN202380049456.4
申请日:2023-05-18
Applicant: 株式会社村田制作所
Abstract: 多个导体层包含具有位于多个绝缘体层中的位于最靠Z轴的正方向的绝缘体层的正主面的安装电极的第1导体层。一个以上的第1层间连接导体将位于第1绝缘体层的所述正主面以及所述负主面的两个导体层连接。第1层间连接导体包含第1区域和第2区域,第2区域具有比第1区域的导热率低的导热率,并且位于比第1区域靠Z轴的负方向。在Z轴方向上观察,作为一个以上的第1层间连接导体中的至少一个的大面积第1层间连接导体的面积比第2层间连接导体的面积大。
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公开(公告)号:CN100563100C
公开(公告)日:2009-11-25
申请号:CN200580006792.2
申请日:2005-02-23
Applicant: 株式会社村田制作所
CPC classification number: H03H3/08 , H03H9/02984 , H03H9/14538 , H03H9/25
Abstract: 一种表面声波装置,使得可以容易调节共振频率和中心频率,频率-温度性质优良,比例带宽宽,并且反共振阻抗高。该表面声波装置包括机电系数为15%或更高的LiTaO3或LiNbO3的压电基板(1);至少一个电极,所述电极形成在压电基板(1)上并且是层压薄膜,所述层压薄膜具有由密度大于Al的金属或主要由该金属构成的合金的金属层作为主金属层,和层压在主金属层上由另一金属构成的金属层;和第一SiO2层(2),该层形成在除形成所述至少一个电极的区域以外的剩余区域中,并且具有约等于电极厚度的厚度。上述表面声波装置还包含密度为第一SiO2层(2)密度的1.5倍或更高并且覆盖所述电极和第一SiO2层(2)的第二SiO2层(6),和形成在第二SiO2层(6)上的氮化硅化合物层(22)。
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公开(公告)号:CN119096356A
公开(公告)日:2024-12-06
申请号:CN202380039154.9
申请日:2023-05-18
Applicant: 株式会社村田制作所
Abstract: 安装电极位于多个树脂层中的位于最靠Z轴的正方向的位置的树脂层的正主面。在Z轴方向上观察,内部导体层与所述安装电极重叠。第1层间连接导体的Z轴的正方向上的端与所述安装电极接触。所述第1层间连接导体的Z轴的负方向上的端与内部导体层接触。物品具备与所述安装电极接合的连接构件。所述第1层间连接导体包含第1区域以及第2区域。所述第1区域以及所述第2区域朝向Z轴的负方向依次排列。所述第1区域的材料与所述安装电极的材料相同。所述第2区域的杨氏模量比所述第1区域的杨氏模量低。
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公开(公告)号:CN1277352C
公开(公告)日:2006-09-27
申请号:CN03128667.4
申请日:2003-04-09
Applicant: 株式会社村田制作所
CPC classification number: H03H3/08 , H01L41/29 , H03H9/64 , Y10T29/42 , Y10T29/49005 , Y10T29/49128 , Y10T29/49155 , Y10T29/49156
Abstract: 提供一种电子部件的制造方法,该制造方法不需要特别的装置,且不需要昂贵的气体,该电子部件具有电阻率小且膜硬度高及弯曲少的由α相钨构成的电极膜。该电子部件的制造方法包括:在100~300℃的基板温度下,由溅射法在基板上形成由α相钨构成的电极膜的电极膜形成工序;加工该电极膜成所希望的形状的工序;热处理电极膜的工序。
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公开(公告)号:CN1450718A
公开(公告)日:2003-10-22
申请号:CN03128667.4
申请日:2003-04-09
Applicant: 株式会社村田制作所
CPC classification number: H03H3/08 , H01L41/29 , H03H9/64 , Y10T29/42 , Y10T29/49005 , Y10T29/49128 , Y10T29/49155 , Y10T29/49156
Abstract: 提供一种电子部件的制造方法,该制造方法不需要特别的装置,且不需要昂贵的气体,该电子部件具有电阻率小且膜硬度高及弯曲少的由α相钨构成的电极膜。该电子部件的制造方法包括:在100~300℃的基板温度下,由溅射法在基板上形成由α相钨构成的电极膜的电极膜形成工序;加工该电极膜成所希望的形状的工序;热处理电极膜的工序。
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公开(公告)号:CN220915521U
公开(公告)日:2024-05-07
申请号:CN202290000285.7
申请日:2022-03-09
Applicant: 株式会社村田制作所
Abstract: 提供一种布线基板及层叠基板,布线基板(1)是包括绝缘层(10)和形成于绝缘层(10)的一个主面(10a)的导体层(20)的布线基板(1),绝缘层(10)具有以导体层(20)为底且朝向绝缘层(10)的另一个主面(10b)开口的孔(80),在孔(80)中,设置有与导体层(20)连接的第一过孔部(30)以及与第一过孔部(30)连接的第二过孔部(40),第一过孔部(30)包括导电性构件,不包括树脂构件,第一过孔部(30)具有第一过孔部(30)的第二过孔部(40)侧的端面朝向第二过孔部(40)突出的突出部(35),第二过孔部的一部分(40a)延伸至第一过孔部(30)的突出部(35)与绝缘层(10)之间,并且不与连接到第一过孔部(30)的导体层(20)相接。
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