半导体装置及其制造方法
    10.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101254892B

    公开(公告)日:2011-09-14

    申请号:CN200810082278.2

    申请日:2008-02-29

    CPC classification number: B81B7/0077 B81C2203/0136 B81C2203/0145

    Abstract: 本发明提供一种半导体装置及其制造方法,在具有MEMS部的半导体装置中可以提高制造成品率并提高生产率,并且确保高可靠性。该半导体装置具有:半导体基板(2);MEMS部(3),形成于半导体基板(2)表面;以及,盖部,与MEMS部(3)离开距离配置,覆盖MEMS部(3)地设置于半导体基板(2)的表面;上述盖部由包围MEMS部(3)的侧壁区域(E)和具有中空层且同半导体基板(2)及侧壁区域(E)一起形成封闭空间的顶板区域(F)构成。

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