公开(公告)号：CN1261826C

公开(公告)日：2006-06-28

申请号：CN03802089.0

申请日：2003-01-09

Applicant: AZ电子材料(日本)株式会社

Inventor： 吴世泰 ,  姜德万 ,  崔景洙

IPC: G03F7/32

CPC classification number: C11D7/264 ,  C11D3/3707 ,  C11D7/263 ,  C11D7/3263 ,  C11D7/3281 ,  C11D11/0047 ,  G03F7/168

Abstract: 本发明涉及一种用于清洗光刻胶的组合物并提供一种清洗组合物，其中，含颜料的负性光刻胶在经清洗、温和烘干、曝光和显影之后，在所述清洗区域与未清洗区域之间的边界面上不存在所述光刻胶残余物。本发明提供一种用于清洗正性或负性光刻胶的组合物，包括：(a)0.1-20wt%的分子量为50-2000的烷基醚聚合物；和(b)80-99.9wt%的一种有机溶剂，包括(b-1)1-20重量份的二丙二醇甲基醚(DPGME)、10-50重量份的N-甲基吡咯烷酮(NMP)和50-90重量份的甲基异丁基酮(MIBK)，或(b-2)10-90重量份的二甲基甲酰胺(DMF)或二甲基乙酰胺(DMAc)和10-50重量份的正丁基乙酸酯。