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公开(公告)号：CN116805589A
公开(公告)日：2023-09-26
申请号：CN202310246372.1
申请日：2023-03-14
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置。提供一种能够以更高的精度降低排气管中的压力变动的技术。基板处理装置具有塔、多个个别排气管、集合排气管、切换部、外部气体导入部以及控制部。塔包括在铅垂方向上排列设置的多个处理单元。切换部对多个个别排气管中的各个个别排气管与集合排气管的连通以及切断进行切换。外部气体导入部具有向集合排气管导入来自外部的外部气体的流路。控制部基于与多个处理单元分别对应的个别导入面积以及切换部的切换状态，控制外部气体导入部的导入面积。与多个处理单元分别对应的个别导入面积根据多个处理单元的各个设置位置而设定。
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公开(公告)号：CN119664970A
公开(公告)日：2025-03-21
申请号：CN202411299097.0
申请日：2024-09-18
Applicant: 株式会社斯库林集团
Inventor： 守屋千晶
Abstract: 本发明涉及一种开闭机构及排气切换机构以及衬底处理装置。本发明的开闭机构具备：基座部件，能够分别安装于切换箱的安装开口；上支撑部件，设置在基座部件的上表面；致动器；杆，一边贯通基座部件一边从致动器向下方延伸，通过致动器在上下方向移动；下支撑部件，设置在基座部件的下表面；盖部件，设置在基座部件的下方，能够堵塞连通口；以及第1连杆及第2连杆，设置在基座部件的下方，连接杆、下支撑部件及盖部件。通过将杆的移动经由第1连杆及第2连杆传递到盖部件，盖部件在打开状态与关闭状态之间切换。
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公开(公告)号：CN115732357A
公开(公告)日：2023-03-03
申请号：CN202210963352.1
申请日：2022-08-11
Applicant: 株式会社斯库林集团
Abstract: 本发明提供基板处理方法以及基板处理装置，涉及在处理容器的处理空间内使用处理流体干燥基板的基板处理技术，能够一边有效地抑制形成于基板的表面的图案的坍塌，一边使基板良好地干燥。本发明是在处理容器内依次执行升压工序、恒压工序以及减压工序的基板处理技术，在升压工序与恒压工序之间或者恒压工序的初始阶段，一边将处理空间维持为第一压力一边将处理空间内的处理流体的流量抑制为比第一流量低的第二流量。由此促进处理空间内的处理流体与液体的相互扩散。然后，在进行该扩散后，通过从处理空间排出处理流体，执行基板干燥。
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