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公开(公告)号：CN118835197A
公开(公告)日：2024-10-25
申请号：CN202310453160.0
申请日：2023-04-25
Applicant: 化学与精细化工广东省实验室潮州分中心 , 武汉理工大学
Abstract: 本发明公开了一种高硬度、低摩擦多层梯度类金刚石薄膜，以单面抛光的硅片与YG8硬质合金为基底的材料，其特征在于：所述基底上沉积打底层后呈梯度依次沉积Ta连接层、TaN硬质层、Ta(C,N)过渡层与Ta‑DLC减摩层而构成，其中，打底层的材料为Ti，连接层材料为Ta，硬质层材料为TaN，过渡层材料为Ta(C,N)，减摩层材料为Ta‑DLC。本发明还公开了一种制备上述的高硬度、低摩擦多层梯度类金刚石薄膜的制备方法。本发明的一种高硬度、低摩擦多层梯度类金刚石薄膜及其制备方法获得的制品具有良好的综合力学性能，其作为刀具涂层，TaN层为复合涂层提供了较硬的支撑，而Ta‑DLC内因为有较多非晶碳结构让其拥有更优异的摩擦学性能，更适合工业切削刀具的表面改性，具有推广价值。
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公开(公告)号：CN113718216A
公开(公告)日：2021-11-30
申请号：CN202110955085.9
申请日：2021-08-19
Applicant: 中山市气相科技有限公司 , 中山市武汉理工大学先进工程技术研究院 , 化学与精细化工广东省实验室潮州分中心
IPC: C23C14/35 , C23C14/32 , C23C14/06 , C04B35/563 , C04B35/58 , C04B35/653
Abstract: 本发明公开了一种三元共晶靶材及其制备方法，包括A组分、B组分和C组分粉末，A组分含量为30～50mol％，B组分含量为10～50mol％，C组分含量为20～40mol％，所述A组分为B4C粉末，B组分为TiB2、ZrB2、HfB2、TaB2或NbB2粉末，C组分为SiC粉末。本发明制备的共晶靶材具有更高的致密度，含有更多的元素种类，相分散更均匀，单个靶材就可以引入四种元素，能够减少多元涂层制备时所需工作靶位的数量，降低了镀膜的功耗以及镀膜装备的成本；本发明三元共晶靶材具有良好的导电导热性，可作为常用物理气相沉积技术的靶材使用；同时，靶材自身已具有高硬度、高韧性，使用本发明制备的靶材进行涂层制备时，无需额外加入氮气、乙炔等反应气体，即可使制备的涂层具备与靶材相同的优异性能。
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公开(公告)号：CN119757664A
公开(公告)日：2025-04-04
申请号：CN202510097760.7
申请日：2025-01-22
Applicant: 化学与精细化工广东省实验室潮州分中心 , 武汉理工大学
IPC: G01N33/00 , G01N27/416 , G01N30/00
Abstract: 本发明公开了一种基于第一性原理提高氧化镓氢气传感的方法，包括如下步骤：S1.构建实验晶面的超胞模型，S2.构建H2吸附活化前的晶体结构模型，S3.吸附活化测试，S4.比较晶体结构模型在H2吸附活化前后的电子结构与物理参数的前后差异，并判断H2传感响应差异，从而提高氧化镓的氢气传感效果。本发明的一种基于第一性原理提高氧化镓氢气传感的方法采用第一性原理计算，可从原子和电子尺度揭示β‑Ga2O3材料对H2的吸附与活化的具体机理，明确了β‑Ga2O3化学活性晶面，解决目前氧化镓材料应用在中高温H2传感中晶面活性机理不明确的问题，有效的给予中高温H2传感理论指导。
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公开(公告)号：CN119615077A
公开(公告)日：2025-03-14
申请号：CN202411834443.0
申请日：2024-12-13
Applicant: 化学与精细化工广东省实验室潮州分中心 , 武汉理工大学
Abstract: 本发明公开了一种高硬度、低摩擦多层复合刀具涂层及其制备方法，该高硬度、低摩擦多层复合刀具涂层由多弧离子镀和高功率脉冲磁控溅射共沉积技术制备，其结构为Ti打底层，TiN过渡层以及交替沉积的TiSiN硬质支撑层和TiSi‑DLC减摩层。本发明的一种高硬度、低摩擦多层复合刀具涂层及其制备方法通过涂层交替沉积设计，有效平衡了层间内应力，提升了涂层与基体的结合力，契合工业切削刀具表面改性需求，同时通过改变调制周期，进一步提升涂层的综合力学性能，具有推广价值。
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公开(公告)号：CN119026275A
公开(公告)日：2024-11-26
申请号：CN202411293206.8
申请日：2024-09-14
Applicant: 化学与精细化工广东省实验室潮州分中心 , 武汉理工大学
IPC: G06F30/17 , G06F30/23 , G16C60/00 , G06F119/14
Abstract: 本发明通过设计材料选定、切削实验、建立仿真模型、切削仿真、结果分析以及刀具设计等步骤，结合应力波分析与计算提出了一种新的基于应力波传播的刀具涂层动力学的设计方法。本发明的一种基于应力波传播的刀具涂层动力学设计方法通过对切削过程中产生的冲击应力，通过切削仿真，并结合应力波分析，从而筛选出与实际高速切削的动态环境相契合的刀具涂层，有效避免刀具涂层在间歇式冲击载荷过程中因应力波无法快速达到应力平衡状态而造成的疲劳开裂、拉伸断裂和分层脱落等问题，有效的延长了刀具涂层的使用寿命与切削效果的稳定性。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113718206B
公开(公告)日：2023-03-07
申请号：CN202110969248.9
申请日：2021-08-23
Applicant: 中山市气相科技有限公司 , 中山市武汉理工大学先进工程技术研究院 , 化学与精细化工广东省实验室潮州分中心
Abstract: 本发明涉及一种具有三明治结构的TaTiN多层薄膜的制备方法，采用工业级多弧离子镀系统在优选工艺条件下制备三明治结构的TaTiN多层薄膜，该薄膜的多层结构设计使薄膜呈非柱状结构生长，并且多层结构提供的大量界面在腐蚀条件下形成的致密氧化钝化膜能有效阻止腐蚀的进一步渗透，从而明显提高材料的抗腐蚀性能。本发明方法重复性高，易于控制，自动化程度高，便于大规模生产，可应用于海洋、化工等抗腐蚀领域。
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公开(公告)号：CN113718206A
公开(公告)日：2021-11-30
申请号：CN202110969248.9
申请日：2021-08-23
Applicant: 中山市气相科技有限公司 , 中山市武汉理工大学先进工程技术研究院 , 化学与精细化工广东省实验室潮州分中心
Abstract: 本发明涉及一种具有三明治结构的TaTiN多层薄膜的制备方法，采用工业级多弧离子镀系统在优选工艺条件下制备三明治结构的TaTiN多层薄膜，该薄膜的多层结构设计使薄膜呈非柱状结构生长，并且多层结构提供的大量界面在腐蚀条件下形成的致密氧化钝化膜能有效阻止腐蚀的进一步渗透，从而明显提高材料的抗腐蚀性能。本发明方法重复性高，易于控制，自动化程度高，便于大规模生产，可应用于海洋、化工等抗腐蚀领域。
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公开(公告)号：CN113716965A
公开(公告)日：2021-11-30
申请号：CN202110956573.1
申请日：2021-08-19
Applicant: 中山市气相科技有限公司 , 中山市武汉理工大学先进工程技术研究院 , 化学与精细化工广东省实验室潮州分中心
IPC: C04B35/563 , C04B35/565 , C04B35/58 , C04B35/622 , C04B35/653 , C23C14/32 , C23C14/35
Abstract: 本发明公开了一种二元共晶靶材及其制备方法，包括A组分与B组分，所述A组分可为SiC或B4C，B组分可为TiB2、ZrB2、HfB2、TaB2或NbB2，初始A组分含量为30mol％～90mol％，余量为B组分。相较于固相烧结制备的多组分靶材，本发明制备的共晶靶材更加致密，元素种类更多，相分散更均匀，制备过程更简单，制备效率更高；相较于B、C、Si、SiC、B4C等材料，本发明具有良好的导电导热性，使用时不会因导电性和导热性差影响沉积；靶材自身已具有高硬度、高韧性，使用本发明制备的靶材进行涂层制备时，无需氮气、乙炔等反应气体，可使制备的涂层具备靶材相同的优异性能。本发明既可作为单独的多组分靶材使用，也可作为单质金属靶的掺杂靶材进行使用。
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公开(公告)号：CN118610161A
公开(公告)日：2024-09-06
申请号：CN202410911694.8
申请日：2024-07-09
Applicant: 化学与精细化工广东省实验室潮州分中心 , 武汉理工大学 , 武汉工程大学
IPC: H01L21/768 , H01L23/532 , C23C14/35 , C23C14/16 , C23C14/04
Abstract: 本发明公开了一种铜互连集成电路的扩散阻挡层及其制备方法，提出新型非晶夹结晶三层结构扩散阻挡层，首先在Si或low‑K衬底上沉积一层非晶态二元合金层，其次在非晶态合金层上沉积结晶态合金层，最后在结晶态合金层上再沉积一层非晶态合金层，进而制备成三层结构的扩散阻挡层。本发明的一种铜互连集成电路的扩散阻挡层采用二元合金构建，相较于传统的氮化物陶瓷阻挡层来说与Cu的热膨胀系数更适配，且粘附性好，结合力强，无需再沉积金属粘附层；其制备方法采用双靶磁控溅射系统沉积扩散阻挡层，只需要调控双靶的溅射功率调控溅射元素的成分比以制备不同结晶形态的二元合金薄膜，沉积过程无需对系统中的原料进行更换调整，工艺简单，操作便捷。
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公开(公告)号：CN118374767A
公开(公告)日：2024-07-23
申请号：CN202410609892.9
申请日：2024-05-16
Applicant: 化学与精细化工广东省实验室潮州分中心 , 武汉理工大学
Abstract: 本发明提供了一种用于大长径比管材的磁控溅射装置及其镀膜方法。磁控溅射装置包括管材、电动滑轨、键钮、进气管道、环形靶系统、滑轨传动装置以及真空系统：管材具有腔体；电动滑轨位于腔体内，开设有多个通孔；键钮填充于通孔中；进气管道与电动滑轨内连通；环形靶系统与电动滑轨滑动连接；滑轨传动装置位于管材的一端与电动滑轨传动连接；真空系统位于管材的另一端。本申请实施例通过在电动滑轨上设置键钮填充通孔，环形靶系统按压键钮即时连通并释放气体，其他键钮保持密封，提高了不同区域气体浓度的均匀性，解决了镀膜均匀性、稳定性不足的问题；设备结构简单，各系统之间相互独立，仪器的维修和查错方便。
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