公开(公告)号：CN113451096A

公开(公告)日：2021-09-28

申请号：CN202110264471.3

申请日：2021-03-11

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 辻本宏 ,  桑原有生 ,  李黎夫

IPC: H01J37/32 ,  H01L21/683 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种边缘环、基片支承台、等离子体处理系统和边缘环的更换方法，其具有：载置基片的基片载置面；载置边缘环的环载置面，其中所述边缘环以包围被载置于所述基片载置面的基片的方式配置；和用于将所述边缘环通过静电力来吸附并保持于所述环载置面的电极，所述边缘环在与所述环载置面相对的面粘贴有传热片，且经由该传热片载置于所述环载置面，所述传热片在与所述环载置面相对的面形成有导电膜，所述边缘环通过借助由所述电极形成的静电力来吸附被粘贴于该边缘环的所述传热片的所述导电膜，而被保持于所述环载置面。根据本发明，能够维持隔着传热片的边缘环与基片支承台之间的热传导性的同时，提高传热片从基片支承台剥离的剥离性。

公开(公告)号：CN112837986A

公开(公告)日：2021-05-25

申请号：CN202011270560.0

申请日：2020-11-13

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 桑原有生

IPC: H01J37/32

Abstract: 本发明提供一种导热性构件、等离子体处理装置以及电压控制方法，该导热性构件能够稳定地传递热，且容易进行维护。提供一种导热性构件，设置于等离子体处理装置中，所述等离子体处理装置具有：第一静电吸盘，其用于在提供等离子体处理空间的处理容器内载置基板；第二静电吸盘，其设置于所述第一静电吸盘的外周；边缘环，其以包围载置所述基板的区域的方式设置于所述第二静电吸盘之上，该边缘环的至少一部分由导电性构件构成；以及边缘环用电极，其被施加用于在所述第二静电吸盘的内部的与所述边缘环对应的区域对所述边缘环进行静电吸附的电压，其中，所述导热性构件配置在所述第二静电吸盘与所述边缘环之间。

公开(公告)号：CN115116815A

公开(公告)日：2022-09-27

申请号：CN202210223405.6

申请日：2022-03-07

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 荒卷昂 ,  辻本宏 ,  李黎夫 ,  桑原有生 ,  阿部凉也

IPC: H01J37/32

Abstract: 本发明提供一种等离子体处理装置，其能够降低因基片周围的部件的随时间变化而导致的对处理的影响。等离子体处理装置包括：等离子体处理腔室；构成为能够在上述等离子体处理腔室内生成等离子体的等离子体生成部；配置在上述等离子体处理腔室内的基片支承部；以包围上述基片支承部上的基片的方式配置的第一导电性环；以包围上述第一导电性环的方式配置的绝缘环；和以包围上述绝缘环的方式配置并与接地电位连接的第二导电性环。

公开(公告)号：CN114388328A

公开(公告)日：2022-04-22

申请号：CN202111187847.1

申请日：2021-10-12

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 仙田孝博 ,  植村雄三 ,  桑原有生 ,  氏家智也

IPC: H01J37/32

Abstract: 本发明提供一种等离子体处理装置，该等离子体处理装置用于提高上部电极或其周边的温度的测定精度。该等离子体处理装置具有：处理室；载置台，其配置于所述处理室内，用于载置基板；上部电极，其与所述载置台相向；调整所述上部电极的温度的构件；第一传感器，其设置于调整所述上部电极的温度的构件的内部，用于测定所述上部电极的温度；第一片构件，其配置于所述上部电极与所述第一传感器之间，该第一片构件在1MHz的频率下的相对介电常数为2.4以上。

公开(公告)号：CN113496865A

公开(公告)日：2021-10-12

申请号：CN202110351041.5

申请日：2021-03-31

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 桑原有生 ,  仙田孝博

IPC: H01J37/32 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置。该基板处理装置抑制顶部构件与上部构件之间的接触压力的变化。上部构件配置于对基板实施基板处理的处理室内的上部。顶部构件构成处理室的顶部，在与上部构件相对的相对面形成有贯通孔。支承构件贯穿贯通孔，并且设为能够在贯通孔内滑动移动，利用位于处理室内的一端支承上部构件。收容部收容支承构件的位于处理室外的另一端，相对于另一端在支承构件的移动方向上的另一端侧划分并设有第1空间，相对于另一端在移动方向上的一端侧划分并设有第2空间。压力控制部使第1空间与第2空间之间产生使支承构件移动的压力差。

公开(公告)号：CN302040889S

公开(公告)日：2012-08-22

申请号：CN201230082499.7

申请日：2012-03-30

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Designer： 吉村章弘 ,  宫川正章 ,  佐藤彻治 ,  桑原有生 ,  长久保启一 ,  水上俊介

Abstract: 1．本外观设计产品的名称：聚焦环；2．本外观设计产品的用途：用于将产生在半导体晶片上的等离子体的分布扩展到位于等离子加工设备的室中的产品附近，其国际外观设计分类号为08-05；3．本外观设计的设计要点：产品的形状；4．最能表明设计要点的图片或者照片：设计1立体图；5.基本设计：设计1；6．设计1－4的后视图分别与设计1－4的主视图相同，故省略设计1－4的后视图；设计1－4的左视图分别与设计1－4的右视图相同，故省略设计1－4的左视图。

公开(公告)号：CN302043994S

公开(公告)日：2012-08-22

申请号：CN201230082549.1

申请日：2012-03-30

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Designer： 桑原有生 ,  长久保启一

Abstract: 1．本外观设计产品的名称：电极板（等离子设备用）；2．本外观设计产品的用途：用于将气体导入在等离子加工设备的室中；3．本外观设计的设计要点：产品的形状；4．最能表明设计要点的图片或者照片：立体图；5．后视图与主视图相同，故省略后视图；左视图与右视图相同，故省略左视图。