半导体器件和形成方法
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113451510A

    公开(公告)日:2021-09-28

    申请号:CN202110230854.9

    申请日:2021-03-02

    Abstract: 一种半导体器件包括衬底、位于该衬底上的第一导电层、第一导电通孔,以及位于该第一导电通孔与该衬底之间的另外的导电层和导电通孔。该第一导电通孔位于衬底与第一导电层之间,并且电连接到第一导电层。该第一导电通孔延伸穿过至少两个介电层,并且具有大于约8千埃的厚度。具有高品质因子的电感器形成在第一导电层中,并且还包括第一导电通孔。本发明的实施例还涉及形成半导体器件的方法。

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