公开(公告)号：CN104272193A

公开(公告)日：2015-01-07

申请号：CN201380024161.8

申请日：2013-04-18

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 辛成健 ,  金炳郁 ,  尹锡壹 ,  郑宗铉 ,  许舜范 ,  郑世桓 ,  张斗瑛 ,  权五焕 ,  朴善周

IPC: G03F7/42 ,  C11D3/20 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明涉及一种聚合性液晶组合物，更具体地说，涉及一种用于光学膜时具有热稳定性和液晶相区间的温度范围宽的特性且经济有效的聚合性液晶组合物。本发明中，将核结构不具有连接基而是相互以单键连接或者具有以多环结构连接的一个以上的环结构的液晶化合物混合于聚合性介晶(mesogenic)化合物而构成聚合性液晶组合物，由此液晶材料之间的相容性优异、化学上稳定、在宽的温度范围内保持液晶相，且使用于液晶光学膜时能够制造出具有优异的取向性、耐化学稳定性质的光学膜，由于制造方法较简单，因此经济有效。

公开(公告)号：CN102161942A

公开(公告)日：2011-08-24

申请号：CN201110041801.9

申请日：2011-02-18

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 金柄郁 ,  尹锡壹 ,  郑宗铉 ,  许舜范 ,  辛成健 ,  郑世桓 ,  张斗瑛 ,  朴善周 ,  权五焕

IPC: C11D7/32 ,  H01L51/56

Abstract: 本发明涉及包含N-甲基-2-吡咯烷酮以及1，3-二甲基-2-咪唑啉酮(1，3-Dimethyl-2-imidazolidinone)的沉积材料洗涤液组合物及利用该组合物的洗涤方法。若使用所述组合物，则能够迅速去除附着在光电设备制造装置上的沉积材料，从而可缩短制造工艺时间，其降低生产费用，确保工艺安全性。

公开(公告)号：CN101676806A

公开(公告)日：2010-03-24

申请号：CN200910166147.7

申请日：2009-08-14

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 金柄郁 ,  尹锡壹 ,  郑宗铉 ,  许舜范 ,  辛成健 ,  郑世桓 ,  张斗瑛 ,  朴善周 ,  权五焕

IPC: G03F7/42

Abstract: 本发明涉及一种剥离剂组合物，其在薄膜晶体管液晶显示器的制备工艺中，用于再利用薄膜晶体管液晶显示器的热固性树脂形成过程中产生的不良基板，包括：(a)0.5-15重量份的氢氧化铵或具有碳原子数为1-4个的烷基的烷基氢氧化铵化合物；(b)9-89重量份的具有碳原子数为1-4个的烷基的烷撑二醇醚；(c)10-40重量份的甘醇化合物；(d)0.01-5重量份的防腐剂；以及(e)0.1-5重量份的水。本发明的剥离剂组合物可以在短时间内去除彩色光阻、正性或负性有机绝缘层，并不会使作为下部膜质的无机绝缘层和各种金属布线受损，从而可以再利用滤色器基板和薄膜晶体管基板。

公开(公告)号：CN104597728B

公开(公告)日：2020-05-01

申请号：CN201410592323.4

申请日：2014-10-29

Applicant: 三星显示有限公司 ,  株式会社东进世美肯

Inventor： 金善一 ,  朴弘植 ,  金俸均 ,  金柄郁 ,  朴善周 ,  尹锡壹 ,  赵泰杓 ,  许舜范

IPC: G03F7/42

Abstract: 本发明提供一种剥离液及利用该剥离液的显示装置制造方法，该剥离液包含非质子性极性溶剂、胺类化合物及质子性极性溶剂。以剥离液的总重量为基准，所述剥离液可以包含1～90重量部的所述非质子性极性溶剂、1～10重量部的所述胺类化合物以及1～30重量部的所述质子性极性溶剂。利用所述剥离液能够在短时间剥离光刻胶，且能够减少线路及彩色滤光器等所遭受的损伤。

公开(公告)号：CN103631103B

公开(公告)日：2019-07-19

申请号：CN201310363319.6

申请日：2013-08-20

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 许舜范 ,  金炳郁 ,  赵泰杓 ,  尹锡壹 ,  郑世桓 ,  张斗瑛 ,  朴善周

IPC: G03F7/42

Abstract: 本发明涉及一种可以替代以往常用的对人体有害的NMP等溶剂类，并包含剥离能力优秀的N,N‑二甲基丙酰胺的光致抗蚀剂剥离液组合物。

公开(公告)号：CN104597728A

公开(公告)日：2015-05-06

申请号：CN201410592323.4

申请日：2014-10-29

Applicant: 三星显示有限公司 ,  株式会社东进世美肯

Inventor： 金善一 ,  朴弘植 ,  金俸均 ,  金柄郁 ,  朴善周 ,  尹锡壹 ,  赵泰杓 ,  许舜范

IPC: G03F7/42

Abstract: 本发明提供一种剥离液及利用该剥离液的显示装置制造方法，该剥离液包含非质子性极性溶剂、胺类化合物及质子性极性溶剂。以剥离液的总重量为基准，所述剥离液可以包含1～90重量部的所述非质子性极性溶剂、1～10重量部的所述胺类化合物以及1～30重量部的所述质子性极性溶剂。利用所述剥离液能够在短时间剥离光刻胶，且能够减少线路及彩色滤光器等所遭受的损伤。

公开(公告)号：CN102161942B

公开(公告)日：2014-12-31

申请号：CN201110041801.9

申请日：2011-02-18

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 金柄郁 ,  尹锡壹 ,  郑宗铉 ,  许舜范 ,  辛成健 ,  郑世桓 ,  张斗瑛 ,  朴善周 ,  权五焕

IPC: C11D7/32 ,  H01L51/56

Abstract: 本发明涉及包含N-甲基-2-吡咯烷酮以及1，3-二甲基-2-咪唑啉酮(1，3-Dimethyl-2-imidazolidinone)的沉积材料洗涤液组合物及利用该组合物的洗涤方法。若使用所述组合物，则能够迅速去除附着在光电设备制造装置上的沉积材料，从而可缩短制造工艺时间，其降低生产费用，确保工艺安全性。

公开(公告)号：CN104272193B

公开(公告)日：2019-08-23

申请号：CN201380024161.8

申请日：2013-04-18

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 辛成健 ,  金炳郁 ,  尹锡壹 ,  郑宗铉 ,  许舜范 ,  郑世桓 ,  张斗瑛 ,  权五焕 ,  朴善周

IPC: G03F7/42 ,  C11D3/20 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明涉及一种稀释剂组合物，更具体地说，涉及一种使用于半导体制造用晶片的边缘和后面部位而可在短时间内有效去除多余粘附的光致抗蚀剂，而且提高光致抗蚀剂RRC的性能而能够减少光致抗蚀剂的使用，并对人体的稳定性高、降低界面的段差而可用于多种工序、使半导体制造工序简单化而能够以低成本提高生产收率的稀释剂组合物。

公开(公告)号：CN102103334B

公开(公告)日：2015-05-13

申请号：CN201010594494.2

申请日：2010-12-15

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 辛成健 ,  金柄郁 ,  尹锡壹 ,  郑宗铉 ,  许舜范 ,  郑世桓 ,  张斗瑛 ,  权五焕 ,  朴善周

IPC: G03F7/42

Abstract: 本发明涉及一种抗蚀剂剥离剂组合物，特别涉及一种包含具有环状胺结构的咪唑烷化合物，所以抗蚀剂剥离性能非常优秀，并且对金属的防腐蚀效果突出，从而可以使图案形成过程中元件的金属布线的腐蚀达到最小化的抗蚀剂剥离剂组合物。

公开(公告)号：CN103631103A

公开(公告)日：2014-03-12

申请号：CN201310363319.6

申请日：2013-08-20

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 许舜范 ,  金炳郁 ,  赵泰杓 ,  尹锡壹 ,  郑世桓 ,  张斗瑛 ,  朴善周

IPC: G03F7/42

Abstract: 本发明涉及一种可以替代以往常用的对人体有害的NMP等溶剂类，并包含剥离能力优秀的N,N-二甲基丙酰胺的光致抗蚀剂剥离液组合物。