伪金属帽和再分布线的路由设计

    公开(公告)号:CN108400122B

    公开(公告)日:2020-01-03

    申请号:CN201710482330.2

    申请日:2017-06-22

    Abstract: 一种封装件包括第一介电层,位于第一介电层上方且附接至第一介电层的器件管芯,有源贯通孔和伪贯通孔以及密封器件管芯、有源贯通孔和伪贯通孔的密封材料。封装件还包括位于器件管芯、有源贯通孔和伪贯通孔上方并与其接触的第二介电层。有源金属帽位于第二介电层上方并与第二介电层接触并电连接至有源贯通孔。有源金属帽与有源贯通孔重叠。伪金属帽位于第二介电层上方并接触第二介电层。伪金属帽与伪贯通孔重叠。通过间隙将伪金属帽分成第一部分和第二部分。再分布线穿过伪金属帽的第一部分和第二部分之间的间隙。本发明实施例涉及伪金属帽和再分布线的路由设计。

    伪金属帽和再分布线的路由设计

    公开(公告)号:CN108400122A

    公开(公告)日:2018-08-14

    申请号:CN201710482330.2

    申请日:2017-06-22

    Abstract: 一种封装件包括第一介电层,位于第一介电层上方且附接至第一介电层的器件管芯,有源贯通孔和伪贯通孔以及密封器件管芯、有源贯通孔和伪贯通孔的密封材料。封装件还包括位于器件管芯、有源贯通孔和伪贯通孔上方并与其接触的第二介电层。有源金属帽位于第二介电层上方并与第二介电层接触并电连接至有源贯通孔。有源金属帽与有源贯通孔重叠。伪金属帽位于第二介电层上方并接触第二介电层。伪金属帽与伪贯通孔重叠。通过间隙将伪金属帽分成第一部分和第二部分。再分布线穿过伪金属帽的第一部分和第二部分之间的间隙。本发明实施例涉及伪金属帽和再分布线的路由设计。

    导电图案及集成扇出型封装件

    公开(公告)号:CN107452700B

    公开(公告)日:2022-10-28

    申请号:CN201710075202.6

    申请日:2017-02-10

    Abstract: 一种导电图案,其包括:导电垫,包括圆形垫部及连接至圆形垫部的第一收敛部,第一收敛部具有一对不平行的第一边缘,不平行的第一边缘界定第一锥度角,且不平行的第一边缘由圆形垫部的一对不平行的第一切线界定;以及缓冲延伸部,连接至导电垫的第一收敛部,缓冲延伸部至少包括具有一对不平行的第二边缘的第二收敛部,不平行的第二边缘界定第二锥度角,第一锥度角大于或等于第二锥度角。

    半导体封装
    9.
    实用新型

    公开(公告)号:CN220873557U

    公开(公告)日:2024-04-30

    申请号:CN202322344199.7

    申请日:2023-08-30

    Abstract: 本实用新型提供一种包括具有一或多个凹口的环结构的半导体封装。所述半导体封装可包括:衬底;第一封装组件,接合至衬底,其中第一封装组件可包括第一半导体晶粒;环结构,贴合至衬底,其中环结构在俯视图中可包围第一封装组件;以及盖结构,贴合至环结构。环结构可包括:第一段,沿衬底的第一边缘延伸;以及第二段,沿衬底的第二边缘延伸。第一段与第二段可在环结构的第一隅角处交会,且环结构的第一凹口可设置于环结构的第一隅角处。通过在环结构的选择位置处设置凹口,可防止或减少粘合剂自盖结构及环结构的分层,而可提高半导体封装的长期可靠性。

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