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公开(公告)号:CN107813594A
公开(公告)日:2018-03-20
申请号:CN201710573757.3
申请日:2017-07-14
Applicant: 株式会社斯库林集团
CPC classification number: B05C11/00 , B05C1/025 , B05D1/28 , B41F16/00 , B41F16/0073 , H01L21/00 , H01L21/67092 , H01L21/6838 , B41F17/00 , B41F19/00 , B41F23/00
Abstract: 本发明涉及从第一板状体剥离第二板状体的剥离装置和方法。剥离装置具备:保持第一板状体的保持部;沿剥离前进方向排列的多个吸附部,吸附第二板状体的另一侧主面;剥离控制部,按照多个吸附部的排列顺序进行部分剥离使第二板状体的剥离前进,部分剥离指,通过使各吸附部向与保持部分离的分离方向移动,使第二板状体的吸附部所吸附的被吸附部位从第一板状体剥离,剥离控制部具有:能沿分离方向移动的第一可动体;使第一可动体沿分离方向移动的第一移动部;多个第一卡合构件,设置于各吸附部,通过与沿分离方向移动的第一可动体卡合,使吸附部伴随第一可动体的移动沿分离方向移动,多个第一卡合构件分别与第一可动体卡合的时机与排列顺序相同。
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公开(公告)号:CN114256060A
公开(公告)日:2022-03-29
申请号:CN202110980176.8
申请日:2021-08-25
Applicant: 株式会社斯库林集团
Abstract: 本发明涉及一种衬底处理方法。本发明的课题在于有效率地去除衬底上表面的抗蚀剂。本发明的衬底处理方法具备如下工序:对衬底的上表面供给处理液;使形成在衬底上表面的至少一部分上的处理液的液膜厚度为第1厚度,并且在大气压下对液膜进行等离子体处理;及使形成在衬底上表面的至少一部分上的处理液的液膜厚度为第2厚度,并且在大气压下对液膜进行等离子体处理;且第1厚度小于第2厚度。
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公开(公告)号:CN107813594B
公开(公告)日:2019-03-22
申请号:CN201710573757.3
申请日:2017-07-14
Applicant: 株式会社斯库林集团
Abstract: 本发明涉及从第一板状体剥离第二板状体的剥离装置和方法。剥离装置具备:保持第一板状体的保持部;沿剥离前进方向排列的多个吸附部,吸附第二板状体的另一侧主面;剥离控制部,按照多个吸附部的排列顺序进行部分剥离使第二板状体的剥离前进,部分剥离指,通过使各吸附部向与保持部分离的分离方向移动,使第二板状体的吸附部所吸附的被吸附部位从第一板状体剥离,剥离控制部具有:能沿分离方向移动的第一可动体;使第一可动体沿分离方向移动的第一移动部;多个第一卡合构件,设置于各吸附部,通过与沿分离方向移动的第一可动体卡合,使吸附部伴随第一可动体的移动沿分离方向移动,多个第一卡合构件分别与第一可动体卡合的时机与排列顺序相同。
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