双轴取向聚酯膜及其制备方法

    公开(公告)号:CN1107584C

    公开(公告)日:2003-05-07

    申请号:CN98124521.8

    申请日:1998-10-14

    Abstract: 本发明公开了一种双轴拉伸聚酯膜,在纵向(YmMD)或横向(YmTD)任何一个方向上具有7.0GPa或更高的杨氏模量,和在聚酯骨架链的方向上来自晶体平面的衍射线的圆周半宽是在55°或55°以上到85°或85°以下的范围内,这是通过在聚酯膜沿着其法向旋转的同时由广角X-射线衍射仪所进行的晶体取向分析来测得。该膜在模平面所有方向上具有高硬度,具有高抗撕裂强度,具有高尺寸稳定性,和抗负载变形,和在高密度磁生记录介质的材料而具有非常大的工业意义,可广泛地用作静电电容器、热转移带和热敏模板印刷基纸的材料。

    双轴取向聚酯膜及其制备方法

    公开(公告)号:CN1218738A

    公开(公告)日:1999-06-09

    申请号:CN98124521.8

    申请日:1998-10-14

    Abstract: 本发明公开了一种双轴拉伸聚酯膜,在纵向(YmMD)或横向(YmTD)任何一个方向上具有7.0GPa或更高的杨氏模量,和在聚酯骨架链的方向上来自晶体平面的衍射线的圆周半宽是在55°或55°以上到85°或85°以下的范围内,这是通过在聚酯膜沿着其法向旋转的同时由广角X-射线衍射仪所进行的晶体取向分析来测得。该膜在模平面所有方向上具有高硬度,具有高抗撕裂强度,具有高尺寸稳定性,和抗负载变形,和在高密度磁性记录介质的材料而具有非常大的工业意义,可广泛地用作静电电容器、热转移带和热敏模板印刷基纸的材料。

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