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公开(公告)号：CN118800683A
公开(公告)日：2024-10-18
申请号：CN202410436853.3
申请日：2024-04-11
Applicant: 株式会社斯库林集团
Abstract: 本发明涉及一种衬底保持装置、衬底处理装置及夹盘销的位置判定方法。本发明提供一种能够以高精度判定夹盘销的位置状态的技术。衬底保持装置2具备多个夹盘销(22)、第1旋转磁铁(33a)、第1磁传感器(40a)、及控制部(90)。多个夹盘销(22)各自在与衬底(W)的周缘抵接的保持位置和与衬底(W)的周缘分离的打开位置之间可旋转地设置。第1旋转磁铁(33a)具有与多个夹盘销(22)中的第1夹盘销(22a)旋转的第1驱动轴线(Q2a)的径向交叉的一对磁极面。第1旋转磁铁(33a)固定于第1夹盘销(22a)而与第1夹盘销(22a)一体地自转。第1磁传感器(40a)在沿着第1驱动轴线(Q2a)的方向上与第1旋转磁铁(33a)并排的位置处，测定表示由第1旋转磁铁(33a)产生的磁场的方向的磁场角度。控制部90基于该磁场角度而判定第1夹盘销(22a)的位置状态。
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公开(公告)号：CN112151409A
公开(公告)日：2020-12-29
申请号：CN202010579435.1
申请日：2020-06-23
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，其利用超临界状态的处理流体处理基板的表面，保护基板不受由流路内的处理流体的局部气化引起的压力变动的影响。在利用超临界状态的处理流体处理基板(S)的表面的基板处理装置(1)中，包括：腔室框体(10)，在内部设置有能够收容基板的处理空间(SP)、以及从外部接受处理流体并将处理流体引导到处理空间的流路(17)；以及流体供给部(57)，将处理流体压送到流路中，且在流路中设置有多个使处理流体的流通方向变化的弯曲部。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112151408A
公开(公告)日：2020-12-29
申请号：CN202010579434.7
申请日：2020-06-23
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67
Abstract: 沿着处理对象的基板表面形成稳定的处理流体的层流，从而效率良好地处理基板。本发明是一种基板处理装置，利用处理流体处理基板的表面，其包括：支撑托盘，在平板的上表面设置有收容基板的凹部；收纳容器，形成有与支撑托盘的外形对应的形状且顶面为水平面的空洞，且能够将支撑托盘以水平姿势收纳于空洞内的内部空间；以及流体供给部，向空洞供给处理流体，收纳容器具有流路，所述流路接受从流体供给部供给的处理流体并从在空洞的侧壁面面向空洞而开口的排出口向空洞内沿水平方向排出处理流体，上下方向上的排出口的下端位置与收纳在空洞内的支撑托盘的上表面的位置相同或者比其更靠上方。
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公开(公告)号：CN112151409B
公开(公告)日：2024-08-20
申请号：CN202010579435.1
申请日：2020-06-23
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，其利用超临界状态的处理流体处理基板的表面，保护基板不受由流路内的处理流体的局部气化引起的压力变动的影响。在利用超临界状态的处理流体处理基板(S)的表面的基板处理装置(1)中，包括：腔室框体(10)，在内部设置有能够收容基板的处理空间(SP)、以及从外部接受处理流体并将处理流体引导到处理空间的流路(17)；以及流体供给部(57)，将处理流体压送到流路中，且在流路中设置有多个使处理流体的流通方向变化的弯曲部。
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公开(公告)号：CN112151408B
公开(公告)日：2024-08-06
申请号：CN202010579434.7
申请日：2020-06-23
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67
Abstract: 沿着处理对象的基板表面形成稳定的处理流体的层流，从而效率良好地处理基板。本发明是一种基板处理装置，利用处理流体处理基板的表面，其包括：支撑托盘，在平板的上表面设置有收容基板的凹部；收纳容器，形成有与支撑托盘的外形对应的形状且顶面为水平面的空洞，且能够将支撑托盘以水平姿势收纳于空洞内的内部空间；以及流体供给部，向空洞供给处理流体，收纳容器具有流路，所述流路接受从流体供给部供给的处理流体并从在空洞的侧壁面面向空洞而开口的排出口向空洞内沿水平方向排出处理流体，上下方向上的排出口的下端位置与收纳在空洞内的支撑托盘的上表面的位置相同或者比其更靠上方。
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公开(公告)号：CN117133692A
公开(公告)日：2023-11-28
申请号：CN202310602492.0
申请日：2023-05-25
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/673 , H01L21/677
Abstract: 本发明提供一种处理基板的基板处理装置，能够抑制水分与保持在载置单元的基板接触。本发明的基板处理装置的载置单元(40)保持被从分度器机械手向中央机械手转移的未处理的基板以及被从中央机械手向分度器机械手转移的处理完毕的基板。载置单元(40)具备框体(411)、第一开闭部(413)和第二开闭部(414)。框体(411)能在被供给湿度低于大气的低湿度气体的内部空间(400)中收纳多个基板(9)。第一开闭部(413)开闭框体(411)的处理模块侧的部位。第二开闭部(414)独立于第一开闭部(413)被驱动，开闭框体(411)的分度器模块侧的部位。由此，能够抑制保持在载置单元(40)的基板与水分接触。
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公开(公告)号：CN115732357A
公开(公告)日：2023-03-03
申请号：CN202210963352.1
申请日：2022-08-11
Applicant: 株式会社斯库林集团
Abstract: 本发明提供基板处理方法以及基板处理装置，涉及在处理容器的处理空间内使用处理流体干燥基板的基板处理技术，能够一边有效地抑制形成于基板的表面的图案的坍塌，一边使基板良好地干燥。本发明是在处理容器内依次执行升压工序、恒压工序以及减压工序的基板处理技术，在升压工序与恒压工序之间或者恒压工序的初始阶段，一边将处理空间维持为第一压力一边将处理空间内的处理流体的流量抑制为比第一流量低的第二流量。由此促进处理空间内的处理流体与液体的相互扩散。然后，在进行该扩散后，通过从处理空间排出处理流体，执行基板干燥。
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