光刻加工系统及方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114326327A

    公开(公告)日:2022-04-12

    申请号:CN202111675220.0

    申请日:2021-12-31

    Abstract: 本申请公开了一种光刻加工系统及方法,本申请的光刻加工系统包括光源模块、能量调节模块、光束调制模块、光束整形模块、聚焦模块和位移模块。能量调节模块与光源模块耦合连接;光束调制模块与能量调节模块耦合连接;光束整形模块与光束调制模块耦合连接;聚焦模块与光束整形模块耦合连接,其中,聚焦模块包括平凸柱面透镜;位移模块用于带动待加工样品移动。本申请通过光束整形模块和聚焦模块的处理,能够获得能量均匀分布、面积更大的线光源,从而能够对待加工样品进行均匀烧蚀,能够提高加工效率;同时,利用位移模块带动待加工样品移动,以对下一区域进行加工,从而能够实现大面积微纳结构的制备。

    一种纳米锥形阵列结构及其制备方法

    公开(公告)号:CN112591707B

    公开(公告)日:2024-05-31

    申请号:CN202011482916.7

    申请日:2020-12-15

    Inventor: 徐少林 徐康 胡劲

    Abstract: 本发明涉及一种纳米锥形阵列结构及其制备方法,所述制备方法包括如下步骤:(1)利用超快激光对基底进行加工,之后清洗得到中间基底;(2)将步骤(1)得到的中间基底进行等离子体刻蚀,得到所述纳米锥形阵列结构。本发明提供的方法,采用超快激光在表面制备微纳结构,在等离子体刻蚀过程中并利用微掩模效应在微纳结构区域的增强效果,即利用现有技术中缺陷制备了高深宽比的纳米锥阵列结构,该方法兼容性好、制备区域灵活可控,可极大提升纳米锥阵列结构的制备工艺精度。

    光栅制备方法及光栅制备系统

    公开(公告)号:CN114217369B

    公开(公告)日:2024-05-14

    申请号:CN202111367145.1

    申请日:2021-11-18

    Abstract: 本发明公开了一种光栅制备方法及光栅制备系统。所述光栅制备方法应用于基板,包括:生成激光,激光用于在基板的第一方向扫描生成第一光栅;控制基板移动预设距离,以使激光在基板的第二方向扫描生成第二光栅;其中,第一光栅包括多个第一子光栅,第二光栅包括多个连接光栅和多个第二子光栅;连接光栅的一端与第一光栅连接,连接光栅的另一端与第二子光栅连接。本发明的光栅制备方法能够使得已生成纳米光栅对准位置的光场增强,从而引起新生成的自对准第二纳米光栅与已生成第一纳米光栅的自对准生长及定向拼接,最终实现大面积均匀纳米光栅的制备。

    玻璃三维微结构制备方法和玻璃三维微结构制备装置

    公开(公告)号:CN117983968A

    公开(公告)日:2024-05-07

    申请号:CN202410102933.5

    申请日:2024-01-24

    Abstract: 本申请提出一种玻璃三维微结构制备方法和装置,方法包括:获取待制备的目标三维结构,并根据目标三维结构确定目标曲面;根据目标曲面确定多个目标光点的坐标;根据目标光点的坐标确定与每个目标光点对应的相位;根据所有目标光点的相位确定多个全息相位图;通过全息相位图调制加工光束,以将加工光束先后调制为与每个全息相位图对应的多焦点光斑;通过多焦点光斑烧蚀基材,以在基材内部的每个目标光点的位置形成烧蚀点;对基材进行化学腐蚀,以使烧蚀点连接,形成目标三维结构。本申请通过激光烧蚀配合化学腐蚀,能高效制备三维微结构,通过化学腐蚀降低三维微结构的表面粗糙度,提高其表面的平滑度,可以高效地制备高精度的玻璃三维微结构。

    玻璃微槽加工方法和装置、玻璃制品

    公开(公告)号:CN117428340A

    公开(公告)日:2024-01-23

    申请号:CN202311324833.9

    申请日:2023-10-12

    Abstract: 本申请提出一种玻璃微槽加工方法和装置、玻璃制品。方法包括:根据待加工材料的目标槽型确定对应的第一相位和第二相位;根据第一相位和第二相位确定目标相位图;根据目标相位图对激光进行调制,得到第一光束;将第一光束进行聚焦,形成多焦点光斑,并通过多焦点光斑扫描待加工材料;在扫描的过程中控制待加工材料移动,以在待加工材料形成多个裂纹;对待加工材料进行化学腐蚀,以使多个裂纹连接,形成目标槽型。本申请将闪耀光栅相位和菲涅尔透镜相位叠加后对激光进行调制,形成按目标槽型分布的多焦点光斑,使用光斑扫描待加工材料形成裂纹,再腐蚀待加工材料,使得裂纹区域从待加工材料脱落,形成玻璃微槽,从而精确控制的玻璃微槽的形状。

    纳米阵列制备系统及纳米阵列制备方法

    公开(公告)号:CN114221208A

    公开(公告)日:2022-03-22

    申请号:CN202111367350.8

    申请日:2021-11-18

    Abstract: 本发明公开了一种纳米阵列制备系统及纳米阵列制备方法。其中,纳米阵列制备系统包括:激光器,用于生成激光,并用于在基板的第一路径辐照生成第一纳米阵列;控制器,与激光器连接;位移台,用于承载基板;其中,激光器包括光束整形模块,光束整形模块用于生成平顶线聚焦光束;控制器还用于控制位移台移动预设距离,以使激光在基板的第二路径辐照生成第二纳米阵列;其中第一纳米阵列与第二纳米阵列间呈现交错排布,并在连续扫描中生成类蜂窝状的二维纳米结构。本发明的纳米阵列制备方法能够实现纳米阵列的高效大面积制备。

    激光加工装置、方法及设备

    公开(公告)号:CN114211111A

    公开(公告)日:2022-03-22

    申请号:CN202111352236.8

    申请日:2021-11-16

    Inventor: 徐少林 郭杨 邱佩

    Abstract: 本申请公开了一种激光加工装置、方法及设备。本申请激光加工装置包括液膜厚度控制组件、激光调制组件和聚焦组件。液膜厚度控制组件用于获取液膜厚度,并对液膜厚度进行调整;激光调制组件用于对激光光束进行调制以得到第一光束;聚焦组件用于将第一光束聚焦于覆盖有液膜的待加工材料表面,并对待加工材料进行加工。本申请通过液膜厚度控制组件获取液膜厚度并对液膜厚度进行调整,能够使激光辐射产生的气泡发生非对称湮灭,产生向下的高速微射流,高速微射流携带加工产生的碎屑以及气泡移动,离开加工区域,从而提高加工的质量和加工的效率;此外,调制后的第一光束能够对待加工材料实现高质量加工,提高加工的效率。

    表面具备功能性微纳结构的陶瓷涂层及其制备方法

    公开(公告)号:CN110958994A

    公开(公告)日:2020-04-03

    申请号:CN201880000793.3

    申请日:2018-07-10

    Abstract: 一种陶瓷涂层的制备方法,包括如下步骤:提供烷基树脂溶液;烷基树脂溶液含有烷基树脂;提供基底,将烷基树脂溶液沉积在所述基底上;提供模板,模板的表面设置有第一微纳结构;将模板设置有第一微纳结构的一面与基底沉积有烷基树脂溶液的一面接触、压印处理;将基底与模板分离,然后进行热解处理,得到表面具有第二微纳结构的陶瓷涂层;其中,第一微纳结构和第二微纳结构空间互补。还公开了一种陶瓷涂层。

    玻璃微槽加工方法和系统、玻璃制品

    公开(公告)号:CN117430339A

    公开(公告)日:2024-01-23

    申请号:CN202311307751.3

    申请日:2023-10-10

    Inventor: 徐少林 李峻 仲帅

    Abstract: 本申请提出一种玻璃微槽加工方法和系统、玻璃制品,方法包括:将激光整形为贝塞尔光束;通过贝塞尔光束对玻璃基板进行照射;在照射的过程中控制玻璃基板按照预设路径移动,以使改性线移动形成改性面;将形成改性面后的玻璃基板置于刻蚀溶液进行刻蚀,以在玻璃基板的表面形成目标微槽。本申请仅对目标微槽的槽底角的角平分线所构成的面的位置进行照射,极大缩短了激光扫描时间,同时通过规划玻璃基板沿目标微槽的槽底角的角平分线的轨迹移动,可以灵活地制备不同形状的由玻璃微槽构成的玻璃微结构,利用化学刻蚀的抛光作用,有效提高了玻璃微槽的质量。本申请可以高效、灵活地制备高质量玻璃微槽及由玻璃微槽构成的玻璃微结构。

    纳米阵列制备系统及纳米阵列制备方法

    公开(公告)号:CN114221208B

    公开(公告)日:2023-07-21

    申请号:CN202111367350.8

    申请日:2021-11-18

    Abstract: 本发明公开了一种纳米阵列制备系统及纳米阵列制备方法。其中,纳米阵列制备系统包括:激光器,用于生成激光,并用于在基板的第一路径辐照生成第一纳米阵列;控制器,与激光器连接;位移台,用于承载基板;其中,激光器包括光束整形模块,光束整形模块用于生成平顶线聚焦光束;控制器还用于控制位移台移动预设距离,以使激光在基板的第二路径辐照生成第二纳米阵列;其中第一纳米阵列与第二纳米阵列间呈现交错排布,并在连续扫描中生成类蜂窝状的二维纳米结构。本发明的纳米阵列制备方法能够实现纳米阵列的高效大面积制备。

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