-
公开(公告)号：CN108630514A
公开(公告)日：2018-10-09
申请号：CN201810240731.1
申请日：2018-03-22
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明涉及一种基板处理装置，其具有聚焦环，该聚焦环包括：设置在处理室内的载置台所载置的基板的附近的内侧聚焦环；设置在上述内侧聚焦环的外侧，通过移动机构而能够上下移动的中央聚焦环；和设置在上述中央聚焦环的外侧的外侧聚焦环。由此，能够维持对基板的面内整体进行的处理的特性，并控制基板的边缘部的处理特性。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110491769A
公开(公告)日：2019-11-22
申请号：CN201910387938.6
申请日：2019-05-10
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/02 , H01L21/67 , H01L21/683 , H01L21/687 , G06F17/14
Abstract: 本发明提供一种能够更准确地驱动部件的部件的驱动方法。本发明提供一种设置于处理室内的部件的驱动方法，其包括：对上述部件照射具有能够透过上述部件的波长的测量光的步骤；基于来自上述部件的正面的反射光和来自上述部件的背面的反射光，来检测反射光的强度分布的步骤；对表示上述强度分布的光谱进行傅里叶变换来计算光程差的步骤；基于上述光程差来决定上述部件的驱动量的步骤；和基于决定出的上述驱动量驱动上述部件的步骤。
-
公开(公告)号：CN110491769B
公开(公告)日：2024-11-08
申请号：CN201910387938.6
申请日：2019-05-10
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/02 , H01L21/67 , H01L21/683 , H01L21/687 , G06F17/14
Abstract: 本发明提供一种能够更准确地驱动部件的部件的驱动方法。本发明提供一种设置于处理室内的部件的驱动方法，其包括：对上述部件照射具有能够透过上述部件的波长的测量光的步骤；基于来自上述部件的正面的反射光和来自上述部件的背面的反射光，来检测反射光的强度分布的步骤；对表示上述强度分布的光谱进行傅里叶变换来计算光程差的步骤；基于上述光程差来决定上述部件的驱动量的步骤；和基于决定出的上述驱动量驱动上述部件的步骤。
-
公开(公告)号：CN111640640B
公开(公告)日：2024-02-20
申请号：CN202010467116.1
申请日：2018-03-22
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01J37/21 , H01J37/305 , H01J37/32 , H01L21/67
Abstract: 本发明涉及一种基板处理装置，其具有聚焦环，该聚焦环包括：设置在处理室内的载置台所载置的基板的附近的内侧聚焦环；设置在上述内侧聚焦环的外侧，通过移动机构而能够上下移动的中央聚焦环；和设置在上述中央聚焦环的外侧的外侧聚焦环。由此，能够维持对基板的面内整体进行的处理的特性，并控制基板的边缘部的处理特性。
-
公开(公告)号：CN111640640A
公开(公告)日：2020-09-08
申请号：CN202010467116.1
申请日：2018-03-22
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01J37/21 , H01J37/305 , H01J37/32 , H01L21/67
Abstract: 本发明涉及一种基板处理装置，其具有聚焦环，该聚焦环包括：设置在处理室内的载置台所载置的基板的附近的内侧聚焦环；设置在上述内侧聚焦环的外侧，通过移动机构而能够上下移动的中央聚焦环；和设置在上述中央聚焦环的外侧的外侧聚焦环。由此，能够维持对基板的面内整体进行的处理的特性，并控制基板的边缘部的处理特性。
-
公开(公告)号：CN108630514B
公开(公告)日：2020-06-26
申请号：CN201810240731.1
申请日：2018-03-22
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明涉及一种基板处理装置，其具有聚焦环，该聚焦环包括：设置在处理室内的载置台所载置的基板的附近的内侧聚焦环；设置在上述内侧聚焦环的外侧，通过移动机构而能够上下移动的中央聚焦环；和设置在上述中央聚焦环的外侧的外侧聚焦环。由此，能够维持对基板的面内整体进行的处理的特性，并控制基板的边缘部的处理特性。
-
-
-
-
-
Search Results
6
records
(took 0.019 seconds)
