散热装置
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111584442A

    公开(公告)日:2020-08-25

    申请号:CN202010327932.2

    申请日:2020-04-23

    Abstract: 本发明涉及散热领域,尤其是涉及一种散热装置。散热装置包括:底板和延伸部,延伸部从底板的一侧向外延伸,底板上相对于延伸部的另一侧用于与发热件接触;散热装置由碳化硅陶瓷复合材料制成。底板上连接有发热件的另一侧上设有延伸部,使得发热件发出的热量能够被有效的发散,且散热装置由碳化硅陶瓷复合材料制成,能够在达到更好的散热效果的同时,减少散热装置的体积。

    光刻加工系统及方法
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114326327A

    公开(公告)日:2022-04-12

    申请号:CN202111675220.0

    申请日:2021-12-31

    Abstract: 本申请公开了一种光刻加工系统及方法,本申请的光刻加工系统包括光源模块、能量调节模块、光束调制模块、光束整形模块、聚焦模块和位移模块。能量调节模块与光源模块耦合连接;光束调制模块与能量调节模块耦合连接;光束整形模块与光束调制模块耦合连接;聚焦模块与光束整形模块耦合连接,其中,聚焦模块包括平凸柱面透镜;位移模块用于带动待加工样品移动。本申请通过光束整形模块和聚焦模块的处理,能够获得能量均匀分布、面积更大的线光源,从而能够对待加工样品进行均匀烧蚀,能够提高加工效率;同时,利用位移模块带动待加工样品移动,以对下一区域进行加工,从而能够实现大面积微纳结构的制备。

    光栅制备方法及光栅制备系统

    公开(公告)号:CN114217369B

    公开(公告)日:2024-05-14

    申请号:CN202111367145.1

    申请日:2021-11-18

    Abstract: 本发明公开了一种光栅制备方法及光栅制备系统。所述光栅制备方法应用于基板,包括:生成激光,激光用于在基板的第一方向扫描生成第一光栅;控制基板移动预设距离,以使激光在基板的第二方向扫描生成第二光栅;其中,第一光栅包括多个第一子光栅,第二光栅包括多个连接光栅和多个第二子光栅;连接光栅的一端与第一光栅连接,连接光栅的另一端与第二子光栅连接。本发明的光栅制备方法能够使得已生成纳米光栅对准位置的光场增强,从而引起新生成的自对准第二纳米光栅与已生成第一纳米光栅的自对准生长及定向拼接,最终实现大面积均匀纳米光栅的制备。

    纳米阵列制备系统及纳米阵列制备方法

    公开(公告)号:CN114221208A

    公开(公告)日:2022-03-22

    申请号:CN202111367350.8

    申请日:2021-11-18

    Abstract: 本发明公开了一种纳米阵列制备系统及纳米阵列制备方法。其中,纳米阵列制备系统包括:激光器,用于生成激光,并用于在基板的第一路径辐照生成第一纳米阵列;控制器,与激光器连接;位移台,用于承载基板;其中,激光器包括光束整形模块,光束整形模块用于生成平顶线聚焦光束;控制器还用于控制位移台移动预设距离,以使激光在基板的第二路径辐照生成第二纳米阵列;其中第一纳米阵列与第二纳米阵列间呈现交错排布,并在连续扫描中生成类蜂窝状的二维纳米结构。本发明的纳米阵列制备方法能够实现纳米阵列的高效大面积制备。

    一种矢量光束的产生及动态调控装置及方法

    公开(公告)号:CN111142266A

    公开(公告)日:2020-05-12

    申请号:CN201911340564.9

    申请日:2019-12-23

    Abstract: 本发明提供了一种矢量光束的产生及动态调控装置及方法,该装置包括沿光路依次设计的以下部件:激光光源用于产生线偏振高斯光束;功率调节模块用于光束能量调节并将线偏振高斯光束转变成偏振方向固定的线偏振高斯光束;扩束准直模块用于将偏振方向固定的线偏振高斯光束进行扩束和准直;光束调制模块包括液晶相位延迟器和非均匀偏振转换器,液晶相位延迟器用于将入射线偏振高斯光束调制输出为一般椭圆偏振高斯光束,非均匀偏振转换器用于将一般椭圆偏振高斯光束调制为高阶庞加莱球光束或杂化偏振矢量光束。本发明的技术方案结构简单,可提高光束的稳定性,并能实现高阶庞加莱球光束和杂化偏振矢量光束的动态调控功能。

    纳米阵列制备系统及纳米阵列制备方法

    公开(公告)号:CN114221208B

    公开(公告)日:2023-07-21

    申请号:CN202111367350.8

    申请日:2021-11-18

    Abstract: 本发明公开了一种纳米阵列制备系统及纳米阵列制备方法。其中,纳米阵列制备系统包括:激光器,用于生成激光,并用于在基板的第一路径辐照生成第一纳米阵列;控制器,与激光器连接;位移台,用于承载基板;其中,激光器包括光束整形模块,光束整形模块用于生成平顶线聚焦光束;控制器还用于控制位移台移动预设距离,以使激光在基板的第二路径辐照生成第二纳米阵列;其中第一纳米阵列与第二纳米阵列间呈现交错排布,并在连续扫描中生成类蜂窝状的二维纳米结构。本发明的纳米阵列制备方法能够实现纳米阵列的高效大面积制备。

    一种矢量光束的产生及动态调控装置及方法

    公开(公告)号:CN111142266B

    公开(公告)日:2022-05-03

    申请号:CN201911340564.9

    申请日:2019-12-23

    Abstract: 本发明提供了一种矢量光束的产生及动态调控装置及方法,该装置包括沿光路依次设计的以下部件:激光光源用于产生线偏振高斯光束;功率调节模块用于光束能量调节并将线偏振高斯光束转变成偏振方向固定的线偏振高斯光束;扩束准直模块用于将偏振方向固定的线偏振高斯光束进行扩束和准直;光束调制模块包括液晶相位延迟器和非均匀偏振转换器,液晶相位延迟器用于将入射线偏振高斯光束调制输出为一般椭圆偏振高斯光束,非均匀偏振转换器用于将一般椭圆偏振高斯光束调制为高阶庞加莱球光束或杂化偏振矢量光束。本发明的技术方案结构简单,可提高光束的稳定性,并能实现高阶庞加莱球光束和杂化偏振矢量光束的动态调控功能。

    光栅制备方法及光栅制备系统

    公开(公告)号:CN114217369A

    公开(公告)日:2022-03-22

    申请号:CN202111367145.1

    申请日:2021-11-18

    Abstract: 本发明公开了一种光栅制备方法及光栅制备系统。所述光栅制备方法应用于基板,包括:生成激光,激光用于在基板的第一方向扫描生成第一光栅;控制基板移动预设距离,以使激光在基板的第二方向扫描生成第二光栅;其中,第一光栅包括多个第一子光栅,第二光栅包括多个连接光栅和多个第二子光栅;连接光栅的一端与第一光栅连接,连接光栅的另一端与第二子光栅连接。本发明的光栅制备方法能够使得已生成纳米光栅对准位置的光场增强,从而引起新生成的自对准第二纳米光栅与已生成第一纳米光栅的自对准生长及定向拼接,最终实现大面积均匀纳米光栅的制备。

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