数据处理方法及装置
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN110850692B

    公开(公告)日:2022-02-11

    申请号:CN201911211405.9

    申请日:2019-11-29

    Abstract: 一种数据处理方法,应用于集成电路技术领域,包括:利用双通道交替采集光强信号,对该双通道采集到的光强信号分别进行解调、滤波和归一化处理,得到多个数据包,利用并行计算方法,对各数据包分别进行数据拟合,得到各数据包的对准标记位置值,对该各数据包的对准标记位置值进行位置数据融合,得到对准位置。本申请还公开了一种光刻机对准系统,可提高对准位置解算的精度和计算速度。

    一种基于空间分光的形貌测量装置及方法

    公开(公告)号:CN111678460A

    公开(公告)日:2020-09-18

    申请号:CN202010564425.0

    申请日:2020-06-18

    Abstract: 本发明提供了一种基于空间分光的形貌测量装置及方法。所述装置包括:沿光路顺次设置的照明模组、投影光栅模组、投影光学模组、探测光学模组、探测光栅模组、分光成像模组和数据采集模组;其中,在所述投影光学模组与所述探测光学模组之间的光学通路上设置待测样品,在所述探测光栅模组前设置偏振片和分光晶体,所述分光成像模组通过Wollaston棱镜实现分光。具有无差分信号时延、对测量装置内部热环境影响较小、后端解调电路简单等优点,有效降低测量装置对光强波动的敏感性。

    基于OpenVPX架构的测控系统同步控制系统

    公开(公告)号:CN110968000A

    公开(公告)日:2020-04-07

    申请号:CN201911211916.0

    申请日:2019-11-28

    Abstract: 本发明公开了一种基于OpenVPX架构的测控系统同步控制系统,包括:硅片对准测量分系统,内置有对准测量并行计算板卡;工件台位置测量分系统,与硅片对准测量分系统通过光纤数据通道和外同步总线实现互连;以及系统同步控制时序,基于操作系统并结合硅片对准测量分系统和工件台位置测量分系统共同实现同步控制。本发明提供的该基于OpenVPX架构的测控系统同步控制系统,具有灵活的网络拓扑结构,能够完成测控系统精确的同步控制和高精度并行计算。

    对焦传感器的校准方法
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110940280A

    公开(公告)日:2020-03-31

    申请号:CN201911212027.6

    申请日:2019-11-29

    Abstract: 一种对焦传感器的校准方法,包括:采集对焦传感器探测的两相互垂直的第一偏振光及第二偏振光分别对应的多个电压信号;分别计算第一偏振光对应的多个电压信号的第一平均值及第二偏振光对应的多个电压信号的第二平均值;根据第一平均值及第二平均值对对焦传感器进行暗电流校准;设定对焦传感器扫描次数M及每次扫描的采样点数N,使对焦传感器根据扫描次数M及采样点数N进行单方向垂直扫描;每次扫描过程中,获取N个对焦传感器的高度值及N个位移测量装置的参考高度值;对M×N个对焦传感器的高度值及M×N个位移测量装置的参考高度值进行多项式拟合,得到多项式系数;根据多项式系数对对焦传感器的高度值进行线性修正。

    用于EUV真空环境中的光传输装置及光刻机

    公开(公告)号:CN110908249A

    公开(公告)日:2020-03-24

    申请号:CN201911212715.2

    申请日:2019-11-29

    Abstract: 一种用于EUV真空环境中的光传输装置及光刻机,用于EUV真空环境中的光传输装置包括:光纤连接器,设置通孔;通光介质,设置于所述光纤连接器的通孔内;两光纤束,分别连接于所述光纤连接器的两侧,且两所述光纤束分别与所述通光介质的中心对准,实现分段的光纤束之间的光的传输。本发明设计两段光纤束来解决整根光纤束不利于装配、维护以及存在断纤的风险的问题;通过光纤连接器以及光纤连接器上设置的通光介质实现两段光纤束的导通,连接方式可靠,并且应用于EUV光刻机中,解决了真空腔内外光传输的问题,提高了光纤束与光刻机的连接可靠性,降低了维修风险。

    用于光刻机调焦调平系统的光电探测器及其使用方法

    公开(公告)号:CN110967943B

    公开(公告)日:2022-02-08

    申请号:CN201911212045.4

    申请日:2019-11-28

    Abstract: 一种用于光刻机调焦调平系统的光电探测器及其使用方法,光电探测器包括:光电转换模块,用于将光刻机调焦调平系统产生的测量光转换为多路模拟电信号;同步模数转换模块,用于分别将光电转换模块输出的多路模拟电信号转换为多路数字电信号;工件台同步模块,用于将一光刻机工件台的位置脉冲信号发送至主控模块;以及主控模块,用于接收工件台同步模块的位置脉冲信号,并根据位置脉冲信号驱动光电转换模块和同步模数转换模块,以及同步接收并处理同步模数转换模块的多路数字电信号。本发明在当光刻机工件台运动至指定位置时,能使所有采集通道同时接收控制指令,同步采集所有通道的光强值,解决了现有分时采集方式的时延误差问题。

    自参考干涉仪棱镜的退偏补偿方法

    公开(公告)号:CN112539696A

    公开(公告)日:2021-03-23

    申请号:CN202011374250.3

    申请日:2020-11-30

    Abstract: 本公开提供了一种自参考干涉仪棱镜的退偏补偿方法,包括:自参考干涉仪棱镜中作为反射面的屋脊面一、屋脊面二、底面一、屋脊面三、屋脊面四和底面二上镀有反射面膜层;根据反射面膜层的光学参数,计算其折射率;入射光入射到自参考干涉仪棱镜和反射面膜层的分界面时,分解为P偏振分量和S偏振分量,根据反射面膜层和自参考干涉仪棱镜的折射率,计算出射光的P偏振分量和S偏振分量在自参考干涉仪棱镜内反射产生的相位差和光强;出射光的椭圆度和光强作为评价参数,评价自参考干涉仪棱镜的退偏补偿效果。本公开通过偏振光的琼斯矩阵追迹并以出射光的椭圆度和光强作为评价参数,为反射面膜层参数的优化和效果评价提供了依据和实际可操作性。

    一种用于精密运动控制的反演抗积分饱和方法

    公开(公告)号:CN111624870A

    公开(公告)日:2020-09-04

    申请号:CN202010616267.9

    申请日:2020-06-30

    Abstract: 一种用于精密运动控制的反演抗积分饱和方法,包括:通过精密运动平台机械台体参考位置和实际位置之间的位置偏差,得到精密运动平台机械台体的控制量;将控制量经过预设饱和环节以及超前饱和环节,判断控制量是否处于即将积分饱和的状态;若控制量处于即将积分饱和的状态,则根据利用预设饱和环节得到的控制量和利用超前饱和环节得到的控制量,得到修正后的控制量;将修正后的控制量发送给预置的驱动器,以利用驱动器根据修正后的控制量驱动精密运动平台机械台体进行定位运动和匀速扫描运动。可抑制积分饱和现象,减小精密运动平台的定位运动和匀速扫描的建立时间。

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