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公开(公告)号:CN113614886B
公开(公告)日:2024-10-29
申请号:CN202080021193.2
申请日:2020-01-21
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/304 , H01L21/306
Abstract: 处理条件选择方法包括步骤(S21)以及步骤(S22)。在步骤(S21)中,比较表示在对象物的多个测定位置分别测定出的多个厚度的分布的厚度图案(TM)与预先存储的多个参照图案(RP),根据规定规则从多个参照图案(RP)中确定与厚度图案(RM)相关度高的参照图案(RP)。在步骤(S22)中,取得与多个参照图案(RP)分别相关联的多个参照处理条件中的、与所确定的参照图案(RP)相关联的参照处理条件而作为对象物的处理条件。多个参照图案(RP)分别表示参照对象物的物理量的分布。多个参照处理条件分别表示过去对具有参照图案(RP)的参照对象物执行了处理时的处理条件。
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公开(公告)号:CN112400214B
公开(公告)日:2024-08-20
申请号:CN201980045760.5
申请日:2019-09-03
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/02 , H01L21/304 , H01L21/306
Abstract: 本发明的目的在于提升基板处理装置以及基板处理系统的各个处理单元中的处理的精度。基板处理装置具有多个处理单元、搬运单元、多个传感器部、存储部以及一个以上的控制单元。多个处理单元根据规定处理的条件的规程对基板实施处理。搬运单元将一组基板中的多个基板依次搬运至多个处理单元。多个传感器部取得关于各个处理单元的基板处理的状况的一种以上的指标相关的信号。存储部基于多个传感器部所取得的信号,存储关于各个处理单元的基板处理的状况的一种以上的指标相关的数据组。一个以上的控制单元针对使用一个以上的处理单元对一组基板中的至少一片以上的基板进行的处理,基于数据组修正规程的至少一部分。
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公开(公告)号:CN117981058A
公开(公告)日:2024-05-03
申请号:CN202280061923.0
申请日:2022-09-12
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/306 , H01L21/304
Abstract: 本发明的基板处理装置(100)具有基板保持部(120)、处理液供给部(130)、成分存在量测定部(140)以及控制部(22)。控制部(22)包括:时间变化获取部(22b),基于在处理液供给部(130)向基板(W)供给处理液的期间由成分存在量测定部(140)测定出的基板(W)的特定成分的存在量,获取特定成分的存在量的时间变化;以及处理条件变更部(22c),基于通过向学习完成模型(LM)输入表示时间变化获取部(22b)获取的特定成分的存在量的时间变化的输入信息而获得的输出信息,在停止供给处理液之前变更用于处理基板的基板处理条件,所述学习完成模型(LM)通过对将对于学习对象基板的处理条件以及处理结果建立关联的学习用数据进行机械学习而构建。
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公开(公告)号:CN113614886A
公开(公告)日:2021-11-05
申请号:CN202080021193.2
申请日:2020-01-21
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/304 , H01L21/306
Abstract: 处理条件选择方法包括步骤(S21)以及步骤(S22)。在步骤(S21)中,比较表示在对象物的多个测定位置分别测定出的多个厚度的分布的厚度图案(TM)与预先存储的多个参照图案(RP),根据规定规则从多个参照图案(RP)中确定与厚度图案(RM)相关度高的参照图案(RP)。在步骤(S22)中,取得与多个参照图案(RP)分别相关联的多个参照处理条件中的、与所确定的参照图案(RP)相关联的参照处理条件而作为对象物的处理条件。多个参照图案(RP)分别表示参照对象物的物理量的分布。多个参照处理条件分别表示过去对具有参照图案(RP)的参照对象物执行了处理时的处理条件。
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公开(公告)号:CN119965129A
公开(公告)日:2025-05-09
申请号:CN202510152798.X
申请日:2019-09-06
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明的目的在于,减少在进行基板处理的装置、系统以及方法中使用的数据量。为了达到上述目的,基板处理装置具有:一个以上的处理单元,对基板分别进行处理;以及一个以上的运算处理部。一个以上的运算处理部通过使用以分别规定与在一个以上的处理单元中对基板实施的处理相关的处理的条件的多个处理规程中的两个以上的处理规程组合,来制作用以规定关于基板的一连串的处理的流程的流程规程。多个处理规程包括分别规定使用处理液对基板实施的处理的条件的多个液体处理规程。
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公开(公告)号:CN118969676A
公开(公告)日:2024-11-15
申请号:CN202411047290.5
申请日:2019-09-03
Applicant: 株式会社斯库林集团
Abstract: 本发明的目的在于提升基板处理装置以及基板处理系统的各个处理单元中的处理的精度。基板处理装置具有多个处理单元、搬运单元、多个传感器部、存储部以及一个以上的控制单元。多个处理单元根据规定处理的条件的规程对基板实施处理。搬运单元将一组基板中的多个基板依次搬运至多个处理单元。多个传感器部取得关于各个处理单元的基板处理的状况的一种以上的指标相关的信号。存储部基于多个传感器部所取得的信号,存储关于各个处理单元的基板处理的状况的一种以上的指标相关的数据组。一个以上的控制单元针对使用一个以上的处理单元对一组基板中的至少一片以上的基板进行的处理,基于数据组修正规程的至少一部分。
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公开(公告)号:CN112400214A
公开(公告)日:2021-02-23
申请号:CN201980045760.5
申请日:2019-09-03
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/02 , H01L21/304 , H01L21/306
Abstract: 本发明的目的在于提升基板处理装置以及基板处理系统的各个处理单元中的处理的精度。基板处理装置具有多个处理单元、搬运单元、多个传感器部、存储部以及一个以上的控制单元。多个处理单元根据规定处理的条件的规程对基板实施处理。搬运单元将一组基板中的多个基板依次搬运至多个处理单元。多个传感器部取得关于各个处理单元的基板处理的状况的一种以上的指标相关的信号。存储部基于多个传感器部所取得的信号,存储关于各个处理单元的基板处理的状况的一种以上的指标相关的数据组。一个以上的控制单元针对使用一个以上的处理单元对一组基板中的至少一片以上的基板进行的处理,基于数据组修正规程的至少一部分。
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公开(公告)号:CN112655073B
公开(公告)日:2025-02-25
申请号:CN201980058138.8
申请日:2019-09-06
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/02 , H01L21/304
Abstract: 本发明的目的在于,减少在进行基板处理的装置、系统以及方法中使用的数据量。为了达到上述目的,基板处理装置具有:一个以上的处理单元,对基板分别进行处理;以及一个以上的运算处理部。一个以上的运算处理部通过使用以分别规定与在一个以上的处理单元中对基板实施的处理相关的处理的条件的多个处理规程中的两个以上的处理规程组合,来制作用以规定关于基板的一连串的处理的流程的流程规程。多个处理规程包括分别规定使用处理液对基板实施的处理的条件的多个液体处理规程。
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公开(公告)号:CN117941035A
公开(公告)日:2024-04-26
申请号:CN202280061924.5
申请日:2022-09-12
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/306 , H01L21/304
Abstract: 本发明的基板处理装置(100)具有:基板保持部(120)、处理液供给部(130)、成分存在量测定部(140)以及控制部(22)。控制部(22)包括:时间变化获取部(22b),基于在从处理液供给部(130)开始向基板(W)供给处理液之后至结束之前的处理液供给期间内的特定期间,成分存在量测定部(140)测定到的基板(W)的特定成分的存在量,获取特定成分的存在量的时间变化;预测线制作部(22c),基于时间变化获取部(22b)获取的特定成分的存在量的时间变化,制作预测处理液供给期间中的特定期间之后的基板(W)的特定成分的存在量的时间变化的预测线;以及处理条件变更部(22d),基于预测线,在停止处理液的供给之前变更用于处理基板的基板处理条件。
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公开(公告)号:CN115132616A
公开(公告)日:2022-09-30
申请号:CN202210303673.9
申请日:2022-03-24
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67 , H01L21/687 , H01L21/683
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置、示教信息生成方法、示教套件和基板夹具。在基板处理装置中,以利用位于基板保持部上方的手来保持下表面设置有以非直线状配置的三个光电传感器的基板夹具的状态,通过基板旋转机构使基板保持部进行旋转,从而形成预先设置在基板保持部上的标记的圆周状的旋转轨迹。示教部基于由三个光电传感器各自得到的相对于旋转轨迹的相对位置,算出手相对于基板保持部的俯视下的相对位置,生成表示手和基板保持部的俯视下的相对位置关系的水平示教信息。由此,能够简化示教信息的生成处理。
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