公开(公告)号：CN102738045B

公开(公告)日：2016-06-29

申请号：CN201210093659.7

申请日：2012-03-31

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 松浦广行 ,  户羽胜也

IPC: H01L21/673 ,  H01L21/324

CPC classification number: H01L21/67303 ,  H01L21/67309

Abstract: 本发明提供基板保持件、立式热处理装置及立式热处理装置的运转方法。基板保持件以架状保持多张基板，为了对这些基板进行热处理而被搬入到立式热处理炉内，该基板保持件包括能够相互分割地合体的第一保持件部分和第二保持件部分，第一保持件部分和第二保持件部分分别具备：相互上下对置的顶板和底板；支柱，其沿着顶板和底板各自的周缘部而设置有多个，将该顶板与底板相互连结；保持部，其设置在多个支柱各自之中相互对应的位置，用于保持各基板的下表面，第一保持件部分和第二保持件部分各自的保持部以如下方式设定高度位置，即：在第一保持件部分和第二保持件部分相互合体时，使得保持于第一保持件部分的基板和保持于第二保持件部分的基板交替地排列。

公开(公告)号：CN101667531B

公开(公告)日：2013-04-24

申请号：CN200910172120.9

申请日：2009-09-04

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 浅利聪 ,  户羽胜也 ,  佐藤泉 ,  佐濑雄一郎

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/683 ,  H01L21/677

CPC classification number: H01L21/68707 ,  H01L21/67309

Abstract: 本发明提供一种纵型热处理装置以及基板支承器具，该纵型热处理装置包括：基板支承器具，能够沿上下方向以规定的间隔支承多片被处理基板；移载机构，在基板支承器具与能够收纳多个被处理基板的收纳容器之间移载多片被处理基板；热处理炉，对连同基板支承器具被搬入到内部的被处理基板进行热处理，上述基板支承器具包括：多个支柱隔开间隔地配置成围着被处理基板；基板用支承部和环状板用支承部，沿上下方向呈多级地设置在多个支柱上，用于以规定的间隔交替地支承被处理基板和环状板的周缘部；由环状板用支承部支承的多个环状板，从被处理基板的移载方向观察，各个环状板被形成为中间部的厚度比上述支柱所支承的部分的厚度薄。

公开(公告)号：CN101667531A

公开(公告)日：2010-03-10

申请号：CN200910172120.9

申请日：2009-09-04

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 浅利聪 ,  户羽胜也 ,  佐藤泉 ,  佐濑雄一郎

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/683 ,  H01L21/677

CPC classification number: H01L21/68707 ,  H01L21/67309

Abstract: 本发明提供一种纵型热处理装置以及基板支承器具，该纵型热处理装置包括：基板支承器具，能够沿上下方向以规定的间隔支承多片被处理基板；移载机构，在基板支承器具与能够收纳多个被处理基板的收纳容器之间移载多片被处理基板；热处理炉，对连同基板支承器具被搬入到内部的被处理基板进行热处理，上述基板支承器具包括：多个支柱隔开间隔地配置成围着被处理基板；基板用支承部和环状板用支承部，沿上下方向呈多级地设置在多个支柱上，用于以规定的间隔交替地支承被处理基板和环状板的周缘部；由环状板用支承部支承的多个环状板，从被处理基板的移载方向观察，各个环状板被形成为中间部的厚度比上述支柱所支承的部分的厚度薄。

公开(公告)号：CN100338735C

公开(公告)日：2007-09-19

申请号：CN03807749.3

申请日：2003-03-27

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 户羽胜也 ,  高桥喜一 ,  小原美鹤

IPC: H01L21/205 ,  H01L21/31 ,  H01L21/22 ,  H01L21/302

CPC classification number: H01L21/67109

Abstract: 在纵型热处理装置(1)中，在可升降地开闭纵型热处理炉(2)的炉口(3)的盖体(5)上，设置有旋转搭载有多个被处理基板(W)的保持容器(13)的旋转机构(15)。旋转机构(15)包括旋转轴(16)、和通过轴承(17)及密封部件(18)可旋转地支撑旋转轴(16)的支撑部(19)。旋转轴(16)为壁薄中空构造且在其内侧和外侧有冷却用气体流通。支撑部(19)包括围绕旋转轴(16)的上侧而形成的、流通冷媒的冷却通路(32)。

公开(公告)号：CN102751222B

公开(公告)日：2016-03-16

申请号：CN201210119325.2

申请日：2012-04-20

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 户羽胜也

IPC: H01L21/677

CPC classification number: H01L21/67757 ,  H01L21/67109

Abstract: 本发明提供装载单元以及处理系统，该装载单元使保持有多张基板的基板保持件相对于处理容器升降，其具备：装载用筐体、使基板保持件升降的升降电梯机构、关闭处理容器的开口部的闸门部、用于进行基板的移载的基板移载机构、以包围升降电梯机构并包围其移动范围的方式设置的第一划分箱、与第一划分箱连结并以包围基板移载机构和其移动范围的方式设置的第二划分箱、以及与第一划分箱连结并以包围闸门部的方式设置的第三划分箱，在第一划分箱设置有向第一划分箱的内侧喷射冷却气体的冷却气体喷射机构。

公开(公告)号：CN102751222A

公开(公告)日：2012-10-24

申请号：CN201210119325.2

申请日：2012-04-20

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 户羽胜也

IPC: H01L21/677

CPC classification number: H01L21/67757 ,  H01L21/67109

Abstract: 本发明提供装载单元以及处理系统，该装载单元使保持有多张基板的基板保持件相对于处理容器升降，其具备：装载用筐体、使基板保持件升降的升降电梯机构、关闭处理容器的开口部的闸门部、用于进行基板的移载的基板移载机构、以包围升降电梯机构并包围其移动范围的方式设置的第一划分箱、与第一划分箱连结并以包围基板移载机构和其移动范围的方式设置的第二划分箱、以及与第一划分箱连结并以包围闸门部的方式设置的第三划分箱，在第一划分箱设置有向第一划分箱的内侧喷射冷却气体的冷却气体喷射机构。

公开(公告)号：CN102738045A

公开(公告)日：2012-10-17

申请号：CN201210093659.7

申请日：2012-03-31

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 松浦广行 ,  户羽胜也

IPC: H01L21/673 ,  H01L21/324

CPC classification number: H01L21/67303 ,  H01L21/67309

Abstract: 本发明提供基板保持件、立式热处理装置及立式热处理装置的运转方法。基板保持件以架状保持多张基板，为了对这些基板进行热处理而被搬入到立式热处理炉内，该基板保持件包括能够相互分割地合体的第一保持件部分和第二保持件部分，第一保持件部分和第二保持件部分分别具备：相互上下对置的顶板和底板；支柱，其沿着顶板和底板各自的周缘部而设置有多个，将该顶板与底板相互连结；保持部，其设置在多个支柱各自之中相互对应的位置，用于保持各基板的下表面，第一保持件部分和第二保持件部分各自的保持部以如下方式设定高度位置，即：在第一保持件部分和第二保持件部分相互合体时，使得保持于第一保持件部分的基板和保持于第二保持件部分的基板交替地排列。

公开(公告)号：CN1647250A

公开(公告)日：2005-07-27

申请号：CN03807749.3

申请日：2003-03-27

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 户羽胜也 ,  高桥喜一 ,  小原美鹤

IPC: H01L21/205 ,  H01L21/31 ,  H01L21/22 ,  H01L21/302

CPC classification number: H01L21/67109

Abstract: 在纵型热处理装置(1)中，在可升降地开闭纵型热处理炉(2)的炉口(3)的盖体(5)上，设置有旋转搭载有多个被处理基板(W)的保持容器(13)的旋转机构(15)。旋转机构(15)包括旋转轴(16)、和通过轴承(17)及密封部件(18)可旋转地支撑旋转轴(16)的支撑部(19)。旋转轴(16)为壁薄中空构造且在其内侧和外侧有冷却用气体流通。支撑部(19)包括围绕旋转轴(16)的上侧而形成的、流通冷媒的冷却通路(32)。

公开(公告)号：CN2706861Y

公开(公告)日：2005-06-29

申请号：CN03243257.7

申请日：2003-04-08

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 户羽胜也 ,  高桥喜一 ,  小原美鹤

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/324

CPC classification number: H01L21/67109

Abstract: 本实用新型提供一种纵向热处理装置(1)，可以对旋转轴进行充分冷却、可以提高轴承和密封构件的耐用性、可以应对高温热处理。在开闭纵向热处理炉(2)的炉口(3)的可升降盖体(5)中，配置使装载有多个被处理基片(W)的保持件(13)旋转的旋转机构(15)。旋转机构(15)包含：旋转轴(16)、经由轴承(17)和密封构件(18)可旋转地支撑旋转轴(16)的支撑部(19)。旋转轴(16)形成薄壁中空结构，并且使冷却用气体在其内侧和外侧流通。支撑部(19)具有以围绕旋转轴(16)的上侧的方式形成的使冷媒流通的冷却通路(32)。