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公开(公告)号:CN102456665B
公开(公告)日:2016-06-08
申请号:CN201110312112.7
申请日:2011-10-14
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: H01L23/528 , H01L27/08 , H01L21/768 , H01L21/02
CPC classification number: H01G4/005 , H01L23/5223 , H01L28/60 , H01L2924/0002 , Y10T29/43 , H01L2924/00
Abstract: 用于金属-氧化物-金属电容器的保护结构,一种电容器结构包括第一组电极、第二组电极以及多个线插头。第一组电极具有第一电极和第二电极,第一电极和第二电极形成在多个金属化层中的第一金属化层中,其中,第一电极和第二电极通过绝缘材料间隔开。第二组电极具有第三电极和第四电极,第三电极和第四电极形成在多个金属化层中的第二金属化层中,其中,第三电极和第四电极通过绝缘材料间隔开。多个线插头将第二组电极连接到第一组电极。
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公开(公告)号:CN113451510A
公开(公告)日:2021-09-28
申请号:CN202110230854.9
申请日:2021-03-02
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: H01L49/02
Abstract: 一种半导体器件包括衬底、位于该衬底上的第一导电层、第一导电通孔,以及位于该第一导电通孔与该衬底之间的另外的导电层和导电通孔。该第一导电通孔位于衬底与第一导电层之间,并且电连接到第一导电层。该第一导电通孔延伸穿过至少两个介电层,并且具有大于约8千埃的厚度。具有高品质因子的电感器形成在第一导电层中,并且还包括第一导电通孔。本发明的实施例还涉及形成半导体器件的方法。
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公开(公告)号:CN102456665A
公开(公告)日:2012-05-16
申请号:CN201110312112.7
申请日:2011-10-14
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: H01L23/528 , H01L27/08 , H01L21/768 , H01L21/02
CPC classification number: H01G4/005 , H01L23/5223 , H01L28/60 , H01L2924/0002 , Y10T29/43 , H01L2924/00
Abstract: 用于金属-氧化物-金属电容器的保护结构,一种电容器结构包括第一组电极、第二组电极以及多个线插头。第一组电极具有第一电极和第二电极,第一电极和第二电极形成在多个金属化层中的第一金属化层中,其中,第一电极和第二电极通过绝缘材料间隔开。第二组电极具有第三电极和第四电极,第三电极和第四电极形成在多个金属化层中的第二金属化层中,其中,第三电极和第四电极通过绝缘材料间隔开。多个线插头将第二组电极连接到第一组电极。
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