-
-
公开(公告)号：CN114245930A
公开(公告)日：2022-03-25
申请号：CN202080057911.1
申请日：2020-06-17
Applicant: 恩特格里斯公司
IPC: H01J37/317
Abstract: 本发明描述一种用于离子植入的系统及方法，其包含：气体或包含至少一种可离子化气体的气体混合物，其用来产生离子物种；及电弧室，其包含两种或更多种不同电弧室材料。使用所述系统，在具有衬垫组合的所述电弧室中产生离子物种，且一或多个所要离子物种显示所述经产生的离子物种当中的更高束电流，这通过使用所述不同材料来促进。继而可实现将所述所要离子物种改进地植入到衬底中。此外，所述系统可在系统操作期间最小化金属沉积物的形成，由此延长源寿命且促成改进的系统性能。
-
公开(公告)号：CN107078009B
公开(公告)日：2019-04-12
申请号：CN201580053465.6
申请日：2015-08-19
Applicant: 恩特格里斯公司
IPC: H01J37/08 , H01J37/317 , H01L21/265
Abstract: 本发明描述使用固体掺杂剂磷及砷源及较高阶磷或砷植入源材料的设备及方法。在各种实施方案中，在离子源室中提供固体含磷或含砷材料以用于产生二聚物或四聚物植入物质。在其它实施方案中，通过使用反应器来分解气态含磷或含砷材料以形成用于离子植入的气相二聚物及四聚物而增强离子植入。
-
-
公开(公告)号：CN105453225B
公开(公告)日：2018-08-28
申请号：CN201480025344.6
申请日：2014-03-03
Applicant: 恩特格里斯公司
IPC: H01L21/265
CPC classification number: H01J37/3171 , C23C14/48 , H01J37/08 , H01J2237/006 , H01J2237/08 , H01L21/2225
Abstract: 描述了用于掺杂物的注入的离子注入组合物、系统和方法。描述了具体的硒掺杂源组合物，以及并流气体用以实现在注入系统特征方面的优势的用途，所述注入系统特征为例如方法转变、束稳定性、源寿命、束均匀性、束流和购置成本。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108367269A
公开(公告)日：2018-08-03
申请号：CN201680073124.X
申请日：2016-11-04
Applicant: 恩特格里斯公司
Inventor： L·H·杜波依斯 , J·D·卡拉瑟斯 , M·A·彼特鲁斯卡 , E·A·斯特姆 , S·M·威尔逊 , S·M·卢尔寇特 , B·C·亨德里克斯 , J·D·斯威尼 , M·J·沃德珍斯奇 , O·比尔 , 唐瀛 , J·R·德斯普雷斯 , M·T·马洛 , C·斯坎内尔 , D·埃尔策 , K·默西
CPC classification number: B01J20/20 , B01J20/103 , B01J20/16 , B01J20/226 , F17C1/00
Abstract: 本发明描述不同类型及形式的吸附剂，如有用地用于气体供应包装中，所述气体供应包装包含盛放此吸附剂以将吸附气体存储于其上的气体存储及施配容器，及固定于所述容器以在其施配条件下从所述气体供应包装排放所述吸附气体的气体施配组合件。同样描述对应气体供应包装，及处理所述吸附剂，及制造所述气体供应包装的各种方法。
-
公开(公告)号：CN107771262A
公开(公告)日：2018-03-06
申请号：CN201680036108.3
申请日：2016-05-11
Applicant: 恩特格里斯公司
Inventor： D·埃尔策 , 唐瀛 , B·L·钱伯斯 , J·D·斯威尼 , S·M·威尔逊 , S·乌兰伊齐 , S·E·毕夏普 , J·V·麦克马纳斯 , W·K·奥兰德 , E·E·琼斯 , O·比尔 , J·R·德普雷斯 , C·斯坎内尔
IPC: F17C13/04
CPC classification number: F17C13/04 , F17C2205/0308 , F17C2205/0335 , F17C2205/0338 , F17C2205/0391
Abstract: 本发明揭示用于流体供应封装中的流体施配组合件，其中这些流体施配组合件耦合到流体供应器皿以用于施配例如半导体制造流体等流体。在具体实施方案中，所述流体施配组合件经配置以防止将过多力施加到所述流体施配组合件中的阀元件，及/或避免可能导致有毒气体或者在其他方面危险的气体或珍贵气体泄漏的器皿意外或偶然打开状态。本发明还描述用于辅助将例如上述类型的流体供应封装的耦合元件等耦合元件耦合的对准装置，使得因不对准而对这些耦合件的损坏得以避免。
-
公开(公告)号：CN107078009A
公开(公告)日：2017-08-18
申请号：CN201580053465.6
申请日：2015-08-19
Applicant: 恩特格里斯公司
IPC: H01J37/08 , H01J37/317 , H01L21/265
CPC classification number: H01L21/2658 , H01J37/08 , H01J37/244 , H01J37/3171 , H01J2237/006 , H01L31/18 , H05K999/99
Abstract: 本发明描述使用固体掺杂剂磷及砷源及较高阶磷或砷植入源材料的设备及方法。在各种实施方案中，在离子源室中提供固体含磷或含砷材料以用于产生二聚物或四聚物植入物质。在其它实施方案中，通过使用反应器来分解气态含磷或含砷材料以形成用于离子植入的气相二聚物及四聚物而增强离子植入。
-
公开(公告)号：CN105556641A
公开(公告)日：2016-05-04
申请号：CN201480052121.9
申请日：2014-07-21
Applicant: 恩特格里斯公司
IPC: H01L21/02
CPC classification number: H01J37/32449 , H01J37/3171 , H01J2237/002 , H01J2237/006 , H01J2237/08 , H01J2237/24564 , H01J2237/3365
Abstract: 描述了用于流体的远程传送的流体存储和分配系统及方法，以用于将流体从处于较低电压的源容器提供至处于较高电压的一个或多个流体利用工具，使得流体跨越相关联的电压隙而无电弧、放电、过早离子化或其他异常行为，并且使得当由远程源容器供应多个流体利用工具时，在多个容器中的其他容器的独立操作期间，在合适的压力水平下将流体有效地供应至多个工具中的每个。
-
公开(公告)号：CN105392870A
公开(公告)日：2016-03-09
申请号：CN201480040791.9
申请日：2014-05-15
Applicant: 恩特格里斯公司
IPC: C10J3/00
CPC classification number: G05D11/133 , F17C2221/03 , F17C2223/035 , F17C2225/035 , F17C2227/04 , F17C2270/0518 , F25J3/0252 , G05D11/134 , G05D11/135 , G05D11/139 , Y02E60/324
Abstract: 本发明描述了用组成气体来填装气体混合物供应容器以得到精确组成的气体混合物的方法，其中所述气体混合物包含至少两种组成气体。可以采用级联填装技术，包括使气体从单个源容器流至多个目标容器，或从多个源容器流至单个目标容器。所述方法可用以形成用于离子注入应用的掺杂气体混合物，如三氟化硼和氢气的混合物。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
39
records
(took 0.024 seconds)
