公开(公告)号：CN102683243B

公开(公告)日：2016-01-06

申请号：CN201210059156.8

申请日：2012-03-05

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社 ,  斯克林集团公司

Inventor： 东友之 ,  山田健二 ,  荒木浩之 ,  安藤幸嗣

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02 ,  B08B3/08

CPC classification number: H01L21/67075 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/67167 ,  H01L21/67253

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，具有：第一处理室以及第二处理室；在所述第一处理室保持基板的第一基板保持单元；向所述第一基板保持单元所保持的基板供给含有蚀刻成分和增稠剂的药液的药液供给单元；在所述基板保持有所述药液的状态下，将该基板从所述第一处理室搬运到所述第二处理室的基板搬运单元；以及在所述第二处理室，对保持有所述药液的多张基板进行保持的第二基板保持单元。

公开(公告)号：CN102683243A

公开(公告)日：2012-09-19

申请号：CN201210059156.8

申请日：2012-03-05

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社 ,  大日本网屏制造株式会社

Inventor： 东友之 ,  山田健二 ,  荒木浩之 ,  安藤幸嗣

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02 ,  B08B3/08

CPC classification number: H01L21/67075 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/67167 ,  H01L21/67253

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，具有：第一处理室以及第二处理室；在所述第一处理室保持基板的第一基板保持单元；向所述第一基板保持单元所保持的基板供给含有蚀刻成分和增稠剂的药液的药液供给单元；在所述基板保持有所述药液的状态下，将该基板从所述第一处理室搬运到所述第二处理室的基板搬运单元；以及在所述第二处理室，对保持有所述药液的多张基板进行保持的第二基板保持单元。

公开(公告)号：CN104662644B

公开(公告)日：2018-11-27

申请号：CN201380047457.1

申请日：2013-09-26

Applicant: 斯克林集团公司

Inventor： 宫城雅宏 ,  荒木浩之 ,  铃木政典 ,  佐藤朋且 ,  川濑信雄

IPC: H01L21/304 ,  B08B3/02 ,  G21K5/00 ,  G21K5/02 ,  G21K5/10 ,  H05F1/00 ,  H05F3/06 ,  B01J4/00 ,  B05C11/08 ,  B05C11/10

Abstract: 本发明的处理液供给装置(100)用于从喷出口(53)喷出处理液，来将该处理液供给至处理对象物(W)，包括：第一管(51)，能够使处理液在内部流动，该第一管的内部与所述喷出口(53)相连通；X射线照射单元(62)，用于向在所述第一管(51)内存在的处理液照射X射线。所述第一管(51)的管壁上具有开口(52)，所述开口(52)被窗构件(71)堵塞，所述窗构件(71)由能够使X射线透过的材料形成，所述X射线照射单元(62)，经由所述窗构件(71)向在所述第一管(51)内存在的处理液照射X射线。

公开(公告)号：CN103364478B

公开(公告)日：2016-03-16

申请号：CN201310055320.2

申请日：2013-02-21

Applicant: 斯克林集团公司

Inventor： 高桥朋宏 ,  荒木浩之

IPC: G01N27/60 ,  G01N1/28

Abstract: 本发明的基板处理装置，包括：循环路，包括贮存磷酸水溶液的处理槽、输送磷酸水溶液的循环泵、对磷酸水溶液进行加热的循环用加热器、对磷酸水溶液进行过滤的过滤器，使从处理槽排出的磷酸水溶液依次流过循环泵、循环用加热器、过滤器，并且使磷酸水溶液从过滤器返回上述处理槽中；分支管，在循环用加热器与过滤器之间从循环路分支，从循环路中提取磷酸水溶液；浓度测定部，与分支管相连通连接，通过电位差测定法测定磷酸水溶液中的硅浓度。

公开(公告)号：CN104662644A

公开(公告)日：2015-05-27

申请号：CN201380047457.1

申请日：2013-09-26

Applicant: 斯克林集团公司

Inventor： 宫城雅宏 ,  荒木浩之 ,  铃木政典 ,  佐藤朋且 ,  川濑信雄

IPC: H01L21/304 ,  B08B3/02 ,  G21K5/00 ,  G21K5/02 ,  G21K5/10 ,  H05F1/00 ,  H05F3/06 ,  B01J4/00 ,  B05C11/08 ,  B05C11/10

CPC classification number: G03F1/82 ,  G21K5/10 ,  H01L51/0004 ,  H01L21/02052 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67057 ,  H01L21/6776

Abstract: 本发明的处理液供给装置(100)用于从喷出口(53)喷出处理液，来将该处理液供给至处理对象物(W)，包括：第一管(51)，能够使处理液在内部流动，该第一管的内部与所述喷出口(53)相连通；X射线照射单元(62)，用于向在所述第一管(51)内存在的处理液照射X射线。所述第一管(51)的管壁上具有开口(52)，所述开口(52)被窗构件(71)堵塞，所述窗构件(71)由能够使X射线透过的材料形成，所述X射线照射单元(62)，经由所述窗构件(71)向在所述第一管(51)内存在的处理液照射X射线。