公开(公告)号：CN101667531B

公开(公告)日：2013-04-24

申请号：CN200910172120.9

申请日：2009-09-04

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 浅利聪 ,  户羽胜也 ,  佐藤泉 ,  佐濑雄一郎

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/683 ,  H01L21/677

CPC classification number: H01L21/68707 ,  H01L21/67309

Abstract: 本发明提供一种纵型热处理装置以及基板支承器具，该纵型热处理装置包括：基板支承器具，能够沿上下方向以规定的间隔支承多片被处理基板；移载机构，在基板支承器具与能够收纳多个被处理基板的收纳容器之间移载多片被处理基板；热处理炉，对连同基板支承器具被搬入到内部的被处理基板进行热处理，上述基板支承器具包括：多个支柱隔开间隔地配置成围着被处理基板；基板用支承部和环状板用支承部，沿上下方向呈多级地设置在多个支柱上，用于以规定的间隔交替地支承被处理基板和环状板的周缘部；由环状板用支承部支承的多个环状板，从被处理基板的移载方向观察，各个环状板被形成为中间部的厚度比上述支柱所支承的部分的厚度薄。

公开(公告)号：CN101667531A

公开(公告)日：2010-03-10

申请号：CN200910172120.9

申请日：2009-09-04

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 浅利聪 ,  户羽胜也 ,  佐藤泉 ,  佐濑雄一郎

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/683 ,  H01L21/677

CPC classification number: H01L21/68707 ,  H01L21/67309

Abstract: 本发明提供一种纵型热处理装置以及基板支承器具，该纵型热处理装置包括：基板支承器具，能够沿上下方向以规定的间隔支承多片被处理基板；移载机构，在基板支承器具与能够收纳多个被处理基板的收纳容器之间移载多片被处理基板；热处理炉，对连同基板支承器具被搬入到内部的被处理基板进行热处理，上述基板支承器具包括：多个支柱隔开间隔地配置成围着被处理基板；基板用支承部和环状板用支承部，沿上下方向呈多级地设置在多个支柱上，用于以规定的间隔交替地支承被处理基板和环状板的周缘部；由环状板用支承部支承的多个环状板，从被处理基板的移载方向观察，各个环状板被形成为中间部的厚度比上述支柱所支承的部分的厚度薄。