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公开(公告)号：CN101030046B
公开(公告)日：2011-08-24
申请号：CN200710086161.7
申请日：2007-03-05
Applicant: 株式会社东进世美肯
Abstract: 本发明提供一种抗蚀剂剥离废液再生方法和再生装置，其特别适于经济性较好地对使用含各种专门的胺化合物的剥离液的剥离工序时以及使用各种抗蚀剂和剥离液时所产生的抗蚀剂剥离废液进行再生。所述再生装置适用于该再生方法。本发明所述的再生方法是对含有水、抗蚀剂、胺化合物、有机溶剂的抗蚀剂剥离废液进行再生的方法，该方法的特征在于，其含有：(a)添加酸的工序，所述酸与抗蚀剂剥离废液的胺化合物发生反应而使得胺化合物以胺-酸化合物的形式从剥离废液中析出；(b)将上述(a)工序中析出的胺-酸化合物从剥离废液中滤出的工序；和(c)对上述(b)工序中除去胺的剥离废液进行分别蒸馏而仅获取有机溶剂的工序。
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公开(公告)号：CN101384948A
公开(公告)日：2009-03-11
申请号：CN200780005749.3
申请日：2007-02-15
Applicant: 株式会社东进世美肯
IPC: G02F1/13
Abstract: 一种用于测试平板显示器的系统，该平板显示器具有平面显示板组件，该系统包括：测试平台，其用于布置平面显示板组件；测量装置，其被配置在测试平台上并用于测量来自光源并穿过平面显示板组件的测量区域的透射光的光谱；传送装置，其用于使测量装置在测试平台上以等加速度移动；以及缺陷报告装置，其被电连接到测量装置并用于通过处理从测量装置传输的光谱的电信号来报告缺陷的存在、缺陷类型以及缺陷的严重程度。
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公开(公告)号：CN101384948B
公开(公告)日：2011-05-18
申请号：CN200780005749.3
申请日：2007-02-15
Applicant: 株式会社东进世美肯
IPC: G02F1/13
Abstract: 一种用于测试平板显示器的系统，该平板显示器具有平面显示板组件，该系统包括：测试平台，其用于布置平面显示板组件；测量装置，其被配置在测试平台上并用于测量来自光源并穿过平面显示板组件的测量区域的透射光的光谱；传送装置，其用于使测量装置在测试平台上以等加速度移动；以及缺陷报告装置，其被电连接到测量装置并用于通过处理从测量装置传输的光谱的电信号来报告缺陷的存在、缺陷类型以及缺陷的严重程度。
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公开(公告)号：CN102901713A
公开(公告)日：2013-01-30
申请号：CN201210244572.5
申请日：2012-07-13
Applicant: 株式会社东进世美肯
IPC: G01N21/35
Abstract: 本发明提供一种铜膜蚀刻工序控制方法及铜膜蚀刻液组合物的再生方法。本发明提供的利用近红外分光仪的铜膜蚀刻工序控制方法，包括：(a)步骤，利用近红外分光仪，同时分析液晶显示装置或半导体装置制造工序中的铜膜蚀刻工序所用的铜膜蚀刻液组合物的至少1种成份的浓度及铜膜蚀刻液组合物中的铜离子浓度；(b)步骤，把所述成份分析结果与基准值进行对比，判别铜膜蚀刻液组合物的寿命；以及(c)步骤，判别所述铜膜蚀刻液组合物的寿命的结果，在铜膜蚀刻液组合物的寿命耗尽的情况下，更换使用中的铜膜蚀刻液组合物，在铜膜蚀刻液组合物的寿命未耗尽的情况下，把铜膜蚀刻液组合物移送到下一铜膜蚀刻工序。
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公开(公告)号：CN101030047B
公开(公告)日：2011-08-24
申请号：CN200710086162.1
申请日：2007-03-05
Applicant: 株式会社东进世美肯
Abstract: 本发明提供一种抗蚀剂剥离废液再生方法和再生装置，所述再生方法和再生装置特别适于经济性较好地对使用含有各种专门的胺化合物的剥离液的剥离工序时以及使用各种抗蚀剂和剥离液时所产生的抗蚀剂剥离废液进行再生。本发明的再生装置适用于该再生方法。本发明的抗蚀剂剥离废液的再生方法是对含有水、抗蚀剂、胺化合物、有机溶剂的抗蚀剂剥离废液进行再生的方法，该方法的特征在于，其含有：(a)添加酸的工序，所述酸与抗蚀剂剥离废液的胺化合物发生反应而使得胺化合物形成在有机溶剂蒸馏时不被蒸馏的胺-酸化合物；和(b)对上述(a)工序的反应产物进行分别蒸馏而仅获取有机溶剂的工序。
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