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公开(公告)号：CN102437071B
公开(公告)日：2016-08-03
申请号：CN201110303058.X
申请日：2011-09-29
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H01L21/67109 , H01L21/02178 , H01L21/02181 , H01L21/0228 , H01L21/67303
Abstract: 本发明提供一种立式热处理装置，包括：立式的反应管，具有呈搁板状地保持多张基板且对基板进行热处理的基板保持件，在其周围配置有加热部；处理气体供给部，设在反应管的长度方向上，为了向保持在基板保持件的各基板供给处理气体，在与各基板相对应的高度位置形成有气体喷出口；排气口，形成在反应管的相对于反应管的中心来说与气体喷出口相反的一侧的位置，基板保持件具有：多个圆形状的保持板，每个保持板形成有多个基板载置区域，且各保持板彼此层叠；支柱，贯穿各保持板地在该各保持板的周向上设有多个，在反应管的径向上，支柱在使支柱的外侧部位处于与各保持板的外缘相同的位置或者比该位置靠内侧的位置贯穿各保持板，从而支承各保持板。
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公开(公告)号：CN101162686B
公开(公告)日：2011-02-09
申请号：CN200710152463.X
申请日：2007-10-12
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/02 , H01L21/22 , H01L21/205 , H01L21/31 , H01L21/324 , H01L21/67 , C23C16/00 , F27B17/00
Abstract: 本发明提供一种热处理装置，其特征在于，包括：处理容器，其下部具有炉口，并且具有用于收容被处理体且能够在减压状态下对该被处理体进行规定热处理的石英制容器主体；金属制盖体，其用于载置搭载有多个被处理体的保持件并相对于处理容器对该保持件进行搬入、搬出，同时进行炉口的关闭、开放；和环状的气密部件，其被设置在该盖体上的周缘部，用于密封与处理容器的炉口之间，其中，在所述盖体上设置有接触限制部件，该接触限制部件用于限制因处理容器内为减压状态时所述气密部件在盖体与炉口之间压坏而引起的盖体与炉口的接触。
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公开(公告)号：CN102290359B
公开(公告)日：2016-03-09
申请号：CN201110165910.1
申请日：2011-06-15
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/673 , H01L21/67 , H01L21/31
CPC classification number: H01L21/67303 , H01L21/67109 , H01L21/67309
Abstract: 本发明提供支承体构造、处理容器构造及处理装置。该支承体构造在供处理气体从一侧朝向另一侧沿水平方向流动的处理容器构造内支承要处理的多张被处理体(W)，包括顶板部(92)、底部(94)和多个支承支柱(96)，多个支承支柱(96)将顶板部和底部连结起来，沿着其长度方向以规定的间距形成有用于支承被处理体的多个支承部(100)，并且，多个支承部中的最上层的支承部与顶板部(92)之间的距离以及多个支承部中的最下层的支承部与底部(94)之间的距离均被设定为支承部之间的间距以下的长度。由此，抑制了在支承体构造的上下的两端部侧产生气体的湍流。
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公开(公告)号：CN102437071A
公开(公告)日：2012-05-02
申请号：CN201110303058.X
申请日：2011-09-29
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H01L21/67109 , H01L21/02178 , H01L21/02181 , H01L21/0228 , H01L21/67303
Abstract: 本发明提供一种立式热处理装置，包括：立式的反应管，具有呈搁板状地保持多张基板且对基板进行热处理的基板保持件，在其周围配置有加热部；处理气体供给部，设在反应管的长度方向上，为了向保持在基板保持件的各基板供给处理气体，在与各基板相对应的高度位置形成有气体喷出口；排气口，形成在反应管的相对于反应管的中心来说与气体喷出口相反的一侧的位置，基板保持件具有：多个圆形状的保持板，每个保持板形成有多个基板载置区域，且各保持板彼此层叠；支柱，贯穿各保持板地在该各保持板的周向上设有多个，在反应管的径向上，支柱在使支柱的外侧部位处于与各保持板的外缘相同的位置或者比该位置靠内侧的位置贯穿各保持板，从而支承各保持板。
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公开(公告)号：CN117747486A
公开(公告)日：2024-03-22
申请号：CN202311179226.8
申请日：2023-09-13
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/02 , H01L21/673 , B08B5/02 , B08B13/00
Abstract: 本公开提供一种基板处理装置和基板处理方法，能够高效地去除残留在基板上的不需要的分子。本公开的一个方式的基板处理装置具备：基板保持器具，其将多个基板沿铅垂方向具有间隔地分多层进行保持；以及处理容器，其收容所述基板保持器具，其中，所述基板保持器具具有将相邻的所述基板间分隔开的分隔板，所述分隔板的下表面具有用于喷出第一气体的多个喷出部，所述多个喷出部能够被独立地进行所述第一气体的供给切断的控制。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102856148A
公开(公告)日：2013-01-02
申请号：CN201210214836.2
申请日：2012-06-26
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01J37/32
Abstract: 本发明提供一种成膜装置，具备：基板保持件，该基板保持件以将多个基板隔开间隔而重叠的方式对多个基板进行保持；反应管，该反应管用于容纳基板保持件；原料气体供给管，该原料气体供给管对被基板保持件保持的多个基板供给要成膜于多个基板上的薄膜的原料气体，其中基板保持件容纳于反应管；支承部，该支承部用于支承反应管；加热部，该加热部配置在反应管的外侧，对多个基板进行加热；保护管，该保护管在一端部固定于支承部，在基板保持件与反应管之间沿着多个基板的排列方向延伸，内部供温度测量部插入；突起部，该突起部设置在保护管的外表面与反应管的内表面的至少一方，在保护管的外表面与反应管的内表面之间形成空隙。
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公开(公告)号：CN102634773A
公开(公告)日：2012-08-15
申请号：CN201210028975.6
申请日：2012-02-09
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: C23C16/455 , H01L21/67
CPC classification number: H01L21/67109 , C23C16/405 , C23C16/4412 , C23C16/45546
Abstract: 本发明提供一种成膜装置。与分别形成有用于向反应管内供给Zr系气体、O3气体等处理气体的气体喷射口的第1体喷射器及第2气体喷射器相对独立地形成第3气体喷射器，在该第3气体喷射器上，沿着反应管的长度方向形成有狭缝，在切换处理气体时，通过从该狭缝向反应管内供给吹扫气体而该置换反应管内的气氛气体。
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公开(公告)号：CN101667531A
公开(公告)日：2010-03-10
申请号：CN200910172120.9
申请日：2009-09-04
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/683 , H01L21/677
CPC classification number: H01L21/68707 , H01L21/67309
Abstract: 本发明提供一种纵型热处理装置以及基板支承器具，该纵型热处理装置包括：基板支承器具，能够沿上下方向以规定的间隔支承多片被处理基板；移载机构，在基板支承器具与能够收纳多个被处理基板的收纳容器之间移载多片被处理基板；热处理炉，对连同基板支承器具被搬入到内部的被处理基板进行热处理，上述基板支承器具包括：多个支柱隔开间隔地配置成围着被处理基板；基板用支承部和环状板用支承部，沿上下方向呈多级地设置在多个支柱上，用于以规定的间隔交替地支承被处理基板和环状板的周缘部；由环状板用支承部支承的多个环状板，从被处理基板的移载方向观察，各个环状板被形成为中间部的厚度比上述支柱所支承的部分的厚度薄。
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公开(公告)号：CN101667531B
公开(公告)日：2013-04-24
申请号：CN200910172120.9
申请日：2009-09-04
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/683 , H01L21/677
CPC classification number: H01L21/68707 , H01L21/67309
Abstract: 本发明提供一种纵型热处理装置以及基板支承器具，该纵型热处理装置包括：基板支承器具，能够沿上下方向以规定的间隔支承多片被处理基板；移载机构，在基板支承器具与能够收纳多个被处理基板的收纳容器之间移载多片被处理基板；热处理炉，对连同基板支承器具被搬入到内部的被处理基板进行热处理，上述基板支承器具包括：多个支柱隔开间隔地配置成围着被处理基板；基板用支承部和环状板用支承部，沿上下方向呈多级地设置在多个支柱上，用于以规定的间隔交替地支承被处理基板和环状板的周缘部；由环状板用支承部支承的多个环状板，从被处理基板的移载方向观察，各个环状板被形成为中间部的厚度比上述支柱所支承的部分的厚度薄。
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公开(公告)号：CN102290359A
公开(公告)日：2011-12-21
申请号：CN201110165910.1
申请日：2011-06-15
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/673 , H01L21/67 , H01L21/31
CPC classification number: H01L21/67303 , H01L21/67109 , H01L21/67309
Abstract: 本发明提供支承体构造、处理容器构造及处理装置。该支承体构造在供处理气体从一侧朝向另一侧沿水平方向流动的处理容器构造内支承要处理的多张被处理体(W)，包括顶板部(92)、底部(94)和多个支承支柱(96)，多个支承支柱(96)将顶板部和底部连结起来，沿着其长度方向以规定的间距形成有用于支承被处理体的多个支承部(100)，并且，多个支承部中的最上层的支承部与顶板部(92)之间的距离以及多个支承部中的最下层的支承部与底部(94)之间的距离均被设定为支承部之间的间距以下的长度。由此，抑制了在支承体构造的上下的两端部侧产生气体的湍流。
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