双向取向薄膜以及磁记录介质

    公开(公告)号:CN1277868C

    公开(公告)日:2006-10-04

    申请号:CN00801746.8

    申请日:2000-08-24

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种特别是用于磁记录介质时,电磁转换特性、走行耐久性和对磁头的走行性优良的高品质双向取向薄膜。本发明的目的是通过下述双向取向薄膜实现的,其特征在于它由以聚酯(聚合物1)和聚酯以外的热塑性树脂(聚合物2)作为必须成分的聚合物合金构成,至少1个表面具有突起高度为2~50nm的微细突起100万~9000万个/mm2。

    双轴取向聚酯膜及其制备方法

    公开(公告)号:CN1107584C

    公开(公告)日:2003-05-07

    申请号:CN98124521.8

    申请日:1998-10-14

    Abstract: 本发明公开了一种双轴拉伸聚酯膜,在纵向(YmMD)或横向(YmTD)任何一个方向上具有7.0GPa或更高的杨氏模量,和在聚酯骨架链的方向上来自晶体平面的衍射线的圆周半宽是在55°或55°以上到85°或85°以下的范围内,这是通过在聚酯膜沿着其法向旋转的同时由广角X-射线衍射仪所进行的晶体取向分析来测得。该膜在模平面所有方向上具有高硬度,具有高抗撕裂强度,具有高尺寸稳定性,和抗负载变形,和在高密度磁生记录介质的材料而具有非常大的工业意义,可广泛地用作静电电容器、热转移带和热敏模板印刷基纸的材料。

    双轴取向聚酯膜及其制备方法

    公开(公告)号:CN1218738A

    公开(公告)日:1999-06-09

    申请号:CN98124521.8

    申请日:1998-10-14

    Abstract: 本发明公开了一种双轴拉伸聚酯膜,在纵向(YmMD)或横向(YmTD)任何一个方向上具有7.0GPa或更高的杨氏模量,和在聚酯骨架链的方向上来自晶体平面的衍射线的圆周半宽是在55°或55°以上到85°或85°以下的范围内,这是通过在聚酯膜沿着其法向旋转的同时由广角X-射线衍射仪所进行的晶体取向分析来测得。该膜在模平面所有方向上具有高硬度,具有高抗撕裂强度,具有高尺寸稳定性,和抗负载变形,和在高密度磁性记录介质的材料而具有非常大的工业意义,可广泛地用作静电电容器、热转移带和热敏模板印刷基纸的材料。

    聚酯薄膜及其制造方法
    6.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1183199C

    公开(公告)日:2005-01-05

    申请号:CN98108099.5

    申请日:1998-02-26

    Abstract: 一种聚酯薄膜,特征是其由非液晶性聚酯(A)和在该非液晶性聚酯(A)中形成相分离结构的主链上含有内消旋配合基的共聚聚酯(B)所构成,作为该共聚聚酯(B)的分散区形状,要满足下述(1)和(2)式的条件。0.02<(I/J)<50……(1),K<(1/2)×S[I、J]……(2)。式中,I,J,K是表示薄膜中存在的多个分散区的平均形状的形状指数,I是由共聚聚酯(B)构成的分散区的薄膜纵向的、T是横向的、K是厚度方向的平均长度。S是比较I和J的长度,选择短的值的函数。当共聚聚酯(B)采用这类几何形状时,得到刚性,强韧性、热收缩性、透明性、表面特性、长期耐热性、电特性等优良且低聚物含量、热分解凝胶化物含量很少的聚酯薄膜。

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