-
公开(公告)号：CN102301460A
公开(公告)日：2011-12-28
申请号：CN201080006085.4
申请日：2010-01-28
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/31 , C23C16/455
CPC classification number: C23C16/46 , C23C16/4404 , C23C16/45565
Abstract: 成膜装置(100)具备：收容晶片(W)的腔室(1)；在腔室(1)内载置晶片(W)的载置台(2)；在载置台(2)上加热晶片(W)的加热器(5a、5b)和；设置为与载置台(2)对向，向晶片(W)排出成膜用的处理气体的主体由铝或铝合金构成的喷淋板(12)，其是在晶片(W)的表面，形成在成膜温度下热膨胀率比喷淋板(12)的主体(13)的热膨胀率低5×10-6/℃以上的膜的装置，喷淋板(12)在与主体(13)的载置台(2)相对的表面形成有厚度为10μm以上的阳极氧化被膜(14)。
-
公开(公告)号：CN111373510B
公开(公告)日：2023-12-22
申请号：CN201880075553.X
申请日：2018-11-16
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/302
Abstract: 基板处理装置具有：处理容器，其收纳基板；载置台，其在该处理容器内载置基板；排气部，其对该处理容器内的处理气体进行排气；以及分隔壁，其配置于该处理容器内，包围载置台，在该分隔壁的内部，在整周上以在铅垂方向延伸的方式形成有与排气部连通的排气流路，沿着该分隔壁的内侧周向等间隔地形成有与基板处理空间和该排气流路连通的多个开口，该基板处理空间形成于该分隔壁的内侧且载置台的上方。
-
公开(公告)号：CN108878324A
公开(公告)日：2018-11-23
申请号：CN201810678335.7
申请日：2015-12-25
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , C23C16/44 , C23C16/455 , H01J37/32
CPC classification number: H01L21/67069 , C23C16/4404 , C23C16/4409 , C23C16/4412 , C23C16/45587 , H01J37/32449 , H01J2237/0268 , H01J2237/16 , H01L21/67017 , H01L21/6719
Abstract: 本发明提供一种用于在处理容器内独立且面内均匀地对多个基板进行处理的基板处理装置。晶圆处理装置包括：处理容器，其用于气密地容纳晶圆；载置台，其设有多个，该载置台用于在处理容器内载置晶圆；处理气体供给部，其用于自载置台的上方朝向晶圆供给处理气体；排气机构，其用于对处理容器内进行排气；分隔壁，其配置在处理容器内，该分隔壁以与各载置台的外周隔开间隔的方式独立地包围载置台；以及内壁，其为圆筒形状，该内壁配置在处理容器的底面且以与载置台的外周隔开间隔的方式独立地包围该载置台，在内壁上形成有狭缝，经由狭缝进行处理空间内的处理气体的排气。在内壁上设有使处理空间内的处理气体以不直接流入狭缝的方式迂回的分隔板。
-
公开(公告)号：CN105742211A
公开(公告)日：2016-07-06
申请号：CN201510993622.3
申请日：2015-12-25
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67
CPC classification number: H01L21/67069 , C23C16/4404 , C23C16/4409 , C23C16/4412 , C23C16/45587 , H01J37/32449 , H01J2237/0268 , H01J2237/16 , H01L21/67017 , H01L21/6719
Abstract: 本发明提供一种用于在处理容器内独立且面内均匀地对多个基板进行处理的基板处理装置。晶圆处理装置包括：处理容器，其用于气密地容纳晶圆；载置台，其设有多个，该载置台用于在处理容器内载置晶圆；处理气体供给部，其用于自载置台的上方朝向晶圆供给处理气体；排气机构，其用于对处理容器内进行排气；分隔壁，其配置在处理容器内，该分隔壁以与各载置台的外周隔开间隔的方式独立地包围载置台；以及内壁，其为圆筒形状，该内壁配置在处理容器的底面且以与载置台的外周隔开间隔的方式独立地包围该载置台，在内壁上形成有狭缝，经由狭缝进行处理空间内的处理气体的排气。在内壁上设有使处理空间内的处理气体以不直接流入狭缝的方式迂回的分隔板。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108878324B
公开(公告)日：2022-04-12
申请号：CN201810678335.7
申请日：2015-12-25
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , C23C16/44 , C23C16/455 , H01J37/32
Abstract: 本发明提供一种用于在处理容器内独立且面内均匀地对多个基板进行处理的基板处理装置。晶圆处理装置包括：处理容器，其用于气密地容纳晶圆；载置台，其设有多个，该载置台用于在处理容器内载置晶圆；处理气体供给部，其用于自载置台的上方朝向晶圆供给处理气体；排气机构，其用于对处理容器内进行排气；分隔壁，其配置在处理容器内，该分隔壁以与各载置台的外周隔开间隔的方式独立地包围载置台；以及内壁，其为圆筒形状，该内壁配置在处理容器的底面且以与载置台的外周隔开间隔的方式独立地包围该载置台，在内壁上形成有狭缝，经由狭缝进行处理空间内的处理气体的排气。在内壁上设有使处理空间内的处理气体以不直接流入狭缝的方式迂回的分隔板。
-
公开(公告)号：CN111373510A
公开(公告)日：2020-07-03
申请号：CN201880075553.X
申请日：2018-11-16
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/302
Abstract: 基板处理装置具有：处理容器，其收纳基板；载置台，其在该处理容器内载置基板；排气部，其对该处理容器内的处理气体进行排气；以及分隔壁，其配置于该处理容器内，包围载置台，在该分隔壁的内部，在整周上以在铅垂方向延伸的方式形成有与排气部连通的排气流路，沿着该分隔壁的内侧周向等间隔地形成有与基板处理空间和该排气流路连通的多个开口，该基板处理空间形成于该分隔壁的内侧且载置台的上方。
-
公开(公告)号：CN105742211B
公开(公告)日：2018-06-15
申请号：CN201510993622.3
申请日：2015-12-25
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67
CPC classification number: H01L21/67069 , C23C16/4404 , C23C16/4409 , C23C16/4412 , C23C16/45587 , H01J37/32449 , H01J2237/0268 , H01J2237/16 , H01L21/67017 , H01L21/6719
Abstract: 本发明提供一种用于在处理容器内独立且面内均匀地对多个基板进行处理的基板处理装置。晶圆处理装置包括：处理容器，其用于气密地容纳晶圆；载置台，其设有多个，该载置台用于在处理容器内载置晶圆；处理气体供给部，其用于自载置台的上方朝向晶圆供给处理气体；排气机构，其用于对处理容器内进行排气；分隔壁，其配置在处理容器内，该分隔壁以与各载置台的外周隔开间隔的方式独立地包围载置台；以及内壁，其为圆筒形状，该内壁配置在处理容器的底面且以与载置台的外周隔开间隔的方式独立地包围该载置台，在内壁上形成有狭缝，经由狭缝进行处理空间内的处理气体的排气。在内壁上设有使处理空间内的处理气体以不直接流入狭缝的方式迂回的分隔板。
-
公开(公告)号：CN101390444B
公开(公告)日：2011-04-20
申请号：CN200780006156.9
申请日：2007-02-07
Applicant: 科发伦材料株式会社 , 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H05B3/145 , H01L21/67103 , H05B3/143 , H05B3/283 , H05B2203/002 , H05B2203/003 , H05B2203/014 , H05B2203/016 , H05B2203/037
Abstract: 本发明提供一种具备能够形成大致均匀的加热温度的碳线发热体的面状加热器。该碳线发热体(CW)的面内配置密度在内侧区域与外侧区域相异。具有向发热体(CW)通电的连接线的电源端子部配置在石英玻璃板状体的背面侧的中央部。内侧的碳线发热体的连接线在石英玻璃板状体的中央部被连接，外侧的碳线发热体的连接线(3a、3b)和内侧的碳线发热体(CW)不交叉，从石英玻璃板状体的中央部延伸设置至外侧区域，并与外侧的碳线发热体(CW)连接。
-
公开(公告)号：CN101390444A
公开(公告)日：2009-03-18
申请号：CN200780006156.9
申请日：2007-02-07
Applicant: 科发伦材料株式会社 , 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H05B3/145 , H01L21/67103 , H05B3/143 , H05B3/283 , H05B2203/002 , H05B2203/003 , H05B2203/014 , H05B2203/016 , H05B2203/037
Abstract: 本发明提供一种具备能够形成大致均匀的加热温度的碳线发热体的面状加热器。该碳线发热体(CW)的面内配置密度在内侧区域与外侧区域相异。具有向发热体(CW)通电的连接线的电源端子部配置在石英玻璃板状体的背面侧的中央部。内侧的碳线发热体的连接线在石英玻璃板状体的中央部被连接，外侧的碳线发热体的连接线(3a、3b)和内侧的碳线发热体(CW)不交叉，从石英玻璃板状体的中央部延伸设置至外侧区域，并与外侧的碳线发热体(CW)连接。
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
9
records
(took 0.021 seconds)
