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发明公开
光刻加工系统及方法无效

公开(公告)号：CN114326327A

公开(公告)日：2022-04-12

申请号：CN202111675220.0

申请日：2021-12-31

Applicant: 南方科技大学

Inventor： 徐少林 , 乔靖宇 , 黄佳旭 , 徐康 , 黄凌羽

IPC: G03F7/20

Abstract: 本申请公开了一种光刻加工系统及方法，本申请的光刻加工系统包括光源模块、能量调节模块、光束调制模块、光束整形模块、聚焦模块和位移模块。能量调节模块与光源模块耦合连接；光束调制模块与能量调节模块耦合连接；光束整形模块与光束调制模块耦合连接；聚焦模块与光束整形模块耦合连接，其中，聚焦模块包括平凸柱面透镜；位移模块用于带动待加工样品移动。本申请通过光束整形模块和聚焦模块的处理，能够获得能量均匀分布、面积更大的线光源，从而能够对待加工样品进行均匀烧蚀，能够提高加工效率；同时，利用位移模块带动待加工样品移动，以对下一区域进行加工，从而能够实现大面积微纳结构的制备。

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