公开(公告)号：CN1015033B

公开(公告)日：1991-12-04

申请号：CN88100501

申请日：1988-01-30

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 长谷川晴弘 ,  川辺潮 ,  樽谷良倍 ,  深泽德海 ,  会田敏之 ,  高木一正

IPC: H01B12/00

CPC classification number: H01L39/2419 ,  C04B35/4504 ,  H01L39/126 ,  Y10S505/729

Abstract: 一种具有高临界温度Tc的改进了的氧化物超导体，包括一种具有类钙钛矿晶体结构的K2NiF4晶体结构的氧化物，其结构由下式表示：(BaxSrzLa1-x-z)2Cu1-wAgwO4(1-y)其中，X≥0，Z≥0，0.1＜X+Z＜0.3，W＝0。以及0≤Y＜1；或0≤X≤1，0≤Z＜1，0＜W＜1和0≤Y＜1，0≤X+Z＜1。

公开(公告)号：CN1038539A

公开(公告)日：1990-01-03

申请号：CN89103433.1

申请日：1989-05-25

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 长谷川晴弘 ,  川辺潮 ,  樽各良倍 ,  深泽德海 ,  会田敏之 ,  高木一正

IPC: H01B12/00 ,  H01L39/12 ,  C04B35/00

CPC classification number: Y02E40/64

Abstract: 一种至少具有CuO6八面体的CuO5五面体中之一的氧化物超导体，其中A3Cu3O7型氧化物超导体中包含Na，K，Rb，Cs或F原子。可利用助熔剂法制备复合氧化物超导体的单晶。

公开(公告)号：CN88100501A

公开(公告)日：1988-08-10

申请号：CN88100501

申请日：1988-01-30

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 长谷川晴弘 ,  川辺潮 ,  樽谷良倍 ,  深泽德海 ,  会田敏之 ,  高木一正

IPC: H01B12/00 ,  H01L39/24

CPC classification number: H01L39/2419 ,  C04B35/4504 ,  H01L39/126 ,  Y10S505/729

Abstract: 一种高临界温度氧化物超导体，包括具有类钙钛矿晶体结构的K2NiF4晶体结构的氧化物，并由下式表示：(BaXSrzLa1-x-z)2Cu1-wAgwO4(1-y)其中0.1＜x+z＜0.3，W＝0，y≥0；或0≤x＜1，0≤z1，0＜w＜1，y≥0。一种至少具有CuO6八面体的CuO5五面体中之一的氧化物超导体，其中A3Cu3O7型氧化物超导体中包含Na，K，Rb，Cs或F原子。可利用助熔剂法制备复合氧化物超导体的单晶。

公开(公告)号：CN1229524A

公开(公告)日：1999-09-22

申请号：CN96180439.4

申请日：1996-08-07

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 平谷正彦 ,  栉田惠子 ,  鸟居和功 ,  三木浩史 ,  松井裕一 ,  藤崎芳久 ,  今川一重 ,  高木一正

IPC: H01L21/8242 ,  H01L27/108

Abstract: 将氧化物介质用于电容器的半导体器件的制造方法,抑制电容器下电极界面处的氧化。该氧化物介质电容器由下电极层11、位于下电极层11上的氧化物介质层16、和位于氧化物介质层16上的上电极层17构成。下电极层11包括双层导电氧化物层12。相邻的两层14和15按相同结晶结构用相同元素构成。靠近衬底10侧的层14包括不充足的氧,所以可以防止与层14相邻的下电极层的单元13及其界面的氧化,从而确保其间的适当电连接。

公开(公告)号：CN1016020B

公开(公告)日：1992-03-25

申请号：CN89103433.1

申请日：1988-01-30

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 长谷川晴弘 ,  川辺潮 ,  樽各良倍 ,  深泽德海 ,  会田敏之 ,  高木一正

IPC: H01B12/00 ,  C04B35/00

CPC classification number: Y02E40/64

Abstract: 一种经改进后具备高临界电流密度的氧化物超导体，包括一种具有类钙钛矿晶体结构的氧化物，其结构为含有Na、K、Rb、Cs或F中的一种原子的LnBa2Cu3O7，其中Ln包括选自Y、La、Nd、Sm、Eu、Gd、Dy、Ho、Er、Tm和Yb中的一种原子。

公开(公告)号：CN1013158B

公开(公告)日：1991-07-10

申请号：CN89103432.3

申请日：1988-01-30

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 长谷川晴弘 ,  川辺潮 ,  樽谷良倍 ,  深泽德海 ,  会田敏之 ,  高木一正

IPC: H01B12/00 ,  C30B9/00 ,  H01L39/24

CPC classification number: Y02E40/64

Abstract: 一种用助熔剂制备复合氧化物超导体单晶的方法，所用原材料为La-M-Cu氧化物系或Y-M-Cu氧化物系(M为Sr、Ba或Ca)的复合氧化物多晶或化学计量成分比与所述复合氧化物的组成成分相似的混合物作原材料，所用助熔剂为CuO。

公开(公告)号：CN1038719A

公开(公告)日：1990-01-10

申请号：CN89103432.3

申请日：1989-05-25

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 长谷川晴弘 ,  川辺潮 ,  樽谷良倍 ,  深泽德海 ,  会田敏之 ,  高木一正

IPC: H01B12/00 ,  H01L39/24

CPC classification number: Y02E40/64

Abstract: 一种优于常规的熔融方法的氧化物超导体的制备方法。用从La-M-Cu氧化物系或Y-M-Cu氧化物系的多晶中选出的至少一种成分制备原材料，用熔点低于CuO的材料作助熔剂溶解上述原材料，由上述饱和助熔剂溶液生长复合氧化物的单晶。用这种方法能得到尺寸合适的基本没有晶格紊乱和内应变的单晶和单晶薄膜。