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公开(公告)号:CN1155070C
公开(公告)日:2004-06-23
申请号:CN99804201.3
申请日:1999-03-18
Applicant: 株式会社日立制作所
CPC classification number: G01R1/07314 , G01R1/06744 , G01R3/00 , G01R31/2863
Abstract: 用于制造半导体器件的工艺过程包括为了以大范围一次全部的方式测试被测物中的导电焊接点把具有数量与被测物中的测试目标区域上形成测试目标导电体的数量相等的电学上独立的凸出部的测试装置主体部分压向被测物的电特性测试步骤。
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公开(公告)号:CN1248792A
公开(公告)日:2000-03-29
申请号:CN99120217.1
申请日:1999-09-17
Applicant: 株式会社日立制作所
IPC: H01L21/822 , H01L21/66 , H01L21/68
CPC classification number: H01L21/6836 , H01L22/20 , H01L2221/68327 , H01L2924/0002 , H01L2924/014 , H01L2924/00
Abstract: 半导体器件的制造方法、有效检查由切割分离的分立LSI芯片的半导体器件的检查方法以及在所述方法中使用的夹具。从半导体晶片上切割大量的LSI芯片之后,在检查步骤中,使用由热膨胀系数近似等于LSI芯片的材料形成的所述夹具重新排列和集成预定数量的芯片,在随后的检查步骤中,对集成的预定数量的芯片进行预定的检查工艺,由此可以提高检查效率并减少检查成本。
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公开(公告)号:CN1299344C
公开(公告)日:2007-02-07
申请号:CN200410042010.8
申请日:1999-03-18
Applicant: 株式会社日立制作所
CPC classification number: G01R1/07314 , G01R1/06744 , G01R3/00 , G01R31/2863
Abstract: 一种半导体器件的测试设备,包括:设在第一平片部分上且形成在所述第一平片部分一主表面上的凸出部,用于与被测半导体器件的电极相连;在与所述主表面相反的表面上设置的焊接点;和电连接所述凸出部和所述焊接点的导电部件,其中,所述第一平片部分上形成有凸出部的区域比其它区域易于变形,并且,其中,形成有所述凸出部的区域的第一平片部分厚度比其它区域的第一平片部分厚度薄。
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公开(公告)号:CN1345086A
公开(公告)日:2002-04-17
申请号:CN01135367.8
申请日:2001-09-30
Applicant: 株式会社日立制作所
CPC classification number: G01R31/2831
Abstract: 本发明提供了一种半导体集成电路器件的测试设备和制造方法,在晶片级老化测试过程中,通过设置分割的接触器均衡接触到晶片的整个表面、使得可以对各接触器进行维修以及提高接触器的生产率,该方法可以降低制造成本。测试设备中机械加压系统的盒式结构的构成包括:多个分割的硅接触器块和用于集成这些硅接触器块的导架,并且盒式结构采用了分割的接触器集成型的晶片整个表面同步接触系统。因此,通过用机械方法压可以独立运动的各硅接触器块,可以均衡设置硅接触器的各探针以预定压力与测试晶片的各芯片的各测试用焊盘接触,将测试控制信号送到各芯片并且对于晶片级老化测试过程可以获得此测试结果信号。
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公开(公告)号:CN1207767C
公开(公告)日:2005-06-22
申请号:CN99120217.1
申请日:1999-09-17
Applicant: 株式会社日立制作所
IPC: H01L21/66 , H01L21/68 , H01L21/822
CPC classification number: H01L21/6836 , H01L22/20 , H01L2221/68327 , H01L2924/0002 , H01L2924/014 , H01L2924/00
Abstract: 半导体器件的制造方法、有效检查由切割分离的分立LSI芯片的半导体器件的检查方法以及在所述方法中使用的夹具。从半导体晶片上切割大量的LSI芯片之后,在检查步骤中,使用由热膨胀系数近似等于LSI芯片的材料形成的所述夹具重新排列和集成预定数量的芯片,在随后的检查步骤中,对集成的预定数量的芯片进行预定的检查工艺,由此可以提高检查效率并减少检查成本。
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公开(公告)号:CN1538515A
公开(公告)日:2004-10-20
申请号:CN200410042010.8
申请日:1999-03-18
Applicant: 株式会社日立制作所
CPC classification number: G01R1/07314 , G01R1/06744 , G01R3/00 , G01R31/2863
Abstract: 用于制造半导体器件的工艺过程包括为了以大范围一次全部的方式测试被测物中的导电焊接点把具有数量与被测物中的测试目标区域上形成测试目标导电体的数量相等的电学上独立的凸出部的测试装置主体部分压向被测物的电特性测试步骤。
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公开(公告)号:CN1293824A
公开(公告)日:2001-05-02
申请号:CN99804201.3
申请日:1999-03-18
Applicant: 株式会社日立制作所
IPC: H01L21/66
CPC classification number: G01R1/07314 , G01R1/06744 , G01R3/00 , G01R31/2863
Abstract: 用于制造半导体器件的工艺过程包括为了以大范围一次全部的方式测试被测物中的导电焊接点把具有数量与被测物中的测试目标区域上形成测试目标导电体的数量相等的电学上独立的凸出部的测试装置主体部分压向被测物的电特性测试步骤。
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