-
公开(公告)号:CN110926340A
公开(公告)日:2020-03-27
申请号:CN201911133007.X
申请日:2019-11-19
Applicant: 中国科学院微电子研究所
IPC: G01B11/02
Abstract: 本发明实施例提供的一种新型光栅尺位移测量装置,包括:操作台,所述操作台包括活动部件和固定部件;光学光栅,所述光学光栅固定连接在所述活动部件或所述固定部件上;数字相机,所述数字相机固定连接在所述固定部件或所述活动部件上;光学镜头,所述光学镜头固定连接在所述数字相机,且位于所述光栅与所述数字相机之间;其中,所述光栅成像在所述数字相机的光学传感器上;光源,所述光源为所述光学镜头提供照明。与传统光栅尺相比,本发明不需要传统光栅尺中的指示光栅,结构简单。解决了现有技术中高精密位移测量设备结构复杂、造价不菲,工作环境要求严格的技术问题。达到了在保证大尺度、微纳米级测量的同时,降低设备成本,结构简单且应用场合更加广泛的技术效果。
-
公开(公告)号:CN104181777B
公开(公告)日:2016-03-09
申请号:CN201410374962.3
申请日:2014-07-31
Applicant: 中国科学院微电子研究所
Abstract: 本发明公开了一种调焦调平传感器测量装置,涉及测量技术领域,用于测量带有工艺的硅片的高度形貌,该装置包括可调谐光源、测试光栅、第一成像系统、第二成像系统、参考光栅、探测器、工件台和计算机。该装置能够对于待测硅片上涂覆某种光刻胶或者具有某种结构时,自动计算测量高度对所述光刻胶或结构不敏感的光源光谱,相应调整光源的频率和带宽,以及探测器的响应范围,使调焦调平传感器的高度测量工艺相关性最小。在光刻曝光时,工件台将根据硅片形貌实时调节它的高度和倾斜,保证曝光区域保持在光刻机的对焦范围内,达到调焦调平的目的。
-
公开(公告)号:CN103108480B
公开(公告)日:2015-09-23
申请号:CN201210479101.2
申请日:2012-11-22
Applicant: 中国科学院微电子研究所
Abstract: 本发明公开了一种EUV光源污染物收集装置,应用于X射线或者EUV发光装置,其中,所述EUV发光装置包括:一激光源,一真空腔,一集光镜,一喷嘴,其中,EUV光源污染物收集装置包括:一收集罩,收集罩位于真空腔内,用于在激光束打击靶材后收集靶材碎片,减少对EUV光源及其相连光刻机的污染;一储存装置,储存装置位于真空腔的下方,储存装置用于收集靶材和/或污染物。本发明的EUV光源污染物收集装置能够减少靶材碎片等污染物对EUV光源及其相连光刻机的污染,提高其使用寿命,同时降低污染物对EUV光的吸收,大幅度提高EUV光源的效率。本发明能够回收并循环利用靶材,因此能够大幅度提高靶材的利用效率。
-
公开(公告)号:CN104390605A
公开(公告)日:2015-03-04
申请号:CN201410718598.8
申请日:2014-12-01
Applicant: 中国科学院微电子研究所
Abstract: 本发明涉及半导体制造与检测技术领域,尤其涉及一种垂向调整装置。所述垂向调整装置包括:反射镜,用于将高度形貌探测装置投影光学部分的测量光束反射到检测光学部分;垂向运动机构,反射镜设置在垂向运动机构上表面,垂向运动机构承载反射镜在垂直方向进行上下往复运动;支撑底板,垂向运动机构设置在支撑底板上;至少3个固紧安装机构,固紧安装机构一端固定在支撑底板上,另一端与硅片高度形貌探测装置的计量框架固定连接,固紧安装机构使得反射镜的上表面与计量框架的基准平面平行。本发明利用垂向运动机构的位置反馈信号对测量获得的高度信号进行校准和标定,从而实现对高度探测装置的调整和校准。
-
公开(公告)号:CN104181777A
公开(公告)日:2014-12-03
申请号:CN201410374962.3
申请日:2014-07-31
Applicant: 中国科学院微电子研究所
Abstract: 本发明公开了一种调焦调平传感器测量装置,涉及测量技术领域,用于测量带有工艺的硅片的高度形貌,该装置包括可调谐光源、测试光栅、第一成像系统、第二成像系统、参考光栅、探测器、工件台和计算机。该装置能够对于待测硅片上涂覆某种光刻胶或者具有某种结构时,自动计算测量高度对所述光刻胶或结构不敏感的光源光谱,相应调整光源的频率和带宽,以及探测器的响应范围,使调焦调平传感器的高度测量工艺相关性最小。在光刻曝光时,工件台将根据硅片形貌实时调节它的高度和倾斜,保证曝光区域保持在光刻机的对焦范围内,达到调焦调平的目的。
-
公开(公告)号:CN104345422A
公开(公告)日:2015-02-11
申请号:CN201410643329.X
申请日:2014-11-07
Applicant: 中国科学院微电子研究所
IPC: G02B7/02
Abstract: 本发明公开了一种光学元件的精密对心粘胶装置,所述装置用于将第一镜片对心粘胶于镜筒,所述装置包括:底座、V型或U型导轨、第一镜片夹持定位机构和第一锁紧机构;V型或U型导轨垂直固定在底座上;第一镜片夹持定位机构用于夹持第一镜片,第一镜片夹持定位机构与V型或U型导轨连接,并可带动第一镜片沿V型或U型导轨移动;第一锁紧机构用于将镜筒固定在V型或U型导轨上;其中第一镜片夹持定位机构与镜筒同轴;第一镜片夹持定位机构用于将第一镜片送入镜筒中,使第一镜片与镜筒接触并同轴对心进行粘胶。本发明通过镜片和镜片夹持定位机构同轴以及镜筒和镜片夹持定位机构同轴,保证镜筒和所述镜片同轴对心,并且对心精确,操作简单。
-
公开(公告)号:CN105466359A
公开(公告)日:2016-04-06
申请号:CN201511020844.3
申请日:2015-12-30
Applicant: 中国科学院微电子研究所
IPC: G01B11/25
CPC classification number: G01B11/254
Abstract: 本发明公开了一种精密面型测量装置,该装置包括光源、投影光栅、第一双远心系统、第二双远心系统、检测光栅组件、空间分光系统、第一探测器、第二探测器、处理单元。其中,该装置利用检测光栅组件将一个光栅莫尔条纹分裂为两个位相差恒定的莫尔条纹,并利用空间分光系统将该两个莫尔条纹从空间上完全分开,成像到一对探测器上,并根据第一莫尔条纹光强I1和第二莫尔条纹光强I2获得所述被测量物体表面高度。该装置对测量光强变化不敏感,提高了测量系统对被测量表面材料和工艺的适应性。
-
公开(公告)号:CN104375254A
公开(公告)日:2015-02-25
申请号:CN201410676554.3
申请日:2014-11-21
Applicant: 中国科学院微电子研究所
IPC: G02B7/02
Abstract: 本发明涉及光学技术领域,尤其涉及一种平凸透镜对心安装装置,用于将平凸透镜对心安装在透镜筒内,所述安装装置包括:前定心筒,平凸透镜与前定心筒通过配合面重合保证同轴对心;后定心筒,后定心筒位于前定心筒的后方,前定心筒与后定心筒通过配合面重合保证同心;后定心筒的后端为导向杆;底座,底座中间设有导向孔,导向杆位于导向孔内并可在导向孔内滑动,导向杆的外壁与导向孔的内壁相配合;后定心筒与底座同轴对心;施压机构,施压机构通过推动后定心筒向前定心筒和平凸透镜施力;定位机构,透镜筒通过定位机构与底座固定连接,使得所述透镜筒与所述底座同轴对心。本发明结构简单,对心精度高,还可保护透镜光学面。
-
公开(公告)号:CN103955124A
公开(公告)日:2014-07-30
申请号:CN201410185976.0
申请日:2014-05-05
Applicant: 中国科学院微电子研究所
IPC: G03F9/00
Abstract: 本发明公开了一种光学精密系统的对准装置,涉及精密仪器技术领域,其中,本发明通过在第一物体上设置第一对准标记,在第二物体上设置第二对准标记,利用照明系统给所述第一物体上的第一对准标记提供照明,利用成像系统将第一物体上的第一对准标记成像在第二物体表面后形成第三对准标记,且第二对准标记及第三对准标记在第二物体表面重叠后形成第一图像。进而利用观测系统中的成像模块、聚束模块将包含多组、离散分布的对准标记的第一图像会聚后,形成第二图像,由单个探测模块和处理模块接收、处理,实现多通道对准标记实时、统一显示和调整,从而实现第一物体和第二物体的位置精确对准。达到了对准精度高、操作便捷的技术效果。
-
公开(公告)号:CN103108480A
公开(公告)日:2013-05-15
申请号:CN201210479101.2
申请日:2012-11-22
Applicant: 中国科学院微电子研究所
Abstract: 本发明公开了一种EUV光源污染物收集装置,应用于X射线或者EUV发光装置,其中,所述EUV发光装置包括:一激光源,一真空腔,一集光镜,一喷嘴,其中,EUV光源污染物收集装置包括:一收集罩,收集罩位于真空腔内,用于在激光束打击靶材后收集靶材碎片,减少对EUV光源及其相连光刻机的污染;一储存装置,储存装置位于真空腔的下方,储存装置用于收集靶材和/或污染物。本发明的EUV光源污染物收集装置能够减少靶材碎片等污染物对EUV光源及其相连光刻机的污染,提高其使用寿命,同时降低污染物对EUV光的吸收,大幅度提高EUV光源的效率。本发明能够回收并循环利用靶材,因此能够大幅度提高靶材的利用效率。
-
-
-
-
-
-
-
-
-