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公开(公告)号：CN103676489A
公开(公告)日：2014-03-26
申请号：CN201210339085.7
申请日：2012-09-14
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 一种用于EUV曝光光刻装置的反射式物镜结构及其制造方法，包括：数据采集，物镜外部结构构建以及物镜外部结构模型修正等步骤。本发明基于多面体结构设计，获得的物镜结构更为简单高效，能够达到更好的动态性能和稳定性。同时也符合主基板整体铸造或焊接成型的加工特性，其组合构成的物镜相比现有结构具有高模态、低质量的性能优势。
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公开(公告)号：CN103293860B
公开(公告)日：2015-04-15
申请号：CN201210041115.6
申请日：2012-02-22
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种磁铁块固定装置以及磁浮重力补偿器中磁铁块的安装方法。所述磁铁块固定装置包括用于固定所述磁铁安装座的基座、以及固定在该基座上面的法兰座，所述法兰座上面安装有固定座和模具；还包括固定片。磁浮重力补偿器中磁铁块的安装方法利用了上述固定装置，在安装时，每排磁铁块分第一和第二部分依次安装在圆筒形的磁铁安装座上，且安装完成后磁铁块分上下多排排布在磁铁安装座的内圆周面上。本发明适用于小尺寸磁铁块的精密定位及安装，尤其适用于轴向设置两排磁铁块的磁浮重力补偿器。
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公开(公告)号：CN104423175A
公开(公告)日：2015-03-18
申请号：CN201310389117.9
申请日：2013-09-02
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明公开一种物镜隔振装置，其特征在于，该物镜隔振装置包括：一第一接口，用于与一物镜连接；一第二接口，用于与一基板连接；一主体件，该主体件位于该第一接口与第二接口之间，该主体件为一中空柱体，该中空柱体的外表面包括一螺旋坡口，该螺旋坡口的两端均为圆角。本发明还同时公开一种对该物镜及物镜隔振装置的结构计算方法。
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公开(公告)号：CN103293860A
公开(公告)日：2013-09-11
申请号：CN201210041115.6
申请日：2012-02-22
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种磁铁块固定装置以及磁浮重力补偿器中磁铁块的安装方法。所述磁铁块固定装置包括用于固定所述磁铁安装座的基座、以及固定在该基座上面的法兰座，所述法兰座上面安装有固定座和模具；还包括固定片。磁浮重力补偿器中磁铁块的安装方法利用了上述固定装置，在安装时，每排磁铁块分第一和第二部分依次安装在圆筒形的磁铁安装座上，且安装完成后磁铁块分上下多排排布在磁铁安装座的内圆周面上。本发明适用于小尺寸磁铁块的精密定位及安装，尤其适用于轴向设置两排磁铁块的磁浮重力补偿器。
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公开(公告)号：CN103676489B
公开(公告)日：2015-09-30
申请号：CN201210339085.7
申请日：2012-09-14
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 一种用于EUV曝光光刻装置的反射式物镜结构及其制造方法，包括：数据采集，物镜外部结构构建以及物镜外部结构模型修正等步骤。本发明基于多面体结构设计，获得的物镜结构更为简单高效，能够达到更好的动态性能和稳定性。同时也符合主基板整体铸造或焊接成型的加工特性，其组合构成的物镜相比现有结构具有高模态、低质量的性能优势。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103324032B
公开(公告)日：2015-07-22
申请号：CN201210078765.8
申请日：2012-03-22
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 一种多面体主基板，用于安装支撑装置、测量装置和镜筒装置，所述主基板上开设有至少一个工位，所述主基板的外表面是由所述支撑装置、测量装置、镜筒装置的安装区域的多边形包络面所限定，并由若干其他平面按凸包规则连接构成的凸多面体。本发明基于多面体结构设计，获得的主基板整体结构更为简单高效，能够达到更好的动态性能和稳定性。同时也符合主基板整体铸造的加工特性，其组合构成的主基板相比现有结构具有高模态、低质量的性能优势。
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公开(公告)号：CN103472678A
公开(公告)日：2013-12-25
申请号：CN201210189355.0
申请日：2012-06-08
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种光刻机，包括：掩模台、投影物镜、照明系统、测量框架、基础框架以及工件台系统，照明系统将掩模版上的图像经过投影物镜投射在硅片或基版上，掩模台安装于测量框架上，掩模台的反作用力通过掩模台反力支架外引至基础框架上，测量框架通过测量框架减振器安装于基础框架上，工件台系统包括用于工件台、工件台减振器、工件台反力外引结构以及工件台安装底座，工件台通过工件台减振器安装于工件台安装底座上，工件台安装底座可拆卸的安装于基础框架上，工件台采用工件台反力外引结构将工件台的反作用力外引至基础框架。本发明可有效隔离基础框架和工件台之间的相互影响，能简化结构并可以便于实现工件台的安装和维护。
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公开(公告)号：CN102455601B
公开(公告)日：2013-12-18
申请号：CN201010530540.2
申请日：2010-11-03
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Inventor： 陈文枢
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提出一种四自由度精密定位装置，用于将被驱动部件相对于基座进行调整和定位。四自由度精密定位装置包括支撑单元、驱动单元和调节单元。支撑单元包括与基座连接的支撑座和设置在支撑座上方并与支撑座连接的连接头，通过支撑座固定在基座上。驱动单元包括垂向电机组和Rz向电机组，用于驱动被驱动部件。调节单元固定连接连接头和被驱动部件，在X、Y向上具有较大的刚性，在Z、Rx、Ry方向上具有柔性，用于与驱动单元配合使用实现精确定位。所述四自由度精密定位装置具有结构紧凑，质量较轻，垂向重心较低的优点，同时四自由度精密定位装置采用球铰和簧片的结构，实现运动平台Z、Rx、Ry、Rz四自由度运动，具有结构简单、成本低的优点。
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公开(公告)号：CN104423175B
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：CN201310389117.9
申请日：2013-09-02
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明公开一种物镜隔振装置，其特征在于，该物镜隔振装置包括：一第一接口，用于与一物镜连接；一第二接口，用于与一基板连接；一主体件，该主体件位于该第一接口与第二接口之间，该主体件为一中空柱体，该中空柱体的外表面包括一螺旋坡口，该螺旋坡口的两端均为圆角。本发明还同时公开一种对该物镜及物镜隔振装置的结构计算方法。
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公开(公告)号：CN102455601A
公开(公告)日：2012-05-16
申请号：CN201010530540.2
申请日：2010-11-03
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Inventor： 陈文枢
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提出一种四自由度精密定位装置，用于将被驱动部件相对于基座进行调整和定位。四自由度精密定位装置包括支撑单元、驱动单元和调节单元。支撑单元包括与基座连接的支撑座和设置在支撑座上方并与支撑座连接的连接头，通过支撑座固定在基座上。驱动单元包括垂向电机组和Rz向电机组，用于驱动被驱动部件。调节单元固定连接连接头和被驱动部件，在X、Y向上具有较大的刚性，在Z、Rx、Ry方向上具有柔性，用于与驱动单元配合使用实现精确定位。所述四自由度精密定位装置具有结构紧凑，质量较轻，垂向重心较低的优点，同时四自由度精密定位装置采用球铰和簧片的结构，实现运动平台Z、Rx、Ry、Rz四自由度运动，具有结构简单、成本低的优点。
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