公开(公告)号：CN1777842A

公开(公告)日：2006-05-24

申请号：CN200480010756.9

申请日：2004-04-23

Applicant: AZ电子材料(日本)株式会社

Inventor： 姜德万 ,  吴世泰 ,  权赫重 ,  内藤荣治

IPC: G03F7/42

CPC classification number: G03F7/0226 ,  G03F7/0048

Abstract: 本发明提供了一种包含苯甲醇或其衍生物作为有机溶剂的抗蚀剂组合物。本发明还提供了一种用于除去抗蚀剂的有机溶剂，其中该有机溶剂包含苯甲醇或其衍生物。利用由UV射线辐射的辐射部分和非辐射部分之间的溶解度差异，本发明的抗蚀剂组合物被应用于形成微图案的平版印刷工艺中在涂布薄膜的时候极大地改进薄膜厚度的均匀度。此外，通过从装置上除去光敏材料，根据本发明的有机溶剂可以用来清洗在微电路形成过程中与光敏材料接触的装置。其还可以除去残留在光敏材料所涂布的基底的不希望部分上的光敏材料。

公开(公告)号：CN100541338C

公开(公告)日：2009-09-16

申请号：CN200480010756.9

申请日：2004-04-23

Applicant: AZ电子材料(日本)株式会社

Inventor： 姜德万 ,  吴世泰 ,  权赫重 ,  内藤荣治

IPC: G03F7/42

CPC classification number: G03F7/0226 ,  G03F7/0048

Abstract: 本发明提供了一种包含苯甲醇或其衍生物作为有机溶剂的抗蚀剂组合物。本发明还提供了一种用于除去抗蚀剂的有机溶剂，其中该有机溶剂包含苯甲醇或其衍生物。利用由UV射线辐射的辐射部分和非辐射部分之间的溶解度差异，本发明的抗蚀剂组合物被应用于形成微图案的平版印刷工艺中在涂布薄膜的时候极大地改进薄膜厚度的均匀度。此外，通过从装置上除去光敏材料，根据本发明的有机溶剂可以用来清洗在微电路形成过程中与光敏材料接触的装置。其还可以除去残留在光敏材料所涂布的基底的不希望部分上的光敏材料。