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公开(公告)号：CN101667531B
公开(公告)日：2013-04-24
申请号：CN200910172120.9
申请日：2009-09-04
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/683 , H01L21/677
CPC classification number: H01L21/68707 , H01L21/67309
Abstract: 本发明提供一种纵型热处理装置以及基板支承器具，该纵型热处理装置包括：基板支承器具，能够沿上下方向以规定的间隔支承多片被处理基板；移载机构，在基板支承器具与能够收纳多个被处理基板的收纳容器之间移载多片被处理基板；热处理炉，对连同基板支承器具被搬入到内部的被处理基板进行热处理，上述基板支承器具包括：多个支柱隔开间隔地配置成围着被处理基板；基板用支承部和环状板用支承部，沿上下方向呈多级地设置在多个支柱上，用于以规定的间隔交替地支承被处理基板和环状板的周缘部；由环状板用支承部支承的多个环状板，从被处理基板的移载方向观察，各个环状板被形成为中间部的厚度比上述支柱所支承的部分的厚度薄。
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公开(公告)号：CN100568449C
公开(公告)日：2009-12-09
申请号：CN200710100638.2
申请日：2007-03-19
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/677 , H01L21/687 , F27B17/00 , F27D3/00 , F27D3/12
CPC classification number: F27D3/0084 , F27B17/0025 , H01L21/67265 , H01L21/67288 , H01L21/67781 , H01L21/68707
Abstract: 本发明涉及一种立式热处理装置，包括：热处理炉；保持件，能够在上下方向以规定间隔多层保持多片被处理体，并且能够将其搬入搬出所述热处理炉内；移载机构，具有可以升降及旋转的基台和可以在该基台上沿水平方向进退的基板支承件；以及控制所述移载机构的控制器，其中，所述移载机构在以规定间隔收纳多片被处理体的收纳容器和所述保持件之间进行被处理体的移载，所述基板支承件包括进行水平方向进退驱动的进退驱动部和进行支承被处理体的间距的变换的间距变换驱动部，所述控制器构成为，在所述基板支承件的进退驱动部动作时，监视从间距变换驱动部的编码器输出的编码器值，在该编码器值变化时判定为异常驱动，停止所述移载机构的驱动。
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公开(公告)号：CN102856148B
公开(公告)日：2015-12-16
申请号：CN201210214836.2
申请日：2012-06-26
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01J37/32
Abstract: 本发明提供一种成膜装置，具备：基板保持件，该基板保持件以将多个基板隔开间隔而重叠的方式对多个基板进行保持；反应管，该反应管用于容纳基板保持件；原料气体供给管，该原料气体供给管对被基板保持件保持的多个基板供给要成膜于多个基板上的薄膜的原料气体，其中基板保持件容纳于反应管；支承部，该支承部用于支承反应管；加热部，该加热部配置在反应管的外侧，对多个基板进行加热；保护管，该保护管在一端部固定于支承部，在基板保持件与反应管之间沿着多个基板的排列方向延伸，内部供温度测量部插入；突起部，该突起部设置在保护管的外表面与反应管的内表面的至少一方，在保护管的外表面与反应管的内表面之间形成空隙。
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公开(公告)号：CN101042994A
公开(公告)日：2007-09-26
申请号：CN200710100638.2
申请日：2007-03-19
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/677 , H01L21/687 , F27B17/00 , F27D3/00 , F27D3/12
CPC classification number: F27D3/0084 , F27B17/0025 , H01L21/67265 , H01L21/67288 , H01L21/67781 , H01L21/68707
Abstract: 本发明涉及一种立式热处理装置，包括：热处理炉；保持件，能够在上下方向以规定间隔多层保持多片被处理体，并且能够将其搬入搬出所述热处理炉内；移载机构，具有可以升降及旋转的基台和可以在该基台上沿水平方向进退的基板支承件；以及控制所述移载机构的控制器，其中，所述移载机构在以规定间隔收纳多片被处理体的收纳容器和所述保持件之间进行被处理体的移载，所述基板支承件包括进行水平方向进退驱动的进退驱动部和进行支承被处理体的间距的变换的间距变换驱动部，所述控制器构成为，在所述基板支承件的进退驱动部动作时，监视从间距变换驱动部的编码器输出的编码器值，在该编码器值变化时判定为异常驱动，停止所述移载机构的驱动。
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公开(公告)号：CN100573818C
公开(公告)日：2009-12-23
申请号：CN200710100672.X
申请日：2007-03-19
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/677 , G05B19/048 , F27D3/00
CPC classification number: H01L21/67098 , H01L21/67766 , H01L21/67781 , H01L21/68707
Abstract: 本发明涉及一种立式热处理装置，其特征在于，包括：热处理炉；保持件，能够在上下方向以规定间隔多层保持多片被处理体，并且该保持件能够搬入搬出所述热处理炉内；移载机构，具有可以升降及旋转的基台和可以在该基台上沿水平方向进退的基板支承件；以及控制所述移载机构的控制器，其中，所述移载机构在以规定间隔收纳多片被处理体的收纳容器和所述保持件之间进行被处理体的移载，所述控制器构成为，监视反馈到驱动移载机构的电动机的位置、速度、电流中的至少任何一个信息，通过将该信息与预先设定的正常驱动时的信息进行比较，检测移载机构冲突时的异常驱动，在检测到异常驱动时停止移载机构的驱动。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100433285C
公开(公告)日：2008-11-12
申请号：CN200580000305.1
申请日：2005-03-25
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 在立式热处理装置中，通过被处理体收纳容器(托架)(16)和环状支撑板(15)在与上下方向隔开间隔保持多个被处理体的被处理体保持工具(舟皿)(9)之间移送被处理体的改良移送机构(21)，具有多个基板支撑工具(20)，各基板支撑工具包括在下侧夹紧被处理体W的夹紧机构(28)，各夹紧机构具有固定在基板支撑工具前端卡止被处理体W前缘部的固定卡止部(30)；和可移动设在基板支撑工具(20)基端部来可装卸卡止被处理体W后缘部的可动卡止部(31)。能同时迅速可靠移送多个被处理体W。利用夹紧机构的结构，可减小基板支撑工具的厚度和环状支撑板的配置间距，可增大在热处理炉内一次处理的被处理体W的片数，可提高生产率。
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公开(公告)号：CN101667530B
公开(公告)日：2013-09-04
申请号：CN200910172117.7
申请日：2009-09-04
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/677 , H01L21/683
CPC classification number: H01L21/68707 , H01L21/67109 , H01L21/67766
Abstract: 本发明提供一种处理装置、纵型热处理装置，该纵型热处理装置具有移载机构，该移载机构具有移载板，并且在该移载板的上表面载置被处理基板时，在水平保持该被处理基板的状态下使上述移载板移动。上述移载板具有沿前后方向从基端部向前端部水平延伸的悬臂支承结构。在上述移载板的上表面设有在前后方向的大致中央部与后部水平支承被处理基板的多个支承突起部。在上述移载板的前端侧不支承上述被处理基板。
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公开(公告)号：CN100474516C
公开(公告)日：2009-04-01
申请号：CN200580022267.X
申请日：2005-06-20
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/22 , H01L21/324 , H01L21/68
CPC classification number: H01L21/67178 , H01L21/67109 , H01L21/67757 , H01L21/67781 , Y10S414/135 , Y10S414/138
Abstract: 本发明的立式热处理装置具备在下方具有炉口的热处理炉。将被处理体在上下方向搭载在多段中的晶舟，通过上述炉口被收容在上述热处理炉的内部。支撑上述晶舟的盖体能够闭塞上述炉口。移载室与上述炉口连接。在上述移载室内设置有使上述盖体升降、以将上述晶舟搬入和搬出上述热处理炉的升降机构。在上述移载室的壁部设置有能够连接收容被处理体的搬运容器的开口部的连接口。在上述移载室内设置有临时收容下一个热处理用的未处理的被处理体的第一收容部和临时收容从上述热处理炉中搬出的处理完毕的被处理体的第二收容部。移载装置，在上述搬运容器、上述第一收容部、上述第二收容部和上述晶舟之间进行被处理体的移载。
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公开(公告)号：CN101042995A
公开(公告)日：2007-09-26
申请号：CN200710100672.X
申请日：2007-03-19
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/677 , G05B19/048 , F27D3/00
CPC classification number: H01L21/67098 , H01L21/67766 , H01L21/67781 , H01L21/68707
Abstract: 本发明涉及一种立式热处理装置，其特征在于，包括：热处理炉；保持件，能够在上下方向以规定间隔多层保持多片被处理体，并且该保持件能够搬入搬出所述热处理炉内；移载机构，具有可以升降及旋转的基台和可以在该基台上沿水平方向进退的基板支承件；以及控制所述移载机构的控制器，其中，所述移载机构在以规定间隔收纳多片被处理体的收纳容器和所述保持件之间进行被处理体的移载，所述控制器构成为，监视反馈到驱动移载机构的电动机的位置、速度、电流中的至少任何一个信息，通过将该信息与预先设定的正常驱动时的信息进行比较，检测移载机构冲突时的异常驱动，在检测到异常驱动时停止移载机构的驱动。
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公开(公告)号：CN1774607A
公开(公告)日：2006-05-17
申请号：CN200580000305.1
申请日：2005-03-25
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 在立式热处理装置中，通过被处理体收纳容器(托架)(16)和环状支撑板(15)在与上下方向隔开间隔保持多个被处理体的被处理体保持工具(舟皿)(9)之间移送被处理体的改良移送机构(21)，具有多个基板支撑工具(20)，各基板支撑工具包括在下侧夹紧被处理体W的夹紧机构(28)，各夹紧机构具有固定在基板支撑工具前端卡止被处理体W前缘部的固定卡止部(30)；和可移动设在基板支撑工具(20)基端部来可装卸卡止被处理体W后缘部的可动卡止部(31)。能同时迅速可靠移送多个被处理体W。利用夹紧机构的结构，可减小基板支撑工具的厚度和环状支撑板的配置间距，可增大在热处理炉内一次处理的被处理体W的片数，可提高生产率。
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