公开(公告)号：CN101355056A

公开(公告)日：2009-01-28

申请号：CN200810134043.3

申请日：2008-07-22

Applicant: 三星电子株式会社 ,  株式会社东进世美肯

Inventor： 姜勋 ,  金载星 ,  郑壤镐 ,  李羲国 ,  金柄郁 ,  尹赫敏 ,  吕泰勋 ,  崔相角

IPC: H01L21/84 ,  H01L21/768 ,  G03F7/027 ,  G03F7/039 ,  G03F7/016 ,  G03F7/021

CPC classification number: H01L27/1288 ,  H01L27/1214

Abstract: 本发明涉及制造薄膜晶体管基板的方法和用在该基板中的感光组合物。公开了一种制造具有高的感光度、耐热性、抗冲击性的薄膜晶体管基板的方法以及为其所用的感光组合物，该方法包括在绝缘基板上形成数据线路，通过涂布感光组合物而在数据线路上形成有机绝缘膜，该感光组合物包含三元共聚物，其中该三元共聚物得自以下单体：不饱和羧酸、不饱和羧酸酐、或其混合物，不饱和的含有环氧基团的化合物、以及烯属化合物。

公开(公告)号：CN101355056B

公开(公告)日：2014-02-26

申请号：CN200810134043.3

申请日：2008-07-22

Applicant: 三星显示有限公司 ,  株式会社东进世美肯

Inventor： 姜勋 ,  金载星 ,  郑壤镐 ,  李羲国 ,  金柄郁 ,  尹赫敏 ,  吕泰勋 ,  崔相角

IPC: H01L21/84 ,  H01L21/768 ,  G03F7/027 ,  G03F7/039 ,  G03F7/016 ,  G03F7/021

CPC classification number: H01L27/1288 ,  H01L27/1214

Abstract: 本发明涉及制造薄膜晶体管基板的方法和用在该基板中的感光组合物。公开了一种制造具有高的感光度、耐热性、抗冲击性的薄膜晶体管基板的方法以及为其所用的感光组合物，该方法包括在绝缘基板上形成数据线路，通过涂布感光组合物而在数据线路上形成有机绝缘膜，该感光组合物包含三元共聚物，其中该三元共聚物得自以下单体：不饱和羧酸、不饱和羧酸酐、或其混合物，不饱和的含有环氧基团的化合物、以及烯属化合物。

公开(公告)号：CN1721989B

公开(公告)日：2010-05-05

申请号：CN200510080628.8

申请日：2005-07-04

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 姜勋 ,  李承昱 ,  全雨植 ,  朴大然 ,  金周赫 ,  金柄郁

IPC: G03F7/022

CPC classification number: G03F7/0048 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/022

Abstract: 本发明提供一种光致抗蚀剂组合物，更具体地，本发明提供了包含以下物质的光致抗蚀剂组合物：a)酚醛清漆树脂、b)二叠氮化合物和c)包含丙二醇甲基醚乙酸酯(PGMEA)和2，2，4-三甲基-1，3-戊二醇单异丁基酯(TMPMB)的溶剂。本发明的光致抗蚀剂组合物在涂布后具有优异的涂布均匀性和污染抑制性能，使得它容易适用于实际工业场合，并且在大规模生产时，由于消耗量的降低和生产所需时间的缩短等，该光致抗蚀剂组合物可以改善作业环境。