公开(公告)号：CN111326394B

公开(公告)日：2024-08-09

申请号：CN201911263165.7

申请日：2019-12-11

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 杉田吉平 ,  河野太辅 ,  柳义弘

IPC: H01J37/32 ,  H01L21/677

Abstract: 示例性实施方式所涉及的搬送方法包括：通过搬送装置将聚焦环搬送至工作台上的步骤；将测量仪搬送至已搬送的聚焦环的内侧区域的静电卡盘上的步骤；通过所搬送的测量仪获取测量值组的步骤；根据测量值组求出第1偏移量及第2偏移量的步骤；根据第1偏移量及第2偏移量求出聚焦环的中心位置相对于静电卡盘的中心位置的偏移量即第3偏移量的步骤；及通过搬送装置根据第3偏移量调整聚焦环的搬送位置以使静电卡盘的中心位置与聚焦环的中心位置一致的步骤。

公开(公告)号：CN119998940A

公开(公告)日：2025-05-13

申请号：CN202380070149.4

申请日：2023-09-26

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 冈村树 ,  真壁晓之 ,  北正知 ,  柳义弘

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/3065

Abstract: 基片处理系统包括：处理模块；真空输送模块，其与所述处理模块连接，具有用于输送所述环的输送机器人；能够对所述环进行温度调节的温度调节部；和控制部。所述控制部能够进行控制以使得依次进行：在将所述环送入所述处理模块之前，利用所述温度调节部对所述环进行温度调节的工序；和利用所述输送机器人输送由所述温度调节部进行了温度调节后的所述环并将所述环载置在所述基片支承部的工序。

公开(公告)号：CN117316748A

公开(公告)日：2023-12-29

申请号：CN202310734622.6

申请日：2023-06-20

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 柳义弘 ,  远藤宏纪 ,  吴同

IPC: H01J37/32 ,  H01J37/20 ,  H01L21/683

Abstract: 本发明提供测量基片支承部的自偏压的面内分布的等离子体处理装置和等离子体处理方法。等离子体处理装置包括：等离子体处理腔室；基座；静电吸盘；多个电极层，其配置在静电吸盘内的同一面内；开关组，其由与多个电极层分别电连接的多个开关构成；电源部和测量部，其与开关组电连接；其他开关，其将开关组的连接目标选择为电源部和测量部中的任一者；以及控制部，电源部包括向多个电极层供给电功率的电源，测量部包括电阻和对施加到电阻的电压进行测量的电压计，控制部构成为能够执行包含如下处理的控制：将开关组的连接目标切换为测量部，之后将构成开关组的多个开关逐一地切换为接通的状态。

公开(公告)号：CN111326394A

公开(公告)日：2020-06-23

申请号：CN201911263165.7

申请日：2019-12-11

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 杉田吉平 ,  河野太辅 ,  柳义弘

IPC: H01J37/32 ,  H01L21/677

Abstract: 示例性实施方式所涉及的搬送方法包括：通过搬送装置将聚焦环搬送至工作台上的步骤；将测量仪搬送至已搬送的聚焦环的内侧区域的静电卡盘上的步骤；通过所搬送的测量仪获取测量值组的步骤；根据测量值组求出第1偏移量及第2偏移量的步骤；根据第1偏移量及第2偏移量求出聚焦环的中心位置相对于静电卡盘的中心位置的偏移量即第3偏移量的步骤；及通过搬送装置根据第3偏移量调整聚焦环的搬送位置以使静电卡盘的中心位置与聚焦环的中心位置一致的步骤。