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公开(公告)号：CN106154752A
公开(公告)日：2016-11-23
申请号：CN201510134144.0
申请日：2015-03-26
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Inventor： 单世宝
Abstract: 本发明公开一种测量装置，用于光刻机工件台位置测量，所述光刻机包括曝光系统和工件台，曝光系统位于主基板上，工件台位于曝光系统下方；其特征在于，所述测量装置包括第一传感器、第二传感器、参考支架和光栅尺；所述第一传感器和第二传感器固定于所述参考支架上；所述光栅尺设置于所述主机板上；所述参考支架带动所述第一传感器和第二传感器与所述工件台同向运动，运动方向为所述第一传感器和第二传感器的测量方向；所述第一传感器测量所述参考支架与工件台之间的位置关系，所述第二传感器结合光栅尺测量所述参考支架相对于主基板的位置，通过两个测量结果得到所述工件台相对于主基板的位置。与现有技术相比较，本发明对空间的要求降低，在正常使用过程中不需要进行传感器切换，可以有效提高测量稳定性。
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公开(公告)号：CN102809346A
公开(公告)日：2012-12-05
申请号：CN201110145374.9
申请日：2011-05-31
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G01B11/00
Abstract: 本发明公开了一种运动平台的位置测量装置，包括用于测量所述运动平台沿第一行程方向的位置信息的第一行程干涉仪和第一行程反射镜，以及用于测量所述运动平台沿第二行程方向的位置信息的第二行程干涉仪和第二行程反射镜，当所述运动平台沿着所述第一行程运动时，所述第二行程反射镜沿着所述运动平台的第一行程方向的反向移动，当所述运动平台沿着所述第二行程运动时，所述第一行程反射镜沿着所述运动平台的第二行程方向的反向移动还公开了一种采用上述的运动平台的位置测量装置的位置测量方法。本发明只需要很短的反射镜就可实现测量运动平台的位置，避免了反射镜过长以致其表面的平整度不容易保证且容易产生弯曲变形的缺陷，提高了测量的精度。
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公开(公告)号：CN101482395B
公开(公告)日：2012-08-29
申请号：CN200910046063.X
申请日：2009-02-10
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G01B11/00
Abstract: 本发明提出一种位置测量装置，用以测量工件台的六自由度位置。该装置沿光路依次包括光源、分光镜组、光开关执行器系统、测量反射镜组和二维位置测量传感器。光源发射出入射光；分光镜组，将该入射光分为沿三个测量光路的光束；光开关执行器系统，电性连接至开关控制器，该开关控制器控制该光开关执行器系统依次开关三个测量光路；测量反射镜组；二维位置测量传感器，接收测量反射镜组反射的三个测量光路的光束。本发明提供的位置测量装置只包含一个二维位置测量传感器，可以显著降低成本。
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公开(公告)号：CN106547170A
公开(公告)日：2017-03-29
申请号：CN201510590322.0
申请日：2015-09-17
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开一种标记对准装置，其特征在于，包括：至少两组对准传感器，该对准传感器包括一广角镜头，该广角镜头的视场范围大于90度；至少一对准标记，该对准标记位于该两组对准传感器的视场重叠区域内。本发明同时公开一种对准方法。
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公开(公告)号：CN103105728B
公开(公告)日：2015-06-17
申请号：CN201110353733.X
申请日：2011-11-10
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F1/66
Abstract: 本发明公开一种用于光刻设备的掩模版库及其掩模版盒存取方法，所述掩模版库的外形呈一圆柱体，所述圆柱体的其中一个端面与侧面的交汇处设置有若干版盒槽，所述版盒槽容纳掩模版盒并提供一掩模版盒存取装置存入或取出掩模版盒。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102866586A
公开(公告)日：2013-01-09
申请号：CN201110187179.2
申请日：2011-07-05
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明提供了一种光刻机设备系统，包括：主基板、投影物镜、上顶板以及承版台，所述投影物镜嵌入所述主基板，所述上顶板设置在所述投影物镜上，所述上顶板设置有通光孔，所述承版台设置在所述上顶板的上方，所述光刻机设备系统中还包括激光干涉仪单元、导光单元以及反射单元，所述激光干涉仪单元设置在所述主基板上，所述激光干涉仪单元发出光束穿过所述通光孔经过所述导光单元到达所述反射单元。本发明还提供了一种光刻机设备系统的测量方法。本发明所提供的光刻机设备系统在结构上省略了支架，通过虚拟的光束行程代替支架的物理高度，实现光束从主基板上表面到达承版台，降低了结构复杂度，改善了现有的内部世界结构。
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公开(公告)号：CN102809346B
公开(公告)日：2014-12-17
申请号：CN201110145374.9
申请日：2011-05-31
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G01B11/00
Abstract: 本发明公开了一种运动平台的位置测量装置，包括用于测量所述运动平台沿第一行程方向的位置信息的第一行程干涉仪和第一行程反射镜，以及用于测量所述运动平台沿第二行程方向的位置信息的第二行程干涉仪和第二行程反射镜，当所述运动平台沿着所述第一行程运动时，所述第二行程反射镜沿着所述运动平台的第一行程方向的反向移动，当所述运动平台沿着所述第二行程运动时，所述第一行程反射镜沿着所述运动平台的第二行程方向的反向移动还公开了一种采用上述的运动平台的位置测量装置的位置测量方法。本发明只需要很短的反射镜就可实现测量运动平台的位置，避免了反射镜过长以致其表面的平整度不容易保证且容易产生弯曲变形的缺陷，提高了测量的精度。
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公开(公告)号：CN102193320B
公开(公告)日：2013-04-10
申请号：CN201010118779.9
申请日：2010-03-05
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明提出一种光刻机对准装置及其对准方法，该装置包括光源，准直镜，待对准的掩模，掩模上的标记，和四象限光强传感器，标记呈近十字形，关于X，Y轴对称，标记在X轴方向的长度H与在Y轴方向的长度L之间具有设定差值，标记的侧面边缘与坐标轴具有设定角度。该对准方法包括：准直镜将光源发出的光准直照射到掩模的标记上；透过标记的准直光束垂直入射到四象限光强传感器上；根据四象限光强传感器的信息计算当前掩模的X轴和Y轴坐标以及绕四象限光强传感器法线方向的旋转角度；反馈给掩模运动系统对掩模进行位置移动和旋转，完成预对准过程。本发明提出的光刻机对准装置及其对准方法，用于光刻机掩模预对准，节约掩模空间，提高掩模利用率。
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公开(公告)号：CN102042804B
公开(公告)日：2012-12-12
申请号：CN200910197102.6
申请日：2009-10-13
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明提出一种激光干涉仪测量装置和方法，所述装置包括：载物台；第一反射镜，位于所述载物台的上方；第二反射镜，固定放置于所述载物台的一侧边；第一激光干涉仪，位于所述第二反射镜的一侧，所述第一激光干涉仪出射的测量光经所述第二反射镜反射后垂直入射所述第一反射镜并沿原路返回；第三反射镜，固定放置于所述载物台的另一侧边；第二激光干涉仪，位于所述第三反射镜的一侧，所述第二激光干涉仪出射的测量光经所述第三反射镜反射后垂直入射所述第一反射镜并沿原路返回。本发明整体结构设计简单，能有效的降低成本，安装方便，降低了系统的复杂度。
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公开(公告)号：CN102243440A
公开(公告)日：2011-11-16
申请号：CN201010170427.8
申请日：2010-05-10
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种能监测硅片台位置精度的光刻机，主要由照明系统、掩模版、掩模台、投影物镜成像系统、整机框架、硅片、硅片台等组成，其中硅片台主要由曝光台、曝光台支架、承片台、长条镜、干涉仪、水平定位台和大理石组成；水平定位台通过气浮与大理石相连，承片台位于水平定位台上，通过曝光台支架支撑曝光台，其特征在于在光刻机的承片台及曝光台支架相应位置安装位置传感器，通过位置传感器得到承片台和水平定位台之间的相对位置信息，从而测量出承片台位置坐标的漂移量，并进行补偿，提高了控制精度。
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