公开(公告)号：CN118800683A

公开(公告)日：2024-10-18

申请号：CN202410436853.3

申请日：2024-04-11

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 大岛和真 ,  白井刚史 ,  中邨友彦 ,  藤内裕史 ,  上原大贵

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/687 ,  G01B7/00 ,  G01R33/02 ,  G01R35/02 ,  G01R35/00

Abstract: 本发明涉及一种衬底保持装置、衬底处理装置及夹盘销的位置判定方法。本发明提供一种能够以高精度判定夹盘销的位置状态的技术。衬底保持装置2具备多个夹盘销(22)、第1旋转磁铁(33a)、第1磁传感器(40a)、及控制部(90)。多个夹盘销(22)各自在与衬底(W)的周缘抵接的保持位置和与衬底(W)的周缘分离的打开位置之间可旋转地设置。第1旋转磁铁(33a)具有与多个夹盘销(22)中的第1夹盘销(22a)旋转的第1驱动轴线(Q2a)的径向交叉的一对磁极面。第1旋转磁铁(33a)固定于第1夹盘销(22a)而与第1夹盘销(22a)一体地自转。第1磁传感器(40a)在沿着第1驱动轴线(Q2a)的方向上与第1旋转磁铁(33a)并排的位置处，测定表示由第1旋转磁铁(33a)产生的磁场的方向的磁场角度。控制部90基于该磁场角度而判定第1夹盘销(22a)的位置状态。

公开(公告)号：CN117133692A

公开(公告)日：2023-11-28

申请号：CN202310602492.0

申请日：2023-05-25

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 王智达 ,  西出基 ,  上原大贵 ,  大岛和真

IPC: H01L21/673 ,  H01L21/677

Abstract: 本发明提供一种处理基板的基板处理装置，能够抑制水分与保持在载置单元的基板接触。本发明的基板处理装置的载置单元(40)保持被从分度器机械手向中央机械手转移的未处理的基板以及被从中央机械手向分度器机械手转移的处理完毕的基板。载置单元(40)具备框体(411)、第一开闭部(413)和第二开闭部(414)。框体(411)能在被供给湿度低于大气的低湿度气体的内部空间(400)中收纳多个基板(9)。第一开闭部(413)开闭框体(411)的处理模块侧的部位。第二开闭部(414)独立于第一开闭部(413)被驱动，开闭框体(411)的分度器模块侧的部位。由此，能够抑制保持在载置单元(40)的基板与水分接触。