-
公开(公告)号：CN104914073A
公开(公告)日：2015-09-16
申请号：CN201510374985.9
申请日：2015-07-01
Applicant: 复旦大学
IPC: G01N21/552
Abstract: 本发明属于纳米加工技术领域，具体为一种亚波长金柱阵列局域表面等离子体共振气液传感器及其制备方法。本发明利用电子束光刻在电子束光刻胶上形成亚波长周期性的圆孔阵列，进而利用该结构作为支架结合微电镀的方法生长金立柱，在剥离工艺之后形成严格周期性且直径可调节的极高的亚波长金柱阵列。本发明纳米金立柱柱体顶部及侧壁表面产生的复合局域电磁场增强而对入射光的波长选择性吸收和反射形成的局域表面等离子体共振光谱中吸收峰的位移来实现快速精确的检测周围环境介质的折射率。这种传感器具有对环境折射率灵敏度高，比表面积大，高度直径可调节，且易于制备，尺寸小，可适用于气液环境检测。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104934303B
公开(公告)日：2017-11-17
申请号：CN201510327352.2
申请日：2015-06-15
Applicant: 复旦大学
IPC: H01L21/027 , H01L21/02 , B81C1/00
Abstract: 本发明属于微纳加工技术领域，具体为一种制备蝴蝶翅膀仿生微纳结构的方法。本发明首先在硅基底上采用旋涂法依次交替旋涂两种不同灵敏度的光刻胶若干层，然后利用电子束光刻对光刻胶进行曝光，再利用两种显影液对曝光后的样品进行交替显影，最终制备得到具有优异特性的分级层次周期或准周期仿生微纳结构，如仿闪蝶磷翅微纳结构等。本发明结合多层胶技术与电子束光刻技术，制备过程中不需要生物模板，并且能够控制每层胶的旋涂厚度，实现对纵向树枝状周期和占空比的精确控制，制备工艺简单，能得到不同结构参数的蝴蝶磷翅仿生微纳结构。
-
公开(公告)号：CN109243662A
公开(公告)日：2019-01-18
申请号：CN201811075983.X
申请日：2018-09-14
Applicant: 复旦大学
IPC: G21K1/06
Abstract: 本发明属于电感耦合等离子体刻蚀技术领域，具体为一种无衬底支撑的悬空厚金波带片透镜的制备方法。其步骤包括：在Si衬底上旋涂HSQ光刻胶，利用电子束光刻的方法在光刻胶上形成波带片透镜的设计图形作为波带片硅模板的刻蚀掩蔽层，然后在电感耦合等离子体刻蚀系统中进行深反应离子刻蚀形成大高宽比的波带片硅模板，并结合金电镀的工艺在硅模板上电镀具有一定厚度的金，最后去除残余光刻胶掩膜以及去除衬底硅和Au波带片中残余的硅结构，从而得到应用于硬X射线成像领域的大高宽比的悬空金波带片。本发明方法可控性好、工艺稳定，并适用于大高宽比的金属结构的制备。
-
公开(公告)号：CN104934303A
公开(公告)日：2015-09-23
申请号：CN201510327352.2
申请日：2015-06-15
Applicant: 复旦大学
IPC: H01L21/027 , H01L21/02 , B81C1/00
CPC classification number: H01L21/027 , H01L21/02
Abstract: 本发明属于微纳加工技术领域，具体为一种制备蝴蝶翅膀仿生微纳结构的方法。本发明首先在硅基底上采用旋涂法依次交替旋涂两种不同灵敏度的光刻胶若干层，然后利用电子束光刻对光刻胶进行曝光，再利用两种显影液对曝光后的样品进行交替显影，最终制备得到具有优异特性的分级层次周期或准周期仿生微纳结构，如仿闪蝶磷翅微纳结构等。本发明结合多层胶技术与电子束光刻技术，制备过程中不需要生物模板，并且能够控制每层胶的旋涂厚度，实现对纵向树枝状周期和占空比的精确控制，制备工艺简单，能得到不同结构参数的蝴蝶磷翅仿生微纳结构。
-
公开(公告)号：CN104914494A
公开(公告)日：2015-09-16
申请号：CN201510322329.4
申请日：2015-06-13
Applicant: 复旦大学
CPC classification number: G02B5/20 , G03F7/0002
Abstract: 本发明属于材料技术及纳米加工技术领域，具体为一种利用纳米压印制备带底盘金属孔洞获得全色谱结构色的方法。本发明包括：对衬底表面进行清洗和烘干处理；在衬底上旋涂光刻胶和前烘；对所述光刻胶进行纳米压印；对所述压印后的光刻胶进行紫外光固化处理；在压印后的光刻胶上淀积金属等步骤。本发明方法得到的带底盘的金属孔阵列具有可见光波段内（360纳米~810纳米）峰位可调的反常透射光谱谱峰，而体现的全色谱中单一颜色结构色，能用于CCD滤色片或彩色显示器等。
-
公开(公告)号：CN109243662B
公开(公告)日：2019-12-03
申请号：CN201811075983.X
申请日：2018-09-14
Applicant: 复旦大学
IPC: G21K1/06
Abstract: 本发明属于电感耦合等离子体刻蚀技术领域，具体为一种无衬底支撑的悬空厚金波带片透镜的制备方法。其步骤包括：在Si衬底上旋涂HSQ光刻胶，利用电子束光刻的方法在光刻胶上形成波带片透镜的设计图形作为波带片硅模板的刻蚀掩蔽层，然后在电感耦合等离子体刻蚀系统中进行深反应离子刻蚀形成大高宽比的波带片硅模板，并结合金电镀的工艺在硅模板上电镀具有一定厚度的金，最后去除残余光刻胶掩膜以及去除衬底硅和Au波带片中残余的硅结构，从而得到应用于硬X射线成像领域的大高宽比的悬空金波带片。本发明方法可控性好、工艺稳定，并适用于大高宽比的金属结构的制备。
-
-
-
-
-
Search Results
6
records
(took 0.012 seconds)
