公开(公告)号：CN103019050A

公开(公告)日：2013-04-03

申请号：CN201210357232.3

申请日：2012-09-24

Applicant: 三星电子株式会社 ,  株式会社东进世美肯

Inventor： 尹孝镇 ,  辛成健 ,  李孝善 ,  金柄郁 ,  金贤友 ,  尹锡壹 ,  权五焕

IPC: G03F7/42 ,  B05C11/10 ,  B05C11/11

CPC classification number: G03F7/168 ,  C11D11/0047

Abstract: 本发明涉及RRC过程和EBR过程用的稀释剂组合物、及供应前者的设备。所述RRC(减胶涂覆)过程用的稀释剂组合物包括乳酸烷基酯、环己酮和乙酸烷基酯，其中所述乙酸烷基酯的烷基取代基为C1-C5非基于醚的烷基。

公开(公告)号：CN103019050B

公开(公告)日：2018-01-05

申请号：CN201210357232.3

申请日：2012-09-24

Applicant: 三星电子株式会社 ,  株式会社东进世美肯

Inventor： 尹孝镇 ,  辛成健 ,  李孝善 ,  金柄郁 ,  金贤友 ,  尹锡壹 ,  权五焕

IPC: G03F7/42 ,  B05C11/10 ,  B05C11/11

CPC classification number: G03F7/168 ,  C11D11/0047

Abstract: 本发明涉及RRC过程和EBR过程用的稀释剂组合物、及供应前者的设备。所述RRC(减胶涂覆)过程用的稀释剂组合物包括乳酸烷基酯、环己酮和乙酸烷基酯，其中所述乙酸烷基酯的烷基取代基为C1‑C5非基于醚的烷基。

公开(公告)号：CN104597728B

公开(公告)日：2020-05-01

申请号：CN201410592323.4

申请日：2014-10-29

Applicant: 三星显示有限公司 ,  株式会社东进世美肯

Inventor： 金善一 ,  朴弘植 ,  金俸均 ,  金柄郁 ,  朴善周 ,  尹锡壹 ,  赵泰杓 ,  许舜范

IPC: G03F7/42

Abstract: 本发明提供一种剥离液及利用该剥离液的显示装置制造方法，该剥离液包含非质子性极性溶剂、胺类化合物及质子性极性溶剂。以剥离液的总重量为基准，所述剥离液可以包含1～90重量部的所述非质子性极性溶剂、1～10重量部的所述胺类化合物以及1～30重量部的所述质子性极性溶剂。利用所述剥离液能够在短时间剥离光刻胶，且能够减少线路及彩色滤光器等所遭受的损伤。

公开(公告)号：CN103631103B

公开(公告)日：2019-07-19

申请号：CN201310363319.6

申请日：2013-08-20

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 许舜范 ,  金炳郁 ,  赵泰杓 ,  尹锡壹 ,  郑世桓 ,  张斗瑛 ,  朴善周

IPC: G03F7/42

Abstract: 本发明涉及一种可以替代以往常用的对人体有害的NMP等溶剂类，并包含剥离能力优秀的N,N‑二甲基丙酰胺的光致抗蚀剂剥离液组合物。

公开(公告)号：CN104597728A

公开(公告)日：2015-05-06

申请号：CN201410592323.4

申请日：2014-10-29

Applicant: 三星显示有限公司 ,  株式会社东进世美肯

Inventor： 金善一 ,  朴弘植 ,  金俸均 ,  金柄郁 ,  朴善周 ,  尹锡壹 ,  赵泰杓 ,  许舜范

IPC: G03F7/42

Abstract: 本发明提供一种剥离液及利用该剥离液的显示装置制造方法，该剥离液包含非质子性极性溶剂、胺类化合物及质子性极性溶剂。以剥离液的总重量为基准，所述剥离液可以包含1～90重量部的所述非质子性极性溶剂、1～10重量部的所述胺类化合物以及1～30重量部的所述质子性极性溶剂。利用所述剥离液能够在短时间剥离光刻胶，且能够减少线路及彩色滤光器等所遭受的损伤。

公开(公告)号：CN102161942B

公开(公告)日：2014-12-31

申请号：CN201110041801.9

申请日：2011-02-18

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 金柄郁 ,  尹锡壹 ,  郑宗铉 ,  许舜范 ,  辛成健 ,  郑世桓 ,  张斗瑛 ,  朴善周 ,  权五焕

IPC: C11D7/32 ,  H01L51/56

Abstract: 本发明涉及包含N-甲基-2-吡咯烷酮以及1，3-二甲基-2-咪唑啉酮(1，3-Dimethyl-2-imidazolidinone)的沉积材料洗涤液组合物及利用该组合物的洗涤方法。若使用所述组合物，则能够迅速去除附着在光电设备制造装置上的沉积材料，从而可缩短制造工艺时间，其降低生产费用，确保工艺安全性。

公开(公告)号：CN101000467B

公开(公告)日：2012-07-04

申请号：CN200710000702.X

申请日：2007-01-10

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 尹锡壹 ,  金圣培 ,  郑宗铉 ,  许舜范 ,  金柄郁

IPC: G03F7/42

Abstract: 本发明涉及一种抗蚀剂剥离剂组合物，尤其涉及一种含有内酯类化合物，而且对图形化金属膜上所残留的抗蚀剂具有优秀的剥离效果，并在高温下，其因挥发而引起的成分变化及药液疲劳度极小，且能将对图形化金属膜的腐蚀降到最低。

公开(公告)号：CN101373343B

公开(公告)日：2012-05-23

申请号：CN200810210852.8

申请日：2008-08-20

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 金柄郁 ,  尹锡壹 ,  金圣培 ,  郑宗铉 ,  许舜范 ,  辛成健 ,  郑世桓 ,  张斗瑛

IPC: G03F7/42

Abstract: 本发明涉及一种为了回收使用薄膜晶体管液晶显示器的滤色器形成工艺中产生的不良基板，而用于去除彩色光阻剂图案及涂层的彩色光阻剂剥离溶液组合物，具体涉及一种包含1-20重量％的选自无机碱氢氧化物、氢氧化铵、具有C1-C4烷基的烷基氢氧化铵或具有C1-C4烷基的苯烷基氢氧化铵中的氢氧化物；1-70重量％的选自具有C1-C4烷基的烷撑二醇醚或烷撑二醇中的至少一种化合物；0.5-10重量％的羟胺；0.5-50重量％的烷氧基烷基胺；以及余量水的彩色光阻剂剥离溶液组合物。本发明的组合物可以在短时间内去除彩色光阻剂和涂层，从而可以回收使用以往技术中由于难以去除彩色光阻剂图案而大部分被废弃的滤色器基板。

公开(公告)号：CN101030046B

公开(公告)日：2011-08-24

申请号：CN200710086161.7

申请日：2007-03-05

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 李骐范 ,  金柄郁 ,  朴美仙 ,  洪振燮 ,  任润吉 ,  尹锡壹

IPC: G03F7/42 ,  G03F7/26 ,  H01L21/027 ,  C02F9/10 ,  C02F1/66 ,  C02F1/58 ,  C02F1/04

Abstract: 本发明提供一种抗蚀剂剥离废液再生方法和再生装置，其特别适于经济性较好地对使用含各种专门的胺化合物的剥离液的剥离工序时以及使用各种抗蚀剂和剥离液时所产生的抗蚀剂剥离废液进行再生。所述再生装置适用于该再生方法。本发明所述的再生方法是对含有水、抗蚀剂、胺化合物、有机溶剂的抗蚀剂剥离废液进行再生的方法，该方法的特征在于，其含有：(a)添加酸的工序，所述酸与抗蚀剂剥离废液的胺化合物发生反应而使得胺化合物以胺-酸化合物的形式从剥离废液中析出；(b)将上述(a)工序中析出的胺-酸化合物从剥离废液中滤出的工序；和(c)对上述(b)工序中除去胺的剥离废液进行分别蒸馏而仅获取有机溶剂的工序。

公开(公告)号：CN1577112B

公开(公告)日：2011-08-17

申请号：CN200410062400.1

申请日：2004-07-09

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 尹锡壹 ,  金圣培

IPC: G03F7/42

Abstract: 本发明涉及一种去除TFT-LCD制造工艺中彩色抗蚀剂的剥离组合物，更特别地涉及一种剥离组合物，该剥离组合物在滤色器工艺期间选择性除去质量差的衬底的彩色抗蚀剂，因此能够重复使用衬底。本发明的剥离组合物具有经济的优点，由于它能够实现滤色器衬底的循环使用，而先前该衬底由于彩色抗蚀剂图案难以脱除而被浪费。