公开(公告)号：CN102683243B

公开(公告)日：2016-01-06

申请号：CN201210059156.8

申请日：2012-03-05

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社 ,  斯克林集团公司

Inventor： 东友之 ,  山田健二 ,  荒木浩之 ,  安藤幸嗣

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02 ,  B08B3/08

CPC classification number: H01L21/67075 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/67167 ,  H01L21/67253

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，具有：第一处理室以及第二处理室；在所述第一处理室保持基板的第一基板保持单元；向所述第一基板保持单元所保持的基板供给含有蚀刻成分和增稠剂的药液的药液供给单元；在所述基板保持有所述药液的状态下，将该基板从所述第一处理室搬运到所述第二处理室的基板搬运单元；以及在所述第二处理室，对保持有所述药液的多张基板进行保持的第二基板保持单元。

公开(公告)号：CN102683243A

公开(公告)日：2012-09-19

申请号：CN201210059156.8

申请日：2012-03-05

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社 ,  大日本网屏制造株式会社

Inventor： 东友之 ,  山田健二 ,  荒木浩之 ,  安藤幸嗣

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02 ,  B08B3/08

CPC classification number: H01L21/67075 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/67167 ,  H01L21/67253

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，具有：第一处理室以及第二处理室；在所述第一处理室保持基板的第一基板保持单元；向所述第一基板保持单元所保持的基板供给含有蚀刻成分和增稠剂的药液的药液供给单元；在所述基板保持有所述药液的状态下，将该基板从所述第一处理室搬运到所述第二处理室的基板搬运单元；以及在所述第二处理室，对保持有所述药液的多张基板进行保持的第二基板保持单元。