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公开(公告)号：CN113614886A
公开(公告)日：2021-11-05
申请号：CN202080021193.2
申请日：2020-01-21
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/304 , H01L21/306
Abstract: 处理条件选择方法包括步骤(S21)以及步骤(S22)。在步骤(S21)中，比较表示在对象物的多个测定位置分别测定出的多个厚度的分布的厚度图案(TM)与预先存储的多个参照图案(RP)，根据规定规则从多个参照图案(RP)中确定与厚度图案(RM)相关度高的参照图案(RP)。在步骤(S22)中，取得与多个参照图案(RP)分别相关联的多个参照处理条件中的、与所确定的参照图案(RP)相关联的参照处理条件而作为对象物的处理条件。多个参照图案(RP)分别表示参照对象物的物理量的分布。多个参照处理条件分别表示过去对具有参照图案(RP)的参照对象物执行了处理时的处理条件。
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公开(公告)号：CN113614886B
公开(公告)日：2024-10-29
申请号：CN202080021193.2
申请日：2020-01-21
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/304 , H01L21/306
Abstract: 处理条件选择方法包括步骤(S21)以及步骤(S22)。在步骤(S21)中，比较表示在对象物的多个测定位置分别测定出的多个厚度的分布的厚度图案(TM)与预先存储的多个参照图案(RP)，根据规定规则从多个参照图案(RP)中确定与厚度图案(RM)相关度高的参照图案(RP)。在步骤(S22)中，取得与多个参照图案(RP)分别相关联的多个参照处理条件中的、与所确定的参照图案(RP)相关联的参照处理条件而作为对象物的处理条件。多个参照图案(RP)分别表示参照对象物的物理量的分布。多个参照处理条件分别表示过去对具有参照图案(RP)的参照对象物执行了处理时的处理条件。
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公开(公告)号：CN113892167A
公开(公告)日：2022-01-04
申请号：CN202080039628.6
申请日：2020-03-30
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/304 , H01L21/306
Abstract: 使中央部由旋转卡盘5支承的衬底W绕旋转轴线A1旋转。在外周部蚀刻工序中，从处理液喷嘴6的排出口6a向设置于旋转的衬底W的上表面外周部102的着液位置105排出蚀刻液。在外周部蚀刻工序中，监视上表面外周部102的高度(上表面外周部102的高度应变HD)，基于求出的上表面外周部102的高度应变HD使着液位置105在径向RD上移动(高度应变监视工序(S6)&着液位置移动工序(S7))。由此，由被供给到着液位置105的蚀刻液形成的液膜LF的内周位置LFa被调整为接近期望位置。
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公开(公告)号：CN110692122B
公开(公告)日：2023-06-16
申请号：CN201880027510.4
申请日：2018-04-17
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/304 , H01L21/027
Abstract: 基板处理方法包含有：液体喷出步骤，从喷嘴朝在腔室内被基板保持单元保持的基板的主面中的规定的供给区域喷出液体；加湿气体供给步骤，为了去除在所述基板上带有的电荷而对所述基板的主面供给比所述腔室内的湿度还高的湿度的加湿气体；以及旋转干燥步骤，在所述液体喷出步骤之后，使所述基板绕着规定的旋转轴线旋转并甩离所述基板的主面的液体成分。所述加湿气体供给步骤从所述液体喷出步骤开始前开始，在所述液体喷出步骤的开始之后且在所述旋转干燥步骤之前的规定的结束时机结束。
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公开(公告)号：CN110692122A
公开(公告)日：2020-01-14
申请号：CN201880027510.4
申请日：2018-04-17
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/304 , H01L21/027
Abstract: 基板处理方法包含有：液体喷出步骤，从喷嘴朝在腔室内被基板保持单元保持的基板的主面中的规定的供给区域喷出液体；加湿气体供给步骤，为了去除在所述基板上带有的电荷而对所述基板的主面供给比所述腔室内的湿度还高的湿度的加湿气体；以及旋转干燥步骤，在所述液体喷出步骤之后，使所述基板绕着规定的旋转轴线旋转并甩离所述基板的主面的液体成分。所述加湿气体供给步骤从所述液体喷出步骤开始前开始，在所述液体喷出步骤的开始之后且在所述旋转干燥步骤之前的规定的结束时机结束。
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