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公开(公告)号：CN119644534A
公开(公告)日：2025-03-18
申请号：CN202411915249.5
申请日：2024-12-24
Applicant: 北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司 , 中国科学院微电子研究所
IPC: G02B7/00
Abstract: 本发明提供了一种多自由度光束对正调整系统及方法，其中多自由度光束对正调整系统包括光源、对正模块和调整模块，对正模块为矩形框体结构，对正模的左侧板正对光源设置，在对正模块的左侧板和右侧板上均设有圆孔；调整模块包括用于夹持光学元件的夹持组件、用于带动光学元件进行旋转的转台机构、用于进行光学元件的俯仰角度调整的上层调整机构以及用于进行光学元件的摇摆角度调整的下层调整机构，夹持组件安装于转台机构上，转台机构安装于上层调整机构上，上层调整机构安装于下层调整机构上。本发明通过对正模块检验光束是否对正，通过调整模块调整光学元件的姿态，通过对正模块与调整模块的结合实现对测量光路的精确装调定位。
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公开(公告)号：CN117490607A
公开(公告)日：2024-02-02
申请号：CN202311620962.2
申请日：2023-11-30
Applicant: 北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司 , 中国科学院微电子研究所
IPC: G01B11/255
Abstract: 本发明涉及光学测量技术领域，尤其是涉及一种检测柱面曲率半径的装置及方法。检测柱面曲率半径的装置包括测量头，所述测量头用于检测待测柱面镜的曲率半径；所述测量头包括光源、十字分划板、分光镜、准直透镜、中继透镜和CCD相机；所述中继透镜为中继柱面镜。该装置的中继镜头采用柱面镜，则自准直仪的十字刻线经被测元件及柱面的中继透镜等在CCD相机上成清晰的十字像；可以更精确地调节待检元件的倾斜，实现柱面元件曲率半径的高精度检测。
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公开(公告)号：CN118392067A
公开(公告)日：2024-07-26
申请号：CN202410399418.8
申请日：2024-04-03
Applicant: 中国科学院微电子研究所
IPC: G01B11/24 , G03F7/20 , H01L21/033
Abstract: 本说明书实施例提供了一种硅片形貌图构建方法及装置，其中，方法包括：采集硅片表面高度，并沿工作台扫描方向进行平均化处理，绘制硅片高度图；基于所述硅片高度图，进行曝光狭缝区域的平面拟合，绘制硅片形貌图；基于所述硅片形貌图，计算硅片的曝光狭缝区域的拟合平面，并生成工件台垂向运动轨迹。本公开能够针对光刻设备静态曝光应用场景建立硅片表面的形貌图。
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公开(公告)号：CN110940280B
公开(公告)日：2021-08-31
申请号：CN201911212027.6
申请日：2019-11-29
Applicant: 中国科学院微电子研究所
IPC: G01B11/06
Abstract: 一种对焦传感器的校准方法，包括：采集对焦传感器探测的两相互垂直的第一偏振光及第二偏振光分别对应的多个电压信号；分别计算第一偏振光对应的多个电压信号的第一平均值及第二偏振光对应的多个电压信号的第二平均值；根据第一平均值及第二平均值对对焦传感器进行暗电流校准；设定对焦传感器扫描次数M及每次扫描的采样点数N，使对焦传感器根据扫描次数M及采样点数N进行单方向垂直扫描；每次扫描过程中，获取N个对焦传感器的高度值及N个位移测量装置的参考高度值；对M×N个对焦传感器的高度值及M×N个位移测量装置的参考高度值进行多项式拟合，得到多项式系数；根据多项式系数对对焦传感器的高度值进行线性修正。
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公开(公告)号：CN110067493B
公开(公告)日：2020-10-09
申请号：CN201910218689.8
申请日：2019-03-21
Applicant: 中国科学院微电子研究所
Abstract: 本发明提供了一种活动密封装置，应用于具有密封要求和活动开口的系统，包括：活动门，活动门设置在所述系统的腔体外侧，对所述腔体进行密封；十字转盘，十字转盘设置在所述活动门的中心位置，与所述活动门可转动连接；拉杆机构，拉杆机构的一端分别经过所述活动门的四个顶角处与所述腔体连接，另一端所述十字转盘连接；压紧机构，压紧机构设置在所述活动门内侧，位于所述活动门四周边缘处，对腔体进行压紧密封。解决现有技术中活动门密封效果不佳，使用的端面密封存在压力不均匀和压力弱的技术问题，达到了通过一个转盘带动活动门四周的压紧机构同时压紧，保证活动门周边的密封压紧同步性和均匀性，密封效果佳的技术效果。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111624870A
公开(公告)日：2020-09-04
申请号：CN202010616267.9
申请日：2020-06-30
Applicant: 中国科学院微电子研究所
IPC: G05B11/42
Abstract: 一种用于精密运动控制的反演抗积分饱和方法，包括：通过精密运动平台机械台体参考位置和实际位置之间的位置偏差，得到精密运动平台机械台体的控制量；将控制量经过预设饱和环节以及超前饱和环节，判断控制量是否处于即将积分饱和的状态；若控制量处于即将积分饱和的状态，则根据利用预设饱和环节得到的控制量和利用超前饱和环节得到的控制量，得到修正后的控制量；将修正后的控制量发送给预置的驱动器，以利用驱动器根据修正后的控制量驱动精密运动平台机械台体进行定位运动和匀速扫描运动。可抑制积分饱和现象，减小精密运动平台的定位运动和匀速扫描的建立时间。
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公开(公告)号：CN110926340A
公开(公告)日：2020-03-27
申请号：CN201911133007.X
申请日：2019-11-19
Applicant: 中国科学院微电子研究所
IPC: G01B11/02
Abstract: 本发明实施例提供的一种新型光栅尺位移测量装置，包括：操作台，所述操作台包括活动部件和固定部件；光学光栅，所述光学光栅固定连接在所述活动部件或所述固定部件上；数字相机，所述数字相机固定连接在所述固定部件或所述活动部件上；光学镜头，所述光学镜头固定连接在所述数字相机，且位于所述光栅与所述数字相机之间；其中，所述光栅成像在所述数字相机的光学传感器上；光源，所述光源为所述光学镜头提供照明。与传统光栅尺相比，本发明不需要传统光栅尺中的指示光栅，结构简单。解决了现有技术中高精密位移测量设备结构复杂、造价不菲，工作环境要求严格的技术问题。达到了在保证大尺度、微纳米级测量的同时，降低设备成本，结构简单且应用场合更加广泛的技术效果。
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公开(公告)号：CN107170002A
公开(公告)日：2017-09-15
申请号：CN201710307961.0
申请日：2017-05-04
Applicant: 中国科学院微电子研究所
Abstract: 本发明涉及图像采集技术领域，尤其涉及一种图像自动对焦方法和设备。所述方法包括：获得第一图像，根据所述第一图像获得第一目标图像；根据所述第一目标图像获得第一显著区域图像；获得所述第一显著区域图像的最小外接矩形区域；将所述最小外接矩形区域确定为对焦窗口区域，其中，所述对焦窗口区域中包括第二图像；根据所述第二图像获得第二目标图像，根据像素灰度值和像素灰度平均值获得所述第二目标图像的对焦评价函数的值；根据所述对焦评价函数的极值获得第三目标图像。通过上述技术方案，解决了现有图像对焦技术扫描采集时间长，对焦灵敏度低的技术问题，具有使SEM快速、精密对焦的技术效果。
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公开(公告)号：CN119601503A
公开(公告)日：2025-03-11
申请号：CN202411691518.4
申请日：2024-11-25
Applicant: 中国科学院微电子研究所
Abstract: 本发明提供了一种光学元件表面颗粒检测及清洁装置，包括低真空层流环境模块、颗粒检测模块、颗粒清洁模块和位移台模块，其中低真空层流环境模块包括工作腔室和层流低真空控制单元；颗粒检测模块包括第一聚光镜、第二聚光镜、激光发射组件和激光反馈检测组件，第一聚光镜、第二聚光镜和激光反馈检测组件分别设置于工作腔室内；颗粒清洁模块包括脉冲激光发射组件、扩束器和会聚透镜，扩束器和会聚透镜分别设置于工作腔室内；位移台模块设置于工作腔室内，位移台模块用于承载光学元件在工作腔室移动，以实现对光学元件上颗粒物的检测及清洁。本发明能够在半导体装备内部实现光学元件的原位检测及清洁，能够避免清洁后出现再次污染的问题。
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公开(公告)号：CN118246195A
公开(公告)日：2024-06-25
申请号：CN202410204049.2
申请日：2024-02-23
Applicant: 中国科学院微电子研究所
Abstract: 本公开提供了一种套刻误差量测设备的仿真优化方法和装置，该方法包括：建立套刻误差量测设备的物理光学模型并进行仿真运行；获取所述物理光学模型的仿真运行结果，并根据所述仿真运行结果确定所述套刻误差量测设备的性能指标；根据所述性能指标，对物理光学模型的设备参数进行优化。本公开通过建立量测设备的物理光学模型，利用物理光学仿真过程，计算不同套刻标记和量测设备参数的套刻误差及各项性能指标，然后通过性能指标的仿真结果优化量测设备的各项设备参数，从而提高套刻误差的测量精度和工艺适应性，并有效缩短优化周期，降低优化成本。
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