一种GaN基反相器及其制备方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117766580A

    公开(公告)日:2024-03-26

    申请号:CN202311604037.0

    申请日:2023-11-28

    Abstract: 本发明涉及一种GaN基反相器,所述GaN基反相器包括外延基底,所述外延基底上开设有沟道隔离槽,所述沟道隔离槽两侧分别设置有E‑mode器件和D‑mode器件,所述E‑mode器件和D‑mode器件之间通过金属连线相连;本发明在D‑mode HEMT器件上应用相同CTL介质层,实现对D‑mode阈值电压的调控,进而影响D‑mode器件的导通电阻,以调控E/D‑mode器件在即将导通和导通状态下的电阻比例,优化反相器的输出摆幅和增益特性;通过调整GaN D‑mode器件阈值电压,优化反相器的输出摆幅和增益特性,最大限度提升了GaN基反相器的工作性能。

    增强型氮化镓p型场效应晶体管及其制备方法

    公开(公告)号:CN120018538A

    公开(公告)日:2025-05-16

    申请号:CN202510163626.2

    申请日:2025-02-14

    Abstract: 本申请涉及一种增强型氮化镓p型场效应晶体管及其制备方法,属于半导体器件技术领域。该制备方法包括步骤:提供最外层为p型氮化镓层的外延片结构,p型氮化镓层中具有二维空穴气;于p型氮化镓层的表面间隔形成源极和漏极;于p型氮化镓层的表面形成栅介质结构,栅介质结构包括依次层叠的空穴隧穿层、空穴俘获层和阻挡层;于栅介质结构的表面形成栅极。通过在p型氮化镓层的表面形成具有空穴隧穿层、空穴俘获层和阻挡层的栅介质结构,对栅极施加负压完成初始化后即可实现器件增强,无需引入刻蚀工艺,从而可降低器件的泄漏电流,提高可靠性。并且,能够精确调控器件的阈值电压,降低电路设计难度,增加氮化镓p型场效应晶体管的可应用场景。

Patent Agency Ranking